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標(biāo)簽 > euv光刻機
極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機,于2019年初交貨。
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EUV 光刻技術(shù)被視為先進半導(dǎo)體制造的最大瓶頸,但這些價值超過 1.5 億美元的工具是沒有光掩模的paperweights。一個恰當(dāng)?shù)谋扔魇?,光掩??梢?..
JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一,其產(chǎn)品是制造先進芯片必不可少的原料。
ASML發(fā)貨第二臺High NA EUV光刻機,已成功印刷10nm線寬圖案
ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺High NA EUV光刻機,并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標(biāo)志著半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的技術(shù)革新向前邁進了一大步。
荷蘭實施半導(dǎo)體出口管制 ASML***DUV系統(tǒng)需要許可證
荷蘭實施半導(dǎo)體出口管制 ASML光刻機DUV系統(tǒng)需要許可證 芯片戰(zhàn)愈演愈烈。荷蘭正式實施半導(dǎo)體出口管制條款,這將對光刻機巨頭阿斯麥(ASML)產(chǎn)生更多影...
淺談EUV光刻的基礎(chǔ)知識 EUV光刻如何制造芯片?
大多數(shù)人沒有意識到芯片制造是國家經(jīng)濟的核心。通過閱讀您的書,EUV 的開發(fā)過程始于美國的英特爾,然后完全脫離了英特爾。一家荷蘭公司如何擁有這項關(guān)鍵的芯片...
Zyvex Labs如何實現(xiàn)0.768nm分辨率
技術(shù)更先進,還能更快交付?于是一時間流言四起,有說“EUV光刻機已落后”的,也有說“我們差距又拉開了”。所以這家名不見經(jīng)傳的公司做的產(chǎn)品到底怎樣?真的繞...
2022-09-27 標(biāo)簽:分辨率光學(xué)系統(tǒng)EUV光刻機 1140 0
2023開年到現(xiàn)在,全球晶圓代工業(yè)不見了過去3年的光輝,走入了低谷,整體表現(xiàn)萎靡不振,特別是上半年,霸主臺積電的營收同樣下滑明顯,三星電子則更加慘淡。
IMEC和ASML研發(fā)低至1nm工藝的高分辨率EUV光刻技術(shù)
摩爾定律還沒有結(jié)束。日媒報道,由于新型冠狀病毒的傳播,近期日本ITF于11月18日在日本東京舉行了網(wǎng)上發(fā)布會。 IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Va...
近日,光刻機巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息,這令業(yè)界嘩然。據(jù)悉,荷蘭政府為阻止這一可能發(fā)生的變故,已專門成立了由首相...
郭明錤:蘋果高通3nm需求低于預(yù)期,ASML EUV訂單恐下調(diào)30%
郭明錤表示,最新調(diào)查指出,ASML可能顯著下調(diào)2024年EUV光刻機出貨量20%~30%,原因在于蘋果與高通的3nm芯片需求低于預(yù)期。目前Macbook...
對于科技企業(yè)來說,擁有充足的資金,才可以保證強勁的創(chuàng)新,而臺積電也自然明白這個道理。
Aston 過程質(zhì)譜應(yīng)用于 EUV 極紫外光源鹵化錫原位定量
上海伯東日本 Atonarp Aston? 過程質(zhì)譜分析儀通過快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數(shù)據(jù)實現(xiàn)了更佳的反射板鍍錫層清潔, 并且 Aston?...
日本與英特爾合建半導(dǎo)體研發(fā)中心,將配備EUV光刻機
英特爾將在日本設(shè)立先進半導(dǎo)體研發(fā)中心,配備EUV光刻設(shè)備,支持日本半導(dǎo)體設(shè)備和材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展,增強本土研發(fā)能力。 據(jù)日經(jīng)亞洲(Nikkei Asia)9月...
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