近日，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）公司2019年的年報中披露了關于下一代EUV極紫光刻機的研發(fā)進程，預計2022年年初開始出貨，2024年實現(xiàn)大規(guī)模生產。

新一代EUV光刻機分辨率提升70％

據(jù)悉，新一代EUV光刻機EXE：5000系列，NA（數(shù)值孔徑）為0．55，NA大小則代表了光刻機的精度高低，NA數(shù)值越大，光刻機精度更高。

現(xiàn)在ASML生產的EUV光刻機都是第一代產品，主要是NXE：3400B和改進型的NXE：3400C，兩者結構相似，物鏡系統(tǒng)的NA（數(shù)值孔徑）為0．33。這意味著新一代EUV光刻機分辨率相比前一代提升了70％左右，可以進一步提升精度。

ASML的EXE：5000系列EUV光刻機主要面向3nm時代，目前臺積電和三星已經(jīng)開始積極量產5nm工藝芯片，3nm工藝制程路線圖也早早就開始了布局，要想讓技術盡快落地，EXE：5000系列EUV光刻機的研發(fā)極為重要。

內外兼修，ASML稱霸光刻機市場名副其實

光刻機是芯片制造的核心設備之一，也是世界上最復雜的精密設備之一。光刻機的制造和維護需要高度的光學和電子工業(yè)基礎，能夠掌握這項技術的廠商寥寥無幾，目前比較知名的光刻機廠商有尼康、佳能、ABM、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS等，但是在頂級光刻機領域，卻唯有ASML一家獨大。

ASML可謂出身名門，原本是荷蘭著名的電器制造商飛利浦公司半導體部門拆分出來的獨立公司，1995年公司在 NASDAQ與阿姆斯特丹交易所上市， 2001年更名為 ASML。

名門背景只是ASML成功的小部分原因，真正能讓ASML與世界上那么多半導體巨頭捆綁在一起，還要提起ASML一項特殊的規(guī)定。這項規(guī)定就是，首先要先投資ASML，才能夠成為ASML的客戶，獲得優(yōu)先供貨權。這項規(guī)定看著奇怪，但卻異常有效，也許是為了避免自己在日后的半導體大戰(zhàn)中落后，世界各地半導體巨頭紛紛注資，包括英特爾、三星、臺積電、海力士等，都在ASML中占據(jù)了相當可觀的股份。

正如金庸老爺子筆下“內外兼修”的武林高手一般，ASML除了外在資本支持以外，自身也走出了一條并購逆襲的道路：

2000年，ASML收購了美國光刻機廠商SVGL，市場份額反超佳能，躍升至37％，直追尼康；

2012年，ASML斥資25億美元（約合人民幣174．87億元），收購了全球知名準分子激光器廠商Cymer，以此加強光刻機光源設備及技術；

2016年，ASML斥資1000億新臺幣（約合人民幣219．34億元）收購了***半導體設備廠商漢微科，為公司提供了先進的電子束晶圓檢測設備及技術；

2016年ASML以10億歐元（約合人民幣7．82億元）收購了德國卡爾蔡司子公司24．9％的股份，加強自身微影鏡頭技術；

2019年，ASML再次宣布，收購其競爭對手光刻機制造商Mapper。

回顧ASML浩浩蕩蕩的收購史，終讓其成為光刻機設備王者。實際上，ASML的成功不僅僅是自身努力的結果，更是多個企業(yè)、多個國家共同努力的結果，ASML的成功也代表了數(shù)個國家的成功。

根據(jù)2019年ASML財報數(shù)據(jù)顯示，ASML在2019年共交付26套EUV光刻機，占凈系統(tǒng)銷售額的31％，約27．89億歐元（約214．26億人民幣），凈銷售額為118．2億歐元（約907．3億人民幣），同比增長8％；凈利潤為25．92億歐元（約198．9億人民幣），同比維持不變。光刻機作為一個高精尖技術的集合體，對于各大廠商來說其背后所能產生的價值絕對遠高于此。

這些年來，國內也在積極布局光刻機設備研發(fā)，如上海微電子、中電科四十五所、中電科四十八所等，都已經(jīng)成功研制出了光刻機產品。但是想達到國際一流的光刻機水平，面臨的挑戰(zhàn)太多、太難，差距不是一星半點。但是我們依然努力相信，未來國內的光刻機產業(yè)也能夠給國人帶來更多好消息。
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