一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線(xiàn)課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國(guó)產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機(jī)?

旺材芯片 ? 來(lái)源:芯師爺 ? 作者:芯師爺 ? 2021-05-28 10:34 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

5月27日,半導(dǎo)體光刻膠概念股開(kāi)盤(pán)即走強(qiáng),截至收盤(pán),A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線(xiàn)拉升大漲20%封漲停,容大感光大漲13.28%,揚(yáng)帆新材大漲11.37%,南大光電大漲9.72%,雅克科技大漲9.93%,強(qiáng)力新材、上海新陽(yáng)、彤程新材等跟漲。

光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國(guó)產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機(jī)?

KrF光刻膠海外供應(yīng)告急

據(jù)了解,光刻膠板塊本輪異動(dòng)的背后,是KrF光刻膠海外供應(yīng)告急。自日本福島2月份發(fā)生強(qiáng)震后,光刻膠市場(chǎng)一度傳出“因受地震影響,信越化學(xué)KrF光刻膠生產(chǎn)以及海外供貨受阻”的消息,但是時(shí)隔3個(gè)月,KrF光刻膠在中國(guó)大陸的供應(yīng)困境依然沒(méi)有緩解。

從KrF光刻膠的供需來(lái)看,當(dāng)前的中國(guó)大陸KrF光刻膠供應(yīng)告急不難理解。

在供應(yīng)方,中國(guó)大陸光刻膠嚴(yán)重依賴(lài)進(jìn)口,國(guó)產(chǎn)化率不足5%,就ArF 光刻膠供應(yīng)而言,當(dāng)前該市場(chǎng)由日本企業(yè)壟斷,頭部聚集效應(yīng)極為明顯。根據(jù)前瞻產(chǎn)業(yè)研究院整理統(tǒng)計(jì),2019 年日本龍頭企業(yè) JSR、信越化學(xué)、TOK 和住友化學(xué)包攬前四,分別占據(jù)全球 ArF 光刻膠細(xì)分市場(chǎng) 25%、23%、20%和 15%市場(chǎng)份額,總計(jì)市場(chǎng)份額達(dá)到 83%。而第五名的美國(guó)陶氏化學(xué)在 ArF 光刻膠領(lǐng)域只占據(jù) 4%的市場(chǎng)份額。

在這種情況下,供貨占全球兩成的信越化學(xué)KrF光刻膠產(chǎn)線(xiàn)受地震影響產(chǎn)線(xiàn)至今尚未完全恢復(fù),對(duì)原本供應(yīng)就緊張的光刻膠市場(chǎng)而言雪上加霜。

其它光刻膠廠商對(duì)KrF光刻膠的供應(yīng)困境解決也有心無(wú)力,因?yàn)樽?020年底以來(lái),KrF光刻膠市場(chǎng)的需求實(shí)在是太強(qiáng)勁了。

一方面,據(jù)了解,目前半導(dǎo)體光刻膠最常使用曝光波長(zhǎng)分類(lèi),主要有 g 線(xiàn)、i 線(xiàn)、KrF、ArF 和最先進(jìn)的 EUV 光刻膠,其中 DUV 光刻機(jī)分為干法和浸潤(rùn)式,因此 ArF 光刻膠也對(duì)應(yīng)分為干法和浸潤(rùn)式兩類(lèi)。不同晶圓尺寸所需的光刻膠類(lèi)別不一。

本次供應(yīng)緊張的KrF光刻膠對(duì)應(yīng)的正是大熱門(mén)的8寸晶圓生產(chǎn)需求。受疫情帶來(lái)的“宅經(jīng)濟(jì)”和汽車(chē)半導(dǎo)體的強(qiáng)勁需求拉動(dòng),從去年下半年開(kāi)始,8寸晶圓制造產(chǎn)能逐漸擴(kuò)張,對(duì)KrF光刻膠的需求也水漲船高,造成了光刻膠等原材料的短缺和價(jià)格上漲。

另一方面,根據(jù)國(guó)家半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù)顯示,2017-2020年間,中國(guó)大陸新建27座晶圓廠,在全球新建晶圓廠數(shù)量中占比43.5%,將成為全球晶圓廠投資活動(dòng)最活躍的地區(qū)。大量新增晶圓廠的產(chǎn)能帶來(lái)了龐大的光刻膠市場(chǎng)需求。

此外,光刻膠的緊缺與其市場(chǎng)交易習(xí)慣也有一定關(guān)系。光刻膠作為晶圓制造的核心化學(xué)工藝品,有效期較短,晶圓廠正常的庫(kù)存通常不會(huì)太多,因此光刻膠供應(yīng)鏈易受自然災(zāi)害或政治經(jīng)濟(jì)沖突等突發(fā)事件影響,產(chǎn)生缺貨、漲價(jià)現(xiàn)象。

