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中芯國際將針對(duì) EUV 光刻設(shè)備尋求與ASML進(jìn)行談判

工程師鄧生 ? 來源:新浪科技 ? 作者:新浪科技 ? 2020-12-19 09:23 ? 次閱讀
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據(jù)報(bào)道,業(yè)內(nèi)觀察人士稱,在新任副董事長蔣尚義的幫助下,中國芯片巨頭中芯國際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥(ASML)就 EUV 光刻設(shè)備進(jìn)行談判。

報(bào)道稱,中芯國際一直難以從阿斯麥獲得 EUV 光刻設(shè)備,盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響,但仍存顧慮。

但據(jù)業(yè)內(nèi)觀察人士稱,在新任副董事長蔣尚義的幫助下,中芯國際將針對(duì) EUV 光刻設(shè)備尋求與阿斯麥進(jìn)行談判。

本周二晚,中芯國際發(fā)布公告稱,蔣尚義獲委任為董事會(huì)副董事長、第二類執(zhí)行董事及戰(zhàn)略委員會(huì)成員,自 2020 年 12 月 15 日起生效。

EUV 光刻(即極紫外光刻)利用波長非常短的光,在硅片上形成數(shù)十億個(gè)微小結(jié)構(gòu),構(gòu)成一個(gè)芯片。與老式光刻機(jī)相比,EUV 設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強(qiáng)大的芯片。

報(bào)道稱,中芯國際計(jì)劃利用 EUV 光刻機(jī)器,來生產(chǎn)基于 7 納米以下制程技術(shù)的芯片產(chǎn)品。

近日有媒體報(bào)道稱,中芯國際已經(jīng)從 20nm 工藝制程,一直攻克到了 3nm 工藝制程,唯一缺的就是 EUV 光刻機(jī)。有了 EUV 光刻機(jī),中芯國際也能進(jìn)行 3nm 芯片的量產(chǎn)。

昨日美國股市收盤時(shí),阿斯麥股價(jià)收于 477.30 美元,上漲 1.2%。今日,中芯國際股價(jià)收于 55.02 元,下滑 1.77%。

責(zé)任編輯:PSY

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