一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

MEMS晶圓是怎么切割的?

MEMS技術 ? 來源:MEMS公眾號 ? 2020-06-01 09:38 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

MEMS(Micro-Electro-Mechanical System)即微電子機械系統(tǒng),一般由微機械結構、微傳感器、微執(zhí)行器和控制電路組成,MEMS是通過半導體工藝實現(xiàn)不同能量形式之間的轉換的一種芯片。根據能量轉換形式的不同,一般分為傳感器和執(zhí)行器兩類,傳感器即感測到外界信號并將其轉換成所需的信號(一般是電信號)進行處理,應用有:慣性傳感器、硅麥克風等;執(zhí)行器即將控制信號(一般是電信號)轉化為其他形式的能量(一般是機械能)輸出,應用有:光學系統(tǒng)、RF MEMS等。

MEMS的制造主要采用Si材料,它與IC的不同在于,IC是電信號的傳輸、轉換及處理,而MEMS是電信號和其他形式能量間的轉換(以機械能為典型),所以在MEMS制造中往往需要利用半導體工藝在Si上制作懸梁、薄膜、空腔、密封洞、針尖、微彈簧等復雜的機械結構,這些微機械結構容易因機械接觸而損壞、因暴露而沾污,能承受的機械強度遠遠小于IC芯片?;谶@樣的特點,MEMS晶圓的劃片方法不同于典型IC的劃片。典型IC砂輪劃片是通過砂輪刀片高速旋轉來完成材料的去除,從而實現(xiàn)芯片切割。由于刀片的高速旋轉,往往需要使用純水進行冷卻和沖洗,那么刀片高速旋轉產生的壓力和扭力,純水的沖洗產生的沖擊力以及切割下來的Si屑造成的污染都容易對MEMS芯片中機械微結構造成不可逆的破壞。所以典型IC的砂輪劃片不適用MEMS晶圓的劃片。

圖1 激光隱形切割在玻璃中的應用切割示意圖

激光隱形切割作為激光切割晶圓的一種方案,很好的避免了砂輪劃片存在的問題。如圖1所示,激光隱形切割是通過將脈沖激光的單個脈沖通過光學整形,讓其透過材料表面在材料內部聚焦,在焦點區(qū)域能量密度較高,形成多光子吸收非線性吸收效應,使得材料改性形成裂紋。每一個激光脈沖等距作用,形成等距的損傷即可在材料內部形成一個改質層。在改質層位置材料的分子鍵被破壞,材料的連接變的脆弱而易于分開。切割完成后通過拉伸承載膜的方式,將產品充分分開,并使得芯片與芯片之間產生間隙。這樣的加工方式避免了機械的直接接觸和純水的沖洗造成的破壞。目前激光隱形切割技術可應用于藍寶石/玻璃/硅以及多種化合物半導體晶圓。

圖2 硅材料透射光譜的特性

硅材料透射光譜的特性,見圖2,硅材料對紅外透過率很高,所以硅的隱形切割設備,通過選用短脈沖紅外激光器,將激光脈沖聚焦到硅襯底內部,實現(xiàn)隱形切割。激光隱形切割是非接觸式切割,解決了砂輪切割引入外力沖擊對產品破壞的問題。不過一般設備的激光隱形切割形成的改質層區(qū)域會使材料變得酥脆,還是會形成少量細小硅碎屑掉落,雖然碎屑數(shù)量遠少于砂輪切割,如前文所述,MEMS晶圓因為無法通過清洗的方法去除細小硅碎屑,故這些碎屑將對芯片造成破壞,影響良率。德龍激光生產的硅晶圓激光切割設備,見圖3,選用自制的紅外激光器和自主開發(fā)的激光加工系統(tǒng),實現(xiàn)硅晶圓的隱形切割,該設備能夠很好的控制隱形切割后碎屑的產生,從而滿足高品質MEMS晶圓切割的要求,保證切割良率。德龍激光的硅晶圓激光切割設備自推向市場后,得到了國內多家量產客戶的認可和好評,設備在多個MEMS制造廠內批量切割諸如硅麥克風/電熱堆/陀螺儀等MEMS產品。實物切割效果圖見圖4。

圖3 德龍硅晶圓激光切割設備外觀圖

圖4 MEMS產品切割效果圖

來源:MEMS公眾號

MEMS(Micro-Electro-Mechanical System)即微電子機械系統(tǒng),一般由微機械結構、微傳感器、微執(zhí)行器和控制電路組成,MEMS是通過半導體工藝實現(xiàn)不同能量形式之間的轉換的一種芯片。根據能量轉換形式的不同,一般分為傳感器和執(zhí)行器兩類,傳感器即感測到外界信號并將其轉換成所需的信號(一般是電信號)進行處理,應用有:慣性傳感器、硅麥克風等;執(zhí)行器即將控制信號(一般是電信號)轉化為其他形式的能量(一般是機械能)輸出,應用有:光學系統(tǒng)、RF MEMS等。

