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光刻機(jī)的先進(jìn)程度決定了能夠?qū)崿F(xiàn)的最小晶體管尺寸和間距，進(jìn)而決定了芯片的集成度上限，光刻機(jī)的技術(shù)進(jìn)步推動著半導(dǎo)體
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