最近有消息稱，在英偉達(dá)等公司增加AI芯片生產(chǎn)量的推動(dòng)下，臺(tái)積電的先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率大幅提升。但盡管如此，7nm芯片量產(chǎn)依舊停滯不前。

相比之下，臺(tái)積電的7納米工藝產(chǎn)能利用率不如5納米工藝。5納米工藝的產(chǎn)能利用率從原來(lái)的50%多增加到70%至80%左右，而7納米工藝的產(chǎn)能利用率也從30%至40%的水平逐步提高至50%左右。

這種情況的原因在于制造7納米芯片所需的關(guān)鍵設(shè)備EUV***難以生產(chǎn)。EUV***是制造7納米芯片的關(guān)鍵工具，具有更高的光刻精度，能夠突破傳統(tǒng)***的制造極限。中芯國(guó)際早在2018年就向全球唯一生產(chǎn)EUV***的廠商ASML訂購(gòu)了一臺(tái)，但至今尚未交付。

由于DUV***無(wú)法滿足先進(jìn)制程芯片的制造需求，中芯國(guó)際無(wú)法實(shí)現(xiàn)7納米工藝的量產(chǎn)。這是一個(gè)極具挑戰(zhàn)性的問(wèn)題，因?yàn)槿驅(qū)UV***的需求已排滿了兩年的訂單，后續(xù)投產(chǎn)周期也需要相當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間，預(yù)計(jì)直到2023年左右才能供貨。這意味著中芯國(guó)際在EUV***方面的生產(chǎn)計(jì)劃受到了很大影響。

編輯：黃飛