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正片工藝、負(fù)片工藝,這兩種PCB生產(chǎn)工藝的差異到底是什么?

華秋電子 ? 2022-12-08 15:28 ? 次閱讀

在前文《什么是加成法、減成法與半加成法?》中,我們提到:減成法仍為當(dāng)前PCB生產(chǎn)工藝的主流,那么,其中的兩大代表工藝——正片工藝、負(fù)片工藝,又是怎樣的呢?

請(qǐng)看下圖:

圖片

當(dāng)然,這樣是不夠直觀的,假如朋友們對(duì)于PCB生產(chǎn)工藝的基礎(chǔ)知識(shí)了解較少,請(qǐng)?jiān)倏聪聢D:

圖片圖片

如圖,單從流程上看,其實(shí)負(fù)片和正片的最大差異就是,是否需要在圖形轉(zhuǎn)移中的“顯影”之后,再進(jìn)行“圖形電鍍”。

如果再結(jié)合PCB的截面變化來(lái)看,顯然,正片工藝因?yàn)樵黾恿恕皥D形電鍍”,工藝更為復(fù)雜化。

那么,正負(fù)片工藝的差異,到底是什么呢?

對(duì)于搞PCB工藝的朋友來(lái)說(shuō),這個(gè)是挺難說(shuō)的,但如果只是在線上下單PCB多層板的朋友,那么,則建議從產(chǎn)品對(duì)于線路的要求,來(lái)考量?jī)烧咧g的差異。

首先,負(fù)片工藝制作出來(lái)的線路,為正梯形,而正片工藝,則為倒梯形(如下圖)。

圖片

其次,負(fù)片工藝因設(shè)備、藥水等限制,同時(shí)受線路銅厚影響,當(dāng)銅厚在0.5OZ(18μm)時(shí),業(yè)內(nèi)蝕刻線寬的下限通常為2~3mil(50~~~75μm),而正片工藝,則受線路銅厚影響較?。ㄖ饕芨赡ぁ⑺幩?、設(shè)備等的影響)。

最后,負(fù)片工藝制作的線路“上小下大”,線路與基材的結(jié)合力較好,而正片工藝因制作的線路為“上大下小”,當(dāng)線路過(guò)小時(shí)(對(duì)于小的標(biāo)準(zhǔn),目前行業(yè)暫無(wú)統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn),需根據(jù)各板廠自身的制程能力而定),可能因線路底部與基材的結(jié)合力不足,而導(dǎo)致發(fā)生飛線(即鍍銅層與基材剝離)。

所以,綜上所述,正負(fù)片工藝各有優(yōu)劣,并不能單純地說(shuō),哪一種工藝更好,只是就成本而言,負(fù)片工藝會(huì)低于正片工藝。

目前,業(yè)內(nèi)制作“對(duì)于線寬要求不高,或者線路銅厚不太厚(銅厚≥3OZ為厚銅板)”的PCB時(shí),多采用負(fù)片工藝,而在“對(duì)于線寬要求較高”時(shí),采用正片工藝,以達(dá)到“在確保產(chǎn)品品質(zhì)的同時(shí),降低生產(chǎn)成本”的目的。

故此,目前全球生產(chǎn)普通多層板的PCB代工廠,大多仍是采用“內(nèi)層線路使用負(fù)片工藝生產(chǎn),外層線路使用正片工藝生產(chǎn)”的方法。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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