MEMS的制造主要采用Si材料,它與IC的不同在于,IC是電信號的傳輸、轉換及處理,而MEMS是電信號和其他形式能量間的轉換(以機械能為典型),所以在MEMS制造中往往需要利用半導體工藝在Si上制作懸梁、薄膜、空腔、密封洞、針尖、微彈簧等復雜的機械結構,這些微機械結構容易因機械接觸而損壞、因暴露而沾污,能承受的機械強度遠遠小于IC芯片?;谶@樣的特點,MEMS晶圓的劃片方法不同于典型IC的劃片。典型IC砂輪劃片是通過砂輪刀片高速旋轉來完成材料的去除,從而實現(xiàn)芯片切割。由于刀片的高速旋轉,往往需要使用純水進行冷卻和沖洗,那么刀片高速旋轉產生的壓力和扭力,純水的沖洗產生的沖擊力以及切割下來的Si屑造成的污染都容易對MEMS芯片中機械微結構造成不可逆的破壞。所以典型IC的砂輪劃片不適用MEMS晶圓的劃片。

圖1 激光隱形切割在玻璃中的應用切割示意圖

激光隱形切割作為激光切割晶圓的一種方案,很好的避免了砂輪劃片存在的問題。如圖1所示,激光隱形切割是通過將脈沖激光的單個脈沖通過光學整形,讓其透過材料表面在材料內部聚焦,在焦點區(qū)域能量密度較高,形成多光子吸收非線性吸收效應,使得材料改性形成裂紋。每一個激光脈沖等距作用,形成等距的損傷即可在材料內部形成一個改質層。在改質層位置材料的分子鍵被破壞,材料的連接變的脆弱而易于分開。切割完成后通過拉伸承載膜的方式,將產品充分分開,并使得芯片與芯片之間產生間隙。這樣的加工方式避免了機械的直接接觸和純水的沖洗造成的破壞。目前激光隱形切割技術可應用于藍寶石/玻璃/硅以及多種化合物半導體晶圓。

圖2 硅材料透射光譜的特性

硅材料透射光譜的特性,見圖2,硅材料對紅外透過率很高,所以硅的隱形切割設備,通過選用短脈沖紅外激光器,將激光脈沖聚焦到硅襯底內部,實現(xiàn)隱形切割。激光隱形切割是非接觸式切割,解決了砂輪切割引入外力沖擊對產品破壞的問題。不過一般設備的激光隱形切割形成的改質層區(qū)域會使材料變得酥脆,還是會形成少量細小硅碎屑掉落,雖然碎屑數(shù)量遠少于砂輪切割,如前文所述,MEMS晶圓因為無法通過清洗的方法去除細小硅碎屑,故這些碎屑將對芯片造成破壞,影響良率。德龍激光生產的硅晶圓激光切割設備,見圖3,選用自制的紅外激光器和自主開發(fā)的激光加工系統(tǒng),實現(xiàn)硅晶圓的隱形切割,該設備能夠很好的控制隱形切割后碎屑的產生,從而滿足高品質MEMS晶圓切割的要求,保證切割良率。德龍激光的硅晶圓激光切割設備自推向市場后,得到了國內多家量產客戶的認可和好評,設備在多個MEMS制造廠內批量切割諸如硅麥克風/電熱堆/陀螺儀等MEMS產品。實物切割效果圖見圖4。

圖3 德龍硅晶圓激光切割設備外觀圖

圖4 MEMS產品切割效果圖

來源:MEMS公眾號MEMS(Micro-Electro-Mechanical System)即微電子機械系統(tǒng),一般由微機械結構、微傳感器、微執(zhí)行器和控制電路組成,MEMS是通過半導體工藝實現(xiàn)不同能量形式之間的轉換的一種芯片。根據能量轉換形式的不同,一般分為傳感器和執(zhí)行器兩類,傳感器即感測到外界信號并將其轉換成所需的信號(一般是電信號)進行處理,應用有:慣性傳感器、硅麥克風等;執(zhí)行器即將控制信號(一般是電信號)轉化為其他形式的能量(一般是機械能)輸出,應用有:光學系統(tǒng)、RF MEMS等。

