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中芯國際N+1 代芯片可望于2021年量產(chǎn)

NSFb_gh_eb0fee5 ? 來源:集微網(wǎng) ? 作者:圖圖 ? 2020-09-30 10:49 ? 次閱讀
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集微網(wǎng)消息,9月18日,有投資者在互動平臺提問:目前公司14納米已經(jīng)量產(chǎn),N+1 代芯片進(jìn)入客戶導(dǎo)入階段,可望于 2021年進(jìn)入量產(chǎn),以上新聞報道的信息是否屬實(shí)?對此,中芯國際表示,公司第一代FinFET 14納米已于2019年四季度量產(chǎn);第二代FinFET N+1已進(jìn)入客戶導(dǎo)入階段,可望于2020年底小批量試產(chǎn)。

據(jù)集微網(wǎng)2月報道,在中芯國際2019第四季度財報會議上,梁孟松博士透露了中芯國際下一代“N+1”工藝的詳細(xì)數(shù)據(jù)。

梁孟松博士透露,中芯國際的下一代N+1工藝和14nm相比,性能提升了20%,功耗降低了57%,邏輯面積縮小了63%,SoC面積減少了55%。所以在功率和穩(wěn)定性方面,N+1和7nm工藝非常相似,唯一區(qū)別在于性能方面,N+1工藝的提升較小,市場基準(zhǔn)的性能提升應(yīng)該是35%。所以,中芯國際的N+1工藝是面向低功耗應(yīng)用領(lǐng)域的。

據(jù)了解,2019年第四季度,中芯國際的14nm首次貢獻(xiàn)營收。趙海軍博士則表示,來自14nm的營收將在今年繼續(xù)穩(wěn)步上升,14nm產(chǎn)能也將隨著中芯南方12英寸廠的產(chǎn)能爬坡而增長。14nm的應(yīng)用領(lǐng)域包括高端消費(fèi)電子、高性能計算、媒體應(yīng)用、人工智能汽車電子等領(lǐng)域。

原文標(biāo)題:中芯國際:第二代FinFET N+1已進(jìn)入客戶導(dǎo)入階段,年底有望小批量試產(chǎn)

文章出處:【微信公眾號:半導(dǎo)體投資聯(lián)盟】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

責(zé)任編輯:haq

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原文標(biāo)題:中芯國際:第二代FinFET N+1已進(jìn)入客戶導(dǎo)入階段,年底有望小批量試產(chǎn)

文章出處:【微信號:gh_eb0fee55925b,微信公眾號:半導(dǎo)體投資聯(lián)盟】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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