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      標(biāo)簽　>　DUV

      DUV

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      duv就是深紫外光，主要是指波長(zhǎng)小于i-line365nm的紫外光，一般工業(yè)上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學(xué)增幅型的光刻膠。

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      DUV百科

      　　duv就是深紫外光，主要是指波長(zhǎng)小于i-line365nm的紫外光，一般工業(yè)上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學(xué)增幅型的光刻膠。

      　　duv主要利用光的折射原理。其中，浸沒式光刻機(jī)會(huì)在投影透鏡與晶圓之間，填入去離子水，使得193nm的光波等效至134nm。

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      duv知識(shí)

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      duv技術(shù)

      國(guó)產(chǎn)***EUV與DUV的分類

      DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithogr...

      2023-03-20 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVDUV 1.3萬(wàn) 0

      剖析***的種類與原理

      用于集成電路制造的光刻機(jī)有兩種：半導(dǎo)體光刻機(jī)和光學(xué)（光刻）光刻機(jī)。下面將分別介紹這兩種光刻機(jī)的相關(guān)知識(shí)。半導(dǎo)體光刻機(jī)是根據(jù)芯片制造的工藝和設(shè)備來(lái)劃分的，...

      2023-03-03 標(biāo)簽：芯片集成電路半導(dǎo)體 8301 0

      DUV與EUV***的芯片加工流程詳解

      DUV與EUV***的芯片加工流程詳解

      SSMB就產(chǎn)生了和FEL類似的“微聚束”，但是關(guān)鍵還加上了“穩(wěn)態(tài)”。FEL不是穩(wěn)態(tài)，電子團(tuán)在波蕩器里自由互相作用，最后發(fā)出強(qiáng)光完事。SSMB是讓電子束在...

      2023-09-22 標(biāo)簽：芯片芯片制造光刻 3842 0

      什么是EUV光刻？EUV與DUV光刻的區(qū)別

      EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會(huì)將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設(shè)計(jì)過(guò)程中的后續(xù)步驟。

      2023-10-30 標(biāo)簽：芯片設(shè)計(jì)光刻EUV 3792 0

      半導(dǎo)體行業(yè)之ICT技術(shù)的工藝流程

      半導(dǎo)體行業(yè)之ICT技術(shù)的工藝流程

      CMOS集成電路芯片加工技術(shù)的幾個(gè)主要發(fā)展發(fā)生在20世紀(jì)90年代。

      2023-07-28 標(biāo)簽：半導(dǎo)體接觸電阻LDD接口 2286 0

      光刻工藝的基本步驟 ***的整體結(jié)構(gòu)圖

      光刻工藝的基本步驟 ***的整體結(jié)構(gòu)圖

      光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計(jì)以及光刻膠工藝等因素對(duì)分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評(píng)估光刻工藝的難度，ASML認(rèn)為其物理極限在0.25，...

      2023-12-18 標(biāo)簽：集成電路摩爾定律光刻機(jī) 2151 0

      淺談不同階段光刻機(jī)工作方式

      淺談不同階段光刻機(jī)工作方式

      在曝光過(guò)程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)...

      2024-03-08 標(biāo)簽：芯片制造光刻光刻機(jī) 2015 0

      光刻掩膜版保護(hù)膜常見的類型有哪些？

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      掩膜版保護(hù)膜，mask pellicle，是一種透明的薄膜，在生產(chǎn)中覆蓋在掩膜版的表面。顧名思義，主要對(duì)掩膜版起物理與化學(xué)保護(hù)作用。

      2024-01-04 標(biāo)簽：光刻EUV芯片制程 1959 0

      深紫外光子滅活技術(shù)

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      廈門大學(xué)康俊勇教授、尹君副教授課題組根據(jù)致病菌中遺傳物質(zhì)、蛋白質(zhì)的紫外光吸收特性，開發(fā)了一種由275-nm氮化物L(fēng)ED組成的大功率（3.2 W）且輻照均...

      2023-10-17 標(biāo)簽：ledDUV 1420 0

      芯片制造和傳統(tǒng)IC封裝的生產(chǎn)有何不一樣

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      DUV是深紫外線，EUV是極深紫外線。從制程工藝來(lái)看，DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造，并且還可以向5nm、3n...

      2023-07-10 標(biāo)簽：集成電路芯片制造光刻機(jī) 1181 0

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      duv資訊

      duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么

      目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。E...