MEMS的制造主要采用Si材料,它與IC的不同在于,IC是電信號的傳輸、轉換及處理,而MEMS是電信號和其他形式能量間的轉換(以機械能為典型),所以在MEMS制造中往往需要利用半導體工藝在Si上制作懸梁、薄膜、空腔、密封洞、針尖、微彈簧等復雜的機械結構,這些微機械結構容易因機械接觸而損壞、因暴露而沾污,能承受的機械強度遠遠小于IC芯片?;谶@樣的特點,MEMS晶圓的劃片方法不同于典型IC的劃片。典型IC砂輪劃片是通過砂輪刀片高速旋轉來完成材料的去除,從而實現(xiàn)芯片切割。由于刀片的高速旋轉,往往需要使用純水進行冷卻和沖洗,那么刀片高速旋轉產生的壓力和扭力,純水的沖洗產生的沖擊力以及切割下來的Si屑造成的污染都容易對MEMS芯片中機械微結構造成不可逆的破壞。所以典型IC的砂輪劃片不適用MEMS晶圓的劃片。

圖1 激光隱形切割在玻璃中的應用切割示意圖

激光隱形切割作為激光切割晶圓的一種方案,很好的避免了砂輪劃片存在的問題。如圖1所示,激光隱形切割是通過將脈沖激光的單個脈沖通過光學整形,讓其透過材料表面在材料內部聚焦,在焦點區(qū)域能量密度較高,形成多光子吸收非線性吸收效應,使得材料改性形成裂紋。每一個激光脈沖等距作用,形成等距的損傷即可在材料內部形成一個改質層。在改質層位置材料的分子鍵被破壞,材料的連接變的脆弱而易于分開。切割完成后通過拉伸承載膜的方式,將產品充分分開,并使得芯片與芯片之間產生間隙。這樣的加工方式避免了機械的直接接觸和純水的沖洗造成的破壞。目前激光隱形切割技術可應用于藍寶石/玻璃/硅以及多種化合物半導體晶圓。

圖2 硅材料透射光譜的特性

硅材料透射光譜的特性,見圖2,硅材料對紅外透過率很高,所以硅的隱形切割設備,通過選用短脈沖紅外激光器,將激光脈沖聚焦到硅襯底內部,實現(xiàn)隱形切割。激光隱形切割是非接觸式切割,解決了砂輪切割引入外力沖擊對產品破壞的問題。不過一般設備的激光隱形切割形成的改質層區(qū)域會使材料變得酥脆,還是會形成少量細小硅碎屑掉落,雖然碎屑數(shù)量遠少于砂輪切割,如前文所述,MEMS晶圓因為無法通過清洗的方法去除細小硅碎屑,故這些碎屑將對芯片造成破壞,影響良率。德龍激光生產的硅晶圓激光切割設備,見圖3,選用自制的紅外激光器和自主開發(fā)的激光加工系統(tǒng),實現(xiàn)硅晶圓的隱形切割,該設備能夠很好的控制隱形切割后碎屑的產生,從而滿足高品質MEMS晶圓切割的要求,保證切割良率。德龍激光的硅晶圓激光切割設備自推向市場后,得到了國內多家量產客戶的認可和好評,設備在多個MEMS制造廠內批量切割諸如硅麥克風/電熱堆/陀螺儀等MEMS產品。實物切割效果圖見圖4。

圖3 德龍硅晶圓激光切割設備外觀圖

圖4 MEMS產品切割效果圖

來源:MEMS公眾號MEMS(Micro-Electro-Mechanical System)即微電子機械系統(tǒng),一般由微機械結構、微傳感器、微執(zhí)行器和控制電路組成,MEMS是通過半導體工藝實現(xiàn)不同能量形式之間的轉換的一種芯片。根據能量轉換形式的不同,一般分為傳感器和執(zhí)行器兩類,傳感器即感測到外界信號并將其轉換成所需的信號(一般是電信號)進行處理,應用有:慣性傳感器、硅麥克風等;執(zhí)行器即將控制信號(一般是電信號)轉化為其他形式的能量(一般是機械能)輸出,應用有:光學系統(tǒng)、RF MEMS等。

MEMS的制造主要采用Si材料,它與IC的不同在于,IC是電信號的傳輸、轉換及處理,而MEMS是電信號和其他形式能量間的轉換(以機械能為典型),所以在MEMS制造中往往需要利用半導體工藝在Si上制作懸梁、薄膜、空腔、密封洞、針尖、微彈簧等復雜的機械結構,這些微機械結構容易因機械接觸而損壞、因暴露而沾污,能承受的機械強度遠遠小于IC芯片。基于這樣的特點,MEMS晶圓的劃片方法不同于典型IC的劃片。典型IC砂輪劃片是通過砂輪刀片高速旋轉來完成材料的去除,從而實現(xiàn)芯片切割。由于刀片的高速旋轉,往往需要使用純水進行冷卻和沖洗,那么刀片高速旋轉產生的壓力和扭力,純水的沖洗產生的沖擊力以及切割下來的Si屑造成的污染都容易對MEMS芯片中機械微結構造成不可逆的破壞。所以典型IC的砂輪劃片不適用MEMS晶圓的劃片。