國(guó)產(chǎn)KrF光刻膠技術(shù)處于追趕期

海外供應(yīng)告急之下,國(guó)產(chǎn)KrF光刻膠的發(fā)展也備受關(guān)注。據(jù)了解,一直以來(lái),光刻膠的客戶(hù)壁壘較高,市場(chǎng)上光刻膠產(chǎn)品的更新速度較快,光刻膠廠家為了實(shí)現(xiàn)技術(shù)保密性,會(huì)與上游的原料供應(yīng)商保持密切合作關(guān)系,共同研發(fā)新技術(shù),增大了客戶(hù)的轉(zhuǎn)換成本。

但現(xiàn)在中小晶圓廠苦于位列海外光刻膠客戶(hù)列表尾部,目前無(wú)貨可取,在地緣政治的風(fēng)險(xiǎn)下,大客戶(hù)也在積極建設(shè)光刻膠的本土供應(yīng)鏈,國(guó)產(chǎn)光刻膠產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)有望迎來(lái)新一輪的客戶(hù)導(dǎo)入。

據(jù)不完全統(tǒng)計(jì),目前中國(guó)多家光刻膠供應(yīng)廠商已經(jīng)宣布在KrF光刻膠領(lǐng)域取得技術(shù)進(jìn)展,主要有北京科華微電子、晶瑞股份,南大光電,上海新陽(yáng)等。

整體而言,國(guó)產(chǎn)KrF光刻膠還處于客戶(hù)驗(yàn)證與導(dǎo)入階段。預(yù)計(jì)伴隨KrF光刻膠、ArF光刻膠研發(fā)完畢順利完成客戶(hù)驗(yàn)證后,國(guó)產(chǎn)光刻膠將進(jìn)入國(guó)產(chǎn)替代的高峰期。

北京科華:KrF已量產(chǎn),ArF光刻膠尚在研發(fā)過(guò)程中

北京科華微電子材料有限公司是一家中美合資企業(yè),現(xiàn)該公司的第一股東為彤程新材,是目前國(guó)內(nèi)唯一一家可供應(yīng)KrF光刻膠企業(yè)。

北京科華成立于 2004 年,是一家產(chǎn)品覆蓋 KrF(248nm)、I-line、G-line、紫外寬譜的光刻膠及配套試劑供應(yīng)商與服務(wù)商,也是集先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品研、產(chǎn)、銷(xiāo)為一體的擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高新技術(shù)企業(yè)??迫A微電子光刻膠產(chǎn)品序列完整,產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋集成電路(IC)、發(fā)光二極管LED)、分立器件、先進(jìn)封裝、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)等。

產(chǎn)品類(lèi)型覆蓋 KrF(248nm)、G/I 線(xiàn)(含寬譜),主要包括:KrF光刻膠 DK1080、DK2000、DK3000系列;g-i line 光刻膠 KMP C5000、KMP C7000、KMP C8000、KMP EP3100 系列和 KMP EP3200A 系列;Lift-off 工藝使用的負(fù)膠 KMP E3000 系列;用于分立器件的 BN、BP 系列等。

晶瑞股份:KrF已完成中試,ArF光刻膠尚在研發(fā)過(guò)程中

蘇州晶瑞化學(xué)股份有限公司是一家生產(chǎn)銷(xiāo)售微電子業(yè)用超純化學(xué)材料和其他精細(xì)化工產(chǎn)品的上市企業(yè),產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路、LED、TFT-LCD 面板制造過(guò)程、太陽(yáng)能硅片的蝕刻與清洗。

2020 年 8 月 21 日晶瑞股份中報(bào)披露其子公司蘇州瑞紅 1993 年開(kāi) 始光刻膠生產(chǎn),承擔(dān)并完成了國(guó)家 02 專(zhuān)項(xiàng)“i 線(xiàn)光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目,i 線(xiàn)光刻膠已向國(guó)內(nèi)頭部的知名大尺寸半導(dǎo)體廠商供貨,KrF 光刻膠完成中試,產(chǎn)品分辨率達(dá)到了 0.25~0.13μm 的技術(shù)要求,建成了中試示范線(xiàn)。

2020 年 10 月 12 日,晶瑞股份對(duì)深交所關(guān)注函的回復(fù)公告顯示,公司擬購(gòu)買(mǎi)光刻機(jī)設(shè)備的型號(hào)為 ASML XT 1900Gi ArF 浸入式光刻機(jī),可用于研發(fā)最高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻膠。

南大光電:子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠已通過(guò)客戶(hù)認(rèn)證

南大光電是一家專(zhuān)業(yè)從事先進(jìn)電子材料高純金屬有機(jī)化合物的研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售的高新技 術(shù)企業(yè),對(duì)關(guān)鍵技術(shù)擁有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),亦是全球 MO 源領(lǐng)導(dǎo)供應(yīng)商之一,產(chǎn)品主要應(yīng)用于下游制備 LED 外延片等。