      2022-07-10 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVDUV 8.5萬(wàn) 0

      duv和euv光刻機(jī)區(qū)別

      DUV已經(jīng)能滿足絕大多數(shù)需求：覆蓋7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的區(qū)別在光源方案。duv的光源為準(zhǔn)分子激光，光源的波長(zhǎng)能達(dá)到193納米。

      2022-07-06 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVDUV 6.3萬(wàn) 0

      造光刻機(jī)需要哪些技術(shù)？

      造光刻機(jī)需要哪些技術(shù)？

      沒有任何一個(gè)國(guó)家的人比中國(guó)人更想造出頂級(jí)光刻機(jī)。網(wǎng)友甚至表示，只要造出光刻機(jī)，無(wú)論一個(gè)人做錯(cuò)了什么都可以原諒。

      2021-08-26 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 6.2萬(wàn) 0

      擬推中國(guó)特供版DUV？ASML最新回應(yīng)

      被美國(guó)要求限制對(duì)華出售半導(dǎo)體設(shè)備后，ASML進(jìn)退兩難。

      2023-07-07 標(biāo)簽：晶體管ASMLEUV光刻機(jī) 5.2萬(wàn) 0

      ***技術(shù)有多難搞？我國(guó)***發(fā)展現(xiàn)狀

      ***技術(shù)有多難搞？我國(guó)***發(fā)展現(xiàn)狀

      搞光刻機(jī)必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機(jī)畢竟不是核彈，光刻機(jī)從試驗(yàn)機(jī)改良成量產(chǎn)機(jī)，需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗(yàn)生產(chǎn)，這些步驟是不可能秘密進(jìn)行的。

      2023-06-27 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 1.1萬(wàn) 0

      ASML拒絕美要求禁止對(duì)華出售光刻機(jī)

      ASML拒絕美要求禁止對(duì)華出售光刻機(jī)

      ASML拒絕美要求禁止對(duì)華出售光刻機(jī) 荷蘭ASML公司 （全稱： Advanced Semiconductor Material Lithography...

      2022-10-31 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVASML 7581 0

      14nm + 14nm怎么才能達(dá)成“比肩”7nm 性能？

      近日，《烏合麒麟撤回道歉，稱3D堆疊就是芯片優(yōu)化技術(shù)》事件在網(wǎng)上引起爭(zhēng)論，今天ASPENCORE記者歐陽(yáng)洋蔥同學(xué)進(jìn)一步對(duì)“ 14nm + 14nm 達(dá)成...

      2021-07-02 標(biāo)簽：芯片cpu光源 6407 0

      ASML警告美國(guó)：對(duì)中國(guó)斷供DUV光刻機(jī)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈將中斷，真是如此嗎？

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）近日，針對(duì)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)廣泛關(guān)注的美國(guó)施壓ASML斷供中國(guó)DUV光刻機(jī)一事，ASML首席執(zhí)行官（CEO）溫彼得正式回應(yīng)稱，...

      2022-07-25 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASMLDUV 4578 0

      俄羅斯預(yù)計(jì)2028年生產(chǎn)7nm工藝制造的光刻機(jī)

      光刻機(jī)譽(yù)為“現(xiàn)代半導(dǎo)體行業(yè)皇冠上的明珠”，是一種高度復(fù)雜的設(shè)備。光刻機(jī)是通過(guò)紫外光作為“畫筆”，把預(yù)先設(shè)計(jì)好的芯片電路路線書寫在硅晶圓旋涂的光刻膠上，光...

      2022-10-27 標(biāo)簽：光刻機(jī)7nmDUV 4535 0

      荷蘭出新規(guī)！ASML部分DUV***將禁運(yùn)，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展別無(wú)選擇

      荷蘭出新規(guī)！ASML部分DUV***將禁運(yùn)，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展別無(wú)選擇

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）日前，有外媒報(bào)道稱，荷蘭貿(mào)易部部長(zhǎng)最近在致荷蘭議會(huì)的一封信中宣布，基于國(guó)家安全考慮，荷蘭政府將在夏天之前對(duì)其芯片出口實(shí)施新...