圖1 激光隱形切割在玻璃中的應用切割示意圖

激光隱形切割作為激光切割晶圓的一種方案,很好的避免了砂輪劃片存在的問題。如圖1所示,激光隱形切割是通過將脈沖激光的單個脈沖通過光學整形,讓其透過材料表面在材料內部聚焦,在焦點區(qū)域能量密度較高,形成多光子吸收非線性吸收效應,使得材料改性形成裂紋。每一個激光脈沖等距作用,形成等距的損傷即可在材料內部形成一個改質層。在改質層位置材料的分子鍵被破壞,材料的連接變的脆弱而易于分開。切割完成后通過拉伸承載膜的方式,將產品充分分開,并使得芯片與芯片之間產生間隙。這樣的加工方式避免了機械的直接接觸和純水的沖洗造成的破壞。目前激光隱形切割技術可應用于藍寶石/玻璃/硅以及多種化合物半導體晶圓。

圖2 硅材料透射光譜的特性

硅材料透射光譜的特性,見圖2,硅材料對紅外透過率很高,所以硅的隱形切割設備,通過選用短脈沖紅外激光器,將激光脈沖聚焦到硅襯底內部,實現(xiàn)隱形切割。激光隱形切割是非接觸式切割,解決了砂輪切割引入外力沖擊對產品破壞的問題。不過一般設備的激光隱形切割形成的改質層區(qū)域會使材料變得酥脆,還是會形成少量細小硅碎屑掉落,雖然碎屑數(shù)量遠少于砂輪切割,如前文所述,MEMS晶圓因為無法通過清洗的方法去除細小硅碎屑,故這些碎屑將對芯片造成破壞,影響良率。德龍激光生產的硅晶圓激光切割設備,見圖3,選用自制的紅外激光器和自主開發(fā)的激光加工系統(tǒng),實現(xiàn)硅晶圓的隱形切割,該設備能夠很好的控制隱形切割后碎屑的產生,從而滿足高品質MEMS晶圓切割的要求,保證切割良率。德龍激光的硅晶圓激光切割設備自推向市場后,得到了國內多家量產客戶的認可和好評,設備在多個MEMS制造廠內批量切割諸如硅麥克風/電熱堆/陀螺儀等MEMS產品。實物切割效果圖見圖4。

圖3 德龍硅晶圓激光切割設備外觀圖

圖4 MEMS產品切割效果圖

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • mems
    +關注

    關注

    129

    文章

    4155

    瀏覽量

    194207
  • 晶圓
    +關注

    關注

    53

    文章

    5165

    瀏覽量

    129795
  • 微傳感器
    +關注

    關注

    0

    文章

    17

    瀏覽量

    7971

原文標題:MEMS晶圓是怎么切割的?用高速砂輪刀片?NO,NO

文章出處:【微信號:wwzhifudianhua,微信公眾號:MEMS技術】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    切割中深度補償 - 切削熱耦合效應對 TTV 均勻性的影響及抑制

    一、引言 在制造流程中,總厚度變化(TTV)均勻性是衡量質量的核心指標,直接關系到芯
    的頭像 發(fā)表于 07-18 09:29 ?34次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b><b class='flag-5'>切割</b>中深度補償 - 切削熱耦合效應對 TTV 均勻性的影響及抑制

    切割深度動態(tài)補償技術對 TTV 厚度均勻性的提升機制與參數(shù)優(yōu)化

    一、引言 在制造過程中,總厚度變化(TTV)是衡量質量的關鍵指標,直接影響芯片制造的
    的頭像 發(fā)表于 07-17 09:28 ?62次閱讀
    <b class='flag-5'>切割</b>深度動態(tài)補償技術對<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b> TTV 厚度均勻性的提升機制與參數(shù)優(yōu)化

    超薄淺切多道切割中 TTV 均勻性控制技術探討

    超薄厚度極薄,切割時 TTV 均勻性控制難度大。我將從闡述研究背景入手,分析淺切多道切割在超薄
    的頭像 發(fā)表于 07-16 09:31 ?54次閱讀
    超薄<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>淺切多道<b class='flag-5'>切割</b>中 TTV 均勻性控制技術探討

