前言

濕法制程工藝即制造過程中需要使用化學(xué)藥液的工藝，被廣泛使用于集成電路、平板顯示、太陽能光伏等領(lǐng)域的制造過程中。以集成電路領(lǐng)域?yàn)槔?a target="_blank">晶圓制造過程中，去膠、顯影、刻蝕、清洗都屬于濕法制程是，都離不開濕電子化學(xué)品的使用。

隨著我國各行業(yè)對芯片需求的日益增長，這類型儀器購買量日益增加。然而市場上濕法制程相關(guān)設(shè)備基本以非標(biāo)定制為主，設(shè)備體型大，交付時(shí)間長、造價(jià)高昂，往往忽略了實(shí)驗(yàn)室對場地、成本控制的要求。

華林科納濕電子化學(xué)品工作站解決方案

作為在泛半導(dǎo)體濕法制程領(lǐng)域深耕二十年的華林科納，在濕法設(shè)備的設(shè)計(jì)與生產(chǎn)中積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)，為實(shí)驗(yàn)室用戶精心打造的濕電子化學(xué)品工作站，以標(biāo)準(zhǔn)模塊化設(shè)計(jì)，滿足實(shí)驗(yàn)室在處理濕電子化學(xué)品過程中的需求。提供包括勻膠、去膠、顯影、酸洗、堿洗、QDR清洗、超聲波清洗、干燥等功能。特有的智能排風(fēng)及FFU凈化系統(tǒng)，保障了實(shí)驗(yàn)人員的安全和實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確。濕電子化學(xué)品工作站標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)，造價(jià)低、組合靈活，可以滿足集成電路、光伏、液晶顯示等眾多行業(yè)及各類研究機(jī)構(gòu)和大學(xué)院校的實(shí)驗(yàn)需求，努力為濕法制程研究保駕護(hù)航！