      2023-03-13 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASMLDUV 3889 0

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        電子發(fā)燒友網(wǎng)于2006年10月成立， 是一個(gè)以電子技術(shù)知識(shí)為核心，以工程師為主導(dǎo)的平臺(tái)。致立于為中國(guó)電子工程師的電子產(chǎn)品設(shè)計(jì)等做出最大貢獻(xiàn)，促進(jìn)中國(guó)電子科技的穩(wěn)步發(fā)展。
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        京瓷株式會(huì)社成立于1959年4月1日。川村誠(chéng)為現(xiàn)任代表取締役社長(zhǎng)。資本金為1，157億332萬(wàn)日元。截至2006年3月31日為止的年度銷售額達(dá)到1，181，489百萬(wàn)日元，集團(tuán)公司包括關(guān)聯(lián)公司在內(nèi)共計(jì)183家，員工61，468名。
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        eMMC （Embedded Multi Media Card）是MMC協(xié)會(huì)訂立、主要針對(duì)手機(jī)或平板電腦等產(chǎn)品的內(nèi)嵌式存儲(chǔ)器標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格。
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        6G網(wǎng)絡(luò)將是一個(gè)地面無(wú)線與衛(wèi)星通信集成的全連接世界。6G，即第六代移動(dòng)通信標(biāo)準(zhǔn)，也被稱為第六代移動(dòng)通信技術(shù)。主要促進(jìn)的就是物聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展 。截至2019年11月，6G仍在開發(fā)階段。6G的傳輸能力可能比5G提升100倍，網(wǎng)絡(luò)延遲也可能從毫秒降到微秒級(jí)。
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        WiFi6主要使用了OFDMA、MU-MIMO等技術(shù)，MU-MIMO（多用戶多入多出）技術(shù)允許路由器同時(shí)與多個(gè)設(shè)備通信，而不是依次進(jìn)行通信。MU-MIMO允許路由器一次與四個(gè)設(shè)備通信，WiFi6將允許與多達(dá)8個(gè)設(shè)備通信。WiFi6還利用其他技術(shù)，如OFDMA（正交頻分多址）和發(fā)射波束成形，兩者的作用分別提高效率和網(wǎng)絡(luò)容量。WiFi6最高速率可達(dá)9.6Gbps。
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        DC/DC轉(zhuǎn)換器為轉(zhuǎn)變輸入電壓后有效輸出固定電壓的電壓轉(zhuǎn)換器。DC/DC轉(zhuǎn)換器分為三類：升壓型DC/DC轉(zhuǎn)換器、降壓型DC/DC轉(zhuǎn)換器以及升降壓型DC/DC轉(zhuǎn)換器。
      • 檢測(cè)電路圖
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        　　賽靈思公司（Xilinx）推出的行業(yè)第一個(gè)可擴(kuò)展處理平臺(tái)Zynq系列。旨在為視頻監(jiān)視、汽車駕駛員輔助以及工廠自動(dòng)化等高端嵌入式應(yīng)用提供所需的處理與計(jì)算性能水平。
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      • 特斯拉線圈
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        特斯拉線圈又叫泰斯拉線圈，因?yàn)檫@是從“Tesla”這個(gè)英文名直接音譯過(guò)來(lái)的。這是一種分布參數(shù)高頻串聯(lián)諧振變壓器，可以獲得上百萬(wàn)伏的高頻電壓。
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        過(guò)流保護(hù)電路
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        電路過(guò)電流過(guò)電壓保護(hù)是為防止主回路短路或直流牽引電動(dòng)機(jī)發(fā)生環(huán)火造成主回路電流過(guò)大而損壞同步牽引發(fā)電機(jī)、主整流柜等電氣設(shè)備，機(jī)車在牽引、電阻制動(dòng)或自負(fù)載工況下，對(duì)主電路的過(guò)電流和過(guò)電壓均進(jìn)行保護(hù)。
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        過(guò)零檢測(cè)電路
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        過(guò)零檢測(cè)指的是在交流系統(tǒng)中，當(dāng)波形從正半周向負(fù)半周轉(zhuǎn)換時(shí)，經(jīng)過(guò)零位時(shí)，系統(tǒng)作出的檢測(cè)?？勺鏖_關(guān)電路或者頻率檢測(cè)。漏電開關(guān)的漏電檢測(cè)是檢測(cè)零序電流。
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        　Vcc和Vdd是器件的電源端。Vcc是雙極器件的正，Vdd多半是單極器件的正。下標(biāo)可以理解為NPN晶體管的集電極C，和PMOS or NMOS場(chǎng)效應(yīng)管的漏極D。同樣你可在電路圖中看見Vee和Vss，含義一樣。因?yàn)橹髁餍酒Y(jié)構(gòu)是硅NPN所以Vcc通常是正。如果用PNP結(jié)構(gòu)Vcc就為負(fù)了。建議選用芯片時(shí)一定要看清電氣參數(shù)
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        HarmonyOS最新信息分享，我們將為大家?guī)?lái)HarmonyOS是什么意思的深度解讀，HarmonyOS官網(wǎng)地址、HarmonyOS開源相關(guān)技術(shù)解讀與設(shè)計(jì)應(yīng)用案例，HarmonyOS系統(tǒng)官網(wǎng)信息，華為harmonyOS最新資訊動(dòng)態(tài)分析等。
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        擬訂科創(chuàng)板股票上市審核規(guī)則、科創(chuàng)板上市公司并購(gòu)重組審核規(guī)則、上市委員會(huì)及科技創(chuàng)新咨詢委員會(huì)相關(guān)規(guī)則；負(fù)責(zé)科創(chuàng)板股票發(fā)行上市審核和科創(chuàng)板上市公司并購(gòu)重組審核工作，擬訂審核標(biāo)準(zhǔn)、審核程序等；對(duì)發(fā)行人、科創(chuàng)板上市公司及中介機(jī)構(gòu)進(jìn)行自律監(jiān)管等。
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        74LS00
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        74LS00是一個(gè)內(nèi)部擁有四個(gè)獨(dú)立的二輸入與非門電路，它滿足與非門的邏輯功能，可以實(shí)現(xiàn)與非門的邏輯功能。共有54/7400、54/74H00、54/74S00、54/74LS00。54XXX
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