    切割中淺切多道工藝與切削熱分布的耦合效應對 TTV 的影響

    一、引言 在半導體制造領域,總厚度變化(TTV)是衡量質量的關鍵指標,直接影響芯片制
    的頭像 發(fā)表于 07-12 10:01 ?61次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b><b class='flag-5'>切割</b>中淺切多道工藝與切削熱分布的耦合效應對 TTV 的影響

    淺切多道切割工藝對 TTV 厚度均勻性的提升機制與參數(shù)優(yōu)化

    一、引言 在半導體制造領域,總厚度變化(TTV)是衡量質量的關鍵指標之一,直接影響芯片制造的良品率與性能。傳統(tǒng)切割工藝在加工過程中,
    的頭像 發(fā)表于 07-11 09:59 ?121次閱讀
    淺切多道<b class='flag-5'>切割</b>工藝對<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b> TTV 厚度均勻性的提升機制與參數(shù)優(yōu)化

    切割振動監(jiān)測系統(tǒng)與進給參數(shù)的協(xié)同優(yōu)化模型

    一、引言 切割是半導體制造的關鍵環(huán)節(jié),切割過程中的振動會影響表面質量與尺寸精度,而進給參
    的頭像 發(fā)表于 07-10 09:39 ?73次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b><b class='flag-5'>切割</b>振動監(jiān)測系統(tǒng)與進給參數(shù)的協(xié)同優(yōu)化模型

    超薄切割:振動控制與厚度均勻性保障

    超薄因其厚度極薄,在切割時對振動更為敏感,易影響厚度均勻性。我將從分析振動對超薄切割的影
    的頭像 發(fā)表于 07-09 09:52 ?132次閱讀
    超薄<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b><b class='flag-5'>切割</b>:振動控制與厚度均勻性保障

    切割中振動 - 應力耦合效應對厚度均勻性的影響及抑制方法

    一、引言 在半導體制造流程里,切割是決定芯片質量與生產效率的重要工序。切割過程中,振動與
    的頭像 發(fā)表于 07-08 09:33 ?131次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b><b class='flag-5'>切割</b>中振動 - 應力耦合效應對厚度均勻性的影響及抑制方法

    基于多物理場耦合的切割振動控制與厚度均勻性提升

    一、引言 在半導體制造領域,切割是關鍵環(huán)節(jié),其質量直接影響芯片性能與成品率。切割過程中
    的頭像 發(fā)表于 07-07 09:43 ?163次閱讀
    基于多物理場耦合的<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b><b class='flag-5'>切割</b>振動控制與厚度均勻性提升

    用于切割 TTV 控制的硅棒安裝機構

    摘要:本文針對切割過程中 TTV(總厚度偏差)控制難題,提出一種用于切割 TTV 控制的
    的頭像 發(fā)表于 05-21 11:00 ?139次閱讀
    用于<b class='flag-5'>切割</b><b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b> TTV 控制的硅棒安裝機構

    探索MEMS傳感器制造:劃片機的關鍵作用

    MEMS傳感器劃片機技術特點與應用分析MEMS(微機電系統(tǒng))傳感器劃片機是用于
    的頭像 發(fā)表于 03-13 16:17 ?443次閱讀
    探索<b class='flag-5'>MEMS</b>傳感器制造:<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>劃片機的關鍵作用

    高精度劃片機切割解決方案

    高精度劃片機切割解決方案為實現(xiàn)高精度切割,需從設備精度、工藝穩(wěn)定性、智能化控制等多維度優(yōu)
    的頭像 發(fā)表于 03-11 17:27 ?400次閱讀
    高精度<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>劃片機<b class='flag-5'>切割</b>解決方案

    切割的定義和功能

    Dicing 是指將制造完成的(Wafer)切割成單個 Die 的工藝步驟,是從到獨立芯片生產的重要環(huán)節(jié)之一。每個 Die 都是一個
    的頭像 發(fā)表于 02-11 14:28 ?1283次閱讀

    劃片為什么用UV膠帶

    圓經過前道工序后芯片制備完成,還需要經過切割使上的芯片分離下來,最后進行封裝。不同厚度
    的頭像 發(fā)表于 12-10 11:36 ?1130次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>劃片為什么用UV膠帶

    切割技術知識大全

    切割劃片技術作為半導體制造流程中的關鍵環(huán)節(jié),其技術水平直接關聯(lián)到芯片的性能、良率及生產成本。
    的頭像 發(fā)表于 11-08 10:32 ?2070次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b><b class='flag-5'>切割</b>技術知識大全