近日，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）公司2019年的年報(bào)中披露了關(guān)于下一代EUV極紫光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)程，預(yù)計(jì)2022年年初開始出貨，2024年實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。

新一代EUV光刻機(jī)分辨率提升70％

據(jù)悉，新一代EUV光刻機(jī)EXE：5000系列，NA（數(shù)值孔徑）為0．55，NA大小則代表了光刻機(jī)的精度高低，NA數(shù)值越大，光刻機(jī)精度更高。

現(xiàn)在ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)都是第一代產(chǎn)品，主要是NXE：3400B和改進(jìn)型的NXE：3400C，兩者結(jié)構(gòu)相似，物鏡系統(tǒng)的NA（數(shù)值孔徑）為0．33。這意味著新一代EUV光刻機(jī)分辨率相比前一代提升了70％左右，可以進(jìn)一步提升精度。

ASML的EXE：5000系列EUV光刻機(jī)主要面向3nm時(shí)代，目前臺(tái)積電和三星已經(jīng)開始積極量產(chǎn)5nm工藝芯片，3nm工藝制程路線圖也早早就開始了布局，要想讓技術(shù)盡快落地，EXE：5000系列EUV光刻機(jī)的研發(fā)極為重要。

內(nèi)外兼修，ASML稱霸光刻機(jī)市場(chǎng)名副其實(shí)

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，也是世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一。光刻機(jī)的制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，能夠掌握這項(xiàng)技術(shù)的廠商寥寥無幾，目前比較知名的光刻機(jī)廠商有尼康、佳能、ABM、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS等，但是在頂級(jí)光刻機(jī)領(lǐng)域，卻唯有ASML一家獨(dú)大。

ASML可謂出身名門，原本是荷蘭著名的電器制造商飛利浦公司半導(dǎo)體部門拆分出來的獨(dú)立公司，1995年公司在 NASDAQ與阿姆斯特丹交易所上市， 2001年更名為 ASML。

名門背景只是ASML成功的小部分原因，真正能讓ASML與世界上那么多半導(dǎo)體巨頭捆綁在一起，還要提起ASML一項(xiàng)特殊的規(guī)定。這項(xiàng)規(guī)定就是，首先要先投資ASML，才能夠成為ASML的客戶，獲得優(yōu)先供貨權(quán)。這項(xiàng)規(guī)定看著奇怪，但卻異常有效，也許是為了避免自己在日后的半導(dǎo)體大戰(zhàn)中落后，世界各地半導(dǎo)體巨頭紛紛注資，包括英特爾、三星、臺(tái)積電、海力士等，都在ASML中占據(jù)了相當(dāng)可觀的股份。

正如金庸老爺子筆下“內(nèi)外兼修”的武林高手一般，ASML除了外在資本支持以外，自身也走出了一條并購(gòu)逆襲的道路：

2000年，ASML收購(gòu)了美國(guó)光刻機(jī)廠商SVGL，市場(chǎng)份額反超佳能，躍升至37％，直追尼康；

2012年，ASML斥資25億美元（約合人民幣174．87億元），收購(gòu)了全球知名準(zhǔn)分子激光器廠商Cymer，以此加強(qiáng)光刻機(jī)光源設(shè)備及技術(shù)；

2016年，ASML斥資1000億新臺(tái)幣（約合人民幣219．34億元）收購(gòu)了***半導(dǎo)體設(shè)備廠商漢微科，為公司提供了先進(jìn)的電子束晶圓檢測(cè)設(shè)備及技術(shù)；

2016年ASML以10億歐元（約合人民幣7．82億元）收購(gòu)了德國(guó)卡爾蔡司子公司24．9％的股份，加強(qiáng)自身微影鏡頭技術(shù)；

2019年，ASML再次宣布，收購(gòu)其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手光刻機(jī)制造商Mapper。

回顧ASML浩浩蕩蕩的收購(gòu)史，終讓其成為光刻機(jī)設(shè)備王者。實(shí)際上，ASML的成功不僅僅是自身努力的結(jié)果，更是多個(gè)企業(yè)、多個(gè)國(guó)家共同努力的結(jié)果，ASML的成功也代表了數(shù)個(gè)國(guó)家的成功。

根據(jù)2019年ASML財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示，ASML在2019年共交付26套EUV光刻機(jī)，占凈系統(tǒng)銷售額的31％，約27．89億歐元（約214．26億人民幣），凈銷售額為118．2億歐元（約907．3億人民幣），同比增長(zhǎng)8％；凈利潤(rùn)為25．92億歐元（約198．9億人民幣），同比維持不變。光刻機(jī)作為一個(gè)高精尖技術(shù)的集合體，對(duì)于各大廠商來說其背后所能產(chǎn)生的價(jià)值絕對(duì)遠(yuǎn)高于此。

這些年來，國(guó)內(nèi)也在積極布局光刻機(jī)設(shè)備研發(fā)，如上海微電子、中電科四十五所、中電科四十八所等，都已經(jīng)成功研制出了光刻機(jī)產(chǎn)品。但是想達(dá)到國(guó)際一流的光刻機(jī)水平，面臨的挑戰(zhàn)太多、太難，差距不是一星半點(diǎn)。但是我們依然努力相信，未來國(guó)內(nèi)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)也能夠給國(guó)人帶來更多好消息。
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