完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>
電子發(fā)燒友網(wǎng)技術(shù)文庫為您提供最新技術(shù)文章,最實(shí)用的電子技術(shù)文章,是您了解電子技術(shù)動(dòng)態(tài)的最佳平臺(tái)。
多數(shù)工廠的PFMEA的原因?yàn)椤斑`規(guī)作業(yè),未按作業(yè)指導(dǎo)書作業(yè),新員工,操作失誤,沒有培訓(xùn),員工技能不足,原材料不良,設(shè)備損壞等”。...
氧化鋁有許多同質(zhì)異晶體,例如α-Al2o3、β-Al2o3、γ-Al2o3等,其中以α-Al2o3的穩(wěn)定性較高,其晶體結(jié)構(gòu)緊密、物理性能與化學(xué)性能穩(wěn)定,具有密度與機(jī)械強(qiáng)度較高的優(yōu)勢,在工業(yè)中的應(yīng)用也較多。...
Infineon芯片是一種多集成的無線基帶SoC芯片。功能(GPS、調(diào)頻收音機(jī)、BT.)同樣的eWLB產(chǎn)品也有自2010年以來,諾基亞一直在生產(chǎn)手機(jī)。...
與SoC相反,Chiplet是將一塊原本復(fù)雜的SoC芯片,從設(shè)計(jì)時(shí)就先按照不同的計(jì)算單元或功能單元對其進(jìn)行分解,然后每個(gè)單元選擇最適合的半導(dǎo)體制程工藝進(jìn)行分別制造,再通過先進(jìn)封裝技術(shù)將各個(gè)單元彼此互聯(lián),最終集成封裝為一個(gè)系統(tǒng)級芯片組。...
CSP封裝(Chip Scale Package)是指芯片級封裝,其封裝尺寸和芯片核心尺寸基本相同,一般芯片面積與封裝面積的比例約在1:1.1。CSP封裝最先規(guī)模應(yīng)用在消費(fèi)電子和個(gè)人電腦,與我們的生活息息相關(guān)。...
通過模具并在壓力和溫度的作用下將裸露的芯片用環(huán)氧樹脂塑封料封裝保護(hù)起來,為芯片與其它電子元器件提供互聯(lián)。簡單說就是給芯片加一個(gè)外殼。...
Lge(無線基帶)、Samsung(基帶調(diào)制解調(diào)器)和Nokia(基帶調(diào)制解調(diào)器和射頻收發(fā)器)使用了Infineon的eWLB他們的手機(jī)產(chǎn)品。...
hiplet 和 3D 封裝面臨多重挑戰(zhàn)。多小芯片設(shè)計(jì)工具、熱管理、中介層選擇、互連方法,例如硅通孔 (TSV)、倒裝芯片、混合鍵合、凸塊和測試,尤其是單個(gè)小芯片和中間組裝階段。...
系統(tǒng)級封裝 (SiP) 是一種用于將多個(gè)集成電路 (IC) 和無源元件捆綁到一個(gè)封裝中的方法,它們在該封裝下協(xié)同工作。這與片上系統(tǒng) (SoC) 形成對比,而這些芯片上的功能集成到同一芯片中。...
引線鍵合:特點(diǎn) ●批量、自動(dòng); ●鍵合參數(shù)可精密控制,導(dǎo)線機(jī)械性能重復(fù)性高, ●高速焊接: 100- 125ms/互連...
晶圓切割時(shí),經(jīng)常遇到較窄跡道(street)寬度,要求將每一次切割放在跡道中心幾微米范圍內(nèi)的能力。這就要求使用具有高分度軸精度、高光學(xué)放大和先進(jìn)對準(zhǔn)運(yùn)算的設(shè)備。...
從設(shè)備上區(qū)分有:金剛石劃片和激光劃片兩種。由于激光劃片設(shè)備昂貴,金剛石劃片是目前較為流行的。...
隨著傳統(tǒng)平面晶體管的尺寸縮小,器件物理學(xué)家稱為短溝道效應(yīng)的器件占據(jù)了中心位置。總的來說,由于源極和漏極之間的距離變得非常小,電流會(huì)在不應(yīng)該泄漏的時(shí)候漏過溝道,因?yàn)闁烹姌O會(huì)千方百計(jì)耗盡溝道中的電荷載流子。...
氧化鋁有許多同質(zhì)異晶體,例如α-Al2o3、β-Al2o3、γ-Al2o3等,其中以α-Al2o3的穩(wěn)定性較高,其晶體結(jié)構(gòu)緊密、物理性能與化學(xué)性能穩(wěn)定,具有密度與機(jī)械強(qiáng)度較高的優(yōu)勢,在工業(yè)中的應(yīng)用也較多。...
IC載板即封裝基板,是芯片封裝環(huán)節(jié)不可或缺的一部分。IC載板具有高密度、高精度、高性能、小型化及薄型化等特點(diǎn),主要功能為搭載芯片,為芯片提供支撐、散熱和保護(hù)作用。...
DUV是深紫外線(Deep Ultraviolet Lithography),EUV是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithography)。前者采用極紫外光刻技術(shù),后者采用深紫外光刻技術(shù)。...
金屬蝕刻是一種通過化學(xué)反應(yīng)或物理沖擊去除金屬材料的技術(shù)。金屬蝕刻技術(shù)可分為濕蝕刻和干蝕刻。金屬蝕刻由一系列化學(xué)過程組成。不同的蝕刻劑對不同的金屬材料具有不同的腐蝕特性和強(qiáng)度。...