一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

半導體封裝工程師之家 ? 2024-11-01 11:08 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群


共讀好書






關于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠





歡迎掃碼添加小編微信

掃碼加入知識星球,領取公眾號資料


原文標題:一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

文章出處:【微信公眾號:半導體封裝工程師之家】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 封裝
    +關注

    關注

    128

    文章

    8685

    瀏覽量

    145507
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    國產光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    量產到ArF浸沒式驗證,從樹脂國產化到EUV原料突破,場靜默卻浩蕩的技術突圍戰(zhàn)已進入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?2762次閱讀

    行業(yè)案例|厚儀應用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是種關鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發(fā)生變化,主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。由于
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:53 ?50次閱讀
    行業(yè)案例|<b class='flag-5'>膜</b>厚儀應用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    針對晶圓上芯片工藝光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?214次閱讀
    針對晶圓上芯片<b class='flag-5'>工藝</b>的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準測量對確保 ARRAY
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:56 ?227次閱讀
    用于 ARRAY 制程<b class='flag-5'>工藝</b>的低銅腐蝕<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導體制造領域,光刻膠剝離工藝是關鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質量至關重要。本文將探討減少光刻膠剝離
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?300次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離<b class='flag-5'>工藝</b>對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    。 光刻膠剝離液及其制備方法 常見光刻膠剝離液類型 有機溶劑型剝離液 有機溶劑型剝離液以丙酮、N - 甲基吡咯烷酮(NMP)等有機溶劑為主體成分。丙酮對普通光刻膠的溶解能力強,能夠快速滲透光刻
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?241次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?2321次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及<b class='flag-5'>特性</b>

    晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究

    表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝展開研究,旨在進步完善這關鍵制造技術。 、光刻膠涂覆
    的頭像 發(fā)表于 01-03 16:22 ?676次閱讀

    光刻膠成為半導體產業(yè)的關鍵材料

    對光的敏感度。在半導體制造過程中,光刻膠通過光化學反應,將掩版上的圖案精確地轉移到硅片表面。 光刻工藝是半導體制造的核心步驟之。在硅片表面涂上
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?990次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,般都是需要及時的去除清洗,而些高溫或者其他操作往往會導致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?1685次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望

    光刻技術是現(xiàn)代微電子和納米技術的研發(fā)中的關鍵環(huán),而光刻膠,又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發(fā)展,對微小、精密的結構的需求日益增強,光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?1910次閱讀
    <b class='flag-5'>一</b><b class='flag-5'>文</b>解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應用及市場前景展望

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1587次閱讀

    版與光刻膠的功能和作用

    版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側重,但共同促進了芯片的精確制造。? 掩版?,也稱為光罩、光掩光刻
    的頭像 發(fā)表于 09-06 14:09 ?1697次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    控SU-8光刻膠烘烤:軟烘、后曝光烘烤和硬烘 在整個SU-8模具制備的過程中,微流控SU-8光刻膠需要烘烤2或3次,每次烘烤都有不同的作用。 第
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?803次閱讀

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠?

    ? 基底上SU-8光刻膠的圖層可以通過若干種技術來完成。最常用的技術是旋涂技術,該技術是在旋轉的基底上放置小灘SU-8光刻膠。旋轉速度、加速度和SU-8光刻膠的黏度將會決定SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-26 14:16 ?855次閱讀