duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么
目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是是什么呢？
duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別
1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。
2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內(nèi)部必須是真空操作。
以上就是duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別了，現(xiàn)在基本都是euv光刻機(jī)。
文章綜合php中文網(wǎng)、科創(chuàng)板日報(bào)、百度百科
編輯：何安
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1164瀏覽量
48119 -
EUV
+關(guān)注
關(guān)注
8文章
609瀏覽量
87067 -
DUV
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
56瀏覽量
4026
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設(shè)備，光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵，但目前EUV
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲，后市迎來機(jī)會
【2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機(jī)的需求持續(xù)增長，尤其是在先
不只依賴光刻機(jī)！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備，但實(shí)際上，芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者
? EUV光刻有多強(qiáng)？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
什么是光刻機(jī)的套刻精度
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說，它就像建造摩天大樓
如何提高光刻機(jī)的NA值
本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置，每代光刻機(jī)的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
光刻機(jī)的分類與原理
本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹
納米級別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟，負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源，但隨著技術(shù)的進(jìn)步，目前多采用深紫外（
日本首臺EUV光刻機(jī)就位
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報(bào)道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個(gè)階段進(jìn)行安裝，設(shè)備安裝預(yù)計(jì)在
用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì)，摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長卡在193nm，芯片制程縮小至6
光刻機(jī)的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī)：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，被譽(yù)為芯片制
一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)
，光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機(jī)發(fā)展歷程 光刻機(jī)的發(fā)展歷程
一文了解光刻機(jī)成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)
高端光刻機(jī)研發(fā)是一個(gè)系統(tǒng)工程，涉及到各方面技術(shù)的持續(xù)改進(jìn)和突破，在材料科學(xué)方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開發(fā)，在精密光學(xué)領(lǐng)域涉及精密光學(xué)加工技術(shù)、鍍膜技術(shù)、光學(xué)集成裝配技術(shù)等，在
工商網(wǎng)監(jiān)
評論