在基礎(chǔ)科研中，微納結(jié)構(gòu)的跨尺度光刻逐漸成為研究者在制備樣品過程中的必要手段。常規(guī)***需要定制光學(xué)掩模板，這不僅增高成本，還使靈活性大打折扣，即當(dāng)發(fā)生任何設(shè)計(jì)上的變動(dòng)，都需要重新制造掩模板。激光直寫設(shè)備具備高靈活性，且可以實(shí)現(xiàn)較高精度，但由于是逐行掃描，曝光效率較低。近些年，基于空間光調(diào)制器（DMD/DLP）的技術(shù)在紫外曝光方面獲得了長足的進(jìn)展。

閃光科技為您推出TTT-07-UV Litho-ACA無掩模板紫外***就采用空間光調(diào)制器的光刻技術(shù)，使得其在光學(xué)掩模板設(shè)計(jì)上有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。其分辨率可達(dá)1 μm，高性能無鐵芯直線驅(qū)動(dòng)電機(jī)保證了套刻精度和6英寸的圖形拼接。同時(shí)，其研發(fā)團(tuán)隊(duì)通過定制化微納結(jié)構(gòu)與器件的低成本、效率達(dá)成批量制造，實(shí)現(xiàn)規(guī)模化應(yīng)用，助力電子、光學(xué)和生物等領(lǐng)域的微納米器件研究與開發(fā)。

主要應(yīng)用方向包括： 微流道芯片，微納結(jié)構(gòu)曝光，電輸運(yùn)測(cè)試/光電測(cè)試器件，二維材料的電極搭建，太赫茲/毫米波器件制備，光學(xué)掩模板的制作等。

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審核編輯黃宇