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標簽 > DUV
duv就是深紫外光,主要是指波長小于i-line365nm的紫外光,一般工業(yè)上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學(xué)增幅型的光刻膠。
duv就是深紫外光,主要是指波長小于i-line365nm的紫外光,一般工業(yè)上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學(xué)增幅型的光刻膠。
duv主要利用光的折射原理。其中,浸沒式光刻機會在投影透鏡與晶圓之間,填入去離子水,使得193nm的光波等效至134nm。
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光,涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上,用于微芯片設(shè)計過程中的后續(xù)步驟。
廈門大學(xué)康俊勇教授、尹君副教授課題組根據(jù)致病菌中遺傳物質(zhì)、蛋白質(zhì)的紫外光吸收特性,開發(fā)了一種由275-nm氮化物L(fēng)ED組成的大功率(3.2 W)且輻照均...
SSMB就產(chǎn)生了和FEL類似的“微聚束”,但是關(guān)鍵還加上了“穩(wěn)態(tài)”。FEL不是穩(wěn)態(tài),電子團在波蕩器里自由互相作用,最后發(fā)出強光完事。SSMB是讓電子束在...
芯片制造和傳統(tǒng)IC封裝的生產(chǎn)有何不一樣
DUV是深紫外線,EUV是極深紫外線。從制程工藝來看,DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造,并且還可以向5nm、3n...
DUV是深紫外線(Deep Ultraviolet Lithography),EUV是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithogr...
用于集成電路制造的光刻機有兩種:半導(dǎo)體光刻機和光學(xué)(光刻)光刻機。下面將分別介紹這兩種光刻機的相關(guān)知識。半導(dǎo)體光刻機是根據(jù)芯片制造的工藝和設(shè)備來劃分的,...
在超寬帶隙半導(dǎo)體領(lǐng)域,研究者們正致力于開發(fā)具有超高增益的深紫外(DUV)光電探測器,以期達到與光電倍增管(PMT)相媲美的性能。這些探測器對于200-2...
2025-02-11 標簽:探測器碳基半導(dǎo)體DUV 380 0
2023年全球五大晶圓廠設(shè)備制造商收入下滑1%,ASML躋身首位
其中,ASML及應(yīng)用材料兩家企業(yè)收入呈現(xiàn)正向增長,而泛林集團(Lam Research)、東京電子(TEL)和科磊(KLA)則分別下滑25%、22%和8...
荷蘭政府撤銷ASML光刻機出口許可 中方回應(yīng)美停止對華供光刻機
在10-11月份中國進口ASML的光刻機激增10多倍后,美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示,出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評估的。
用于日盲光通信的高效DUV微型LED和新型光電探測器的開發(fā)
三五族氮化物半導(dǎo)體材料,包括氮化鎵,氮化鋁,氮化銦及其它們的合金,以其獨特的直接帶隙半導(dǎo)體特性和從0.6eV到6.2eV連續(xù)可調(diào)禁帶寬度特點,非常適用于...
ASML監(jiān)事會擬任命Christophe Fouquet為總裁兼首席執(zhí)行官
asml首席執(zhí)行官Peter Wennink表示:“很高興能獲得到明年4月為止領(lǐng)導(dǎo)asml的強有力的接班人。christophe在asml工作了15年,...
2023-12-01 標簽:半導(dǎo)體市場ASMLDUV 1098 0
阿斯麥的主要收入來源仍然是系統(tǒng)銷售,占據(jù)了公司收入的80%。收入同比增長,主要得益于下游客戶對ArF產(chǎn)品需求的增加,近兩個季度ArFi產(chǎn)品的收入占比已經(jīng)...
2023-10-20 標簽:半導(dǎo)體制造ASMLDUV 1014 0
奮斗不息! ? 美國芯片法案-2022 1 對華限制 關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的小伙伴們都知道,前不久美國商務(wù)部工業(yè)安全局(BIS)對中國實施了芯片出口管制措施,...
當(dāng)制程節(jié)點演進到5nm時,DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了,EUV光刻機就成為前道工序的必需品了,沒有它,很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯...
該公司必須根據(jù) 6 月份與美國達成的一項協(xié)議引入的許可制度,尋求批準出口一些最先進的技術(shù)——美國以安全問題為由,試圖通過這種方式阻礙北京制造自己的芯片的能力。
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