在半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,南大光電擬投資 6.56 億元,3 年建成年產(chǎn) 25 噸 193nm(ArF 干式和浸沒(méi)式)光刻膠生產(chǎn)線(xiàn),該啟動(dòng)項(xiàng)目已獲得國(guó)家 02專(zhuān)項(xiàng)正式立項(xiàng)。

2020 年 11 月 6 日,南大光電披露 2020 年度向特定對(duì)象發(fā)行股票預(yù)案, 擬向特定對(duì)象發(fā)行股票的募集資金總額不超過(guò) 6.35 億元,其中 1.5 億元擬用于先進(jìn)光刻 膠及高純配套材料的開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化、ArF 光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。

上海新陽(yáng):主攻KrF和干法ArF光刻膠,目前已進(jìn)入產(chǎn)能建設(shè)階段

上海新陽(yáng)是以技術(shù)為主導(dǎo),立足于自主創(chuàng)新的高新技術(shù)企業(yè),專(zhuān)業(yè)從事半導(dǎo)體行業(yè)所需電子化學(xué)品及配套設(shè)備的研發(fā)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造和銷(xiāo)售服務(wù),致力于為用戶(hù)提供化學(xué)材料、配套設(shè)備、應(yīng)用工藝和現(xiàn)場(chǎng)服務(wù)一體化的整體解決方案。

上海新陽(yáng)主攻 KrF 和干法 ArF 光刻膠,已經(jīng)進(jìn)入產(chǎn)能建設(shè)階段。根據(jù) 2020 年 11 月 3 日定增預(yù)案,公司擬定增募資不超過(guò)14.50 億元,其中 8.15 億元擬投資于集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目,主要目標(biāo)為實(shí)現(xiàn) ArF 干法工藝使用的光刻膠和面向 3D NAND 臺(tái)階刻蝕的 KrF 厚膜光刻膠的產(chǎn)業(yè)化,力爭(zhēng)于 2023 年前實(shí)現(xiàn)上述產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白。

編輯:jq

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 二極管
    +關(guān)注

    關(guān)注

    148

    文章

    10098

    瀏覽量

    171574
  • IC
    IC
    +關(guān)注

    關(guān)注

    36

    文章

    6120

    瀏覽量

    179328
  • 封裝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    128

    文章

    8662

    瀏覽量

    145439
  • 微機(jī)電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    30

    瀏覽量

    10497
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    339

    瀏覽量

    30941

原文標(biāo)題:A股光刻膠飆漲背后:僅一家可供應(yīng)高端光刻膠

文章出處:【微信號(hào):wc_ysj,微信公眾號(hào):旺材芯片】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

    量產(chǎn)到ArF浸沒(méi)式驗(yàn)證,從樹(shù)脂國(guó)產(chǎn)化到EUV原料突破,一場(chǎng)靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進(jìn)入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長(zhǎng)的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?2247次閱讀

    針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?190次閱讀
    針對(duì)晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線(xiàn)在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對(duì)銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時(shí),光刻圖形的精準(zhǔn)測(cè)量對(duì)確保 ARRAY 制程工藝精度
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?218次閱讀
    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?294次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠產(chǎn)業(yè)國(guó)內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

    如果說(shuō)最終制造出來(lái)的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來(lái)可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠(photoresist),在業(yè)內(nèi)又被稱(chēng)為光阻或光阻劑
    的頭像 發(fā)表于 06-04 13:22 ?203次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?218次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠的類(lèi)型及特性

    光刻膠類(lèi)型及特性光刻膠(Photoresist),又稱(chēng)光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?2229次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類(lèi)型及特性

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹(shù)脂決定光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?984次閱讀

    光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)

    分辨率(resolution)。區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關(guān)鍵尺寸(CD,Critical Dimension)來(lái)衡量分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小,光刻膠的分辨率越好。
    的頭像 發(fā)表于 11-15 10:10 ?2947次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的主要技術(shù)參數(shù)

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?1673次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?1889次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠

    共讀好書(shū)關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號(hào)資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球,領(lǐng)取公眾號(hào)資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2475次閱讀

    光刻膠的使用過(guò)程與原理

    本文介紹光刻膠的使用過(guò)程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1563次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過(guò)程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡(jiǎn)要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?796次閱讀

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過(guò)程中,需要把PDMS或SU-8光刻膠根據(jù)所需要的厚度來(lái)選擇合適的旋涂轉(zhuǎn)速并且使PDMS或SU-8涂布均勻化。 如何成功的旋涂微流控SU-
    的頭像 發(fā)表于 08-26 14:16 ?846次閱讀