臺積電擬砸150億美元研發(fā)3nm工藝
臺積電日前公布了2020年Q4季度財報，營收為3615.3億元新臺幣，同比增長14.0%。凈利潤為1427.7億元新臺幣，同比增長23.0%。
營收大漲的同時，臺積電2021年的資本支出也創(chuàng)紀錄了，將從去年的170億美元大幅提升到250-280億美元，增幅遠超紀錄。
這么大手筆投入主要是因為下一代工藝——3nm工藝太燒錢了，這些開支中的150億美元都是用于3nm工藝的，包括研發(fā)及建廠。
3nm節(jié)點的技術難度增大，對EUV光刻機及其他半導體設備的要求也高了，這些都是需要砸錢，1臺EUV光刻機就要1億歐元以上了，3nm工藝全線都要用上EUV光刻工藝，而且層數(shù)從5nm工藝的14層提升到20層，每增加一層都是巨大的成本。
根據(jù)臺積電之前的說法，3nm工藝相比5nm工藝可提升70%的晶體管密度，性能提升10-15%，功耗降低25-30%。
對于量產(chǎn)時間，臺積電表示會在2022年下半年量產(chǎn)，但最近有傳聞稱三星及臺積電的3nm工藝都遇到問題了，要延期，通常臺積電會在Q3季度量產(chǎn)新工藝，因為要配合蘋果的秋季發(fā)布會。
責編AJX
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