GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻 計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍

NVIDIA cuLitho的計(jì)算光刻庫(kù)可以將計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍。這對(duì)于半導(dǎo)體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說(shuō)為2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)提供更強(qiáng)大的助力。

計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載，每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)。而NVIDIA cuLitho計(jì)算光刻庫(kù)利用GPU技術(shù)實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時(shí)間。

目前臺(tái)積電、***制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入NVIDIA cuLitho。

黃仁勛表示：“芯片行業(yè)是全球幾乎所有其他行業(yè)的基礎(chǔ)。光刻技術(shù)已臨近物理極限，NVIDIA cuLitho的推出以及我們與 TSMC、ASML 和 Synopsys的合作，使晶圓廠能夠提高產(chǎn)量、減少碳足跡并為2納米及更高工藝奠定基礎(chǔ)?！?/p>

cuLitho在GPU上運(yùn)行，其性能比當(dāng)前光刻技術(shù)工藝（通常指在硅晶圓上繪制電路）提高了40倍，能夠?yàn)槟壳懊磕晗臄?shù)百億CPU小時(shí)的大規(guī)模計(jì)算工作負(fù)載提供加速。

憑借這項(xiàng)技術(shù)，500個(gè)NVIDIA DGX H100系統(tǒng)即可完成原本需要4萬(wàn)個(gè)CPU系統(tǒng)才能完成的工作，它們能夠同時(shí)運(yùn)行計(jì)算光刻工藝的所有流程，助力降低耗電以及對(duì)環(huán)境的影響。

在短期內(nèi)，使用cuLitho的晶圓廠每天的光掩模（芯片設(shè)計(jì)模板）產(chǎn)量可增加3-5倍，而耗電量可以比當(dāng)前配置降低9倍。原本需要兩周時(shí)間才能完成的光掩?，F(xiàn)在可以在一夜之間完成。

從長(zhǎng)遠(yuǎn)來(lái)看，cuLitho將帶來(lái)更好的設(shè)計(jì)規(guī)則、更高的密度和產(chǎn)量以及AI驅(qū)動(dòng)的光刻技術(shù)。