一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

劉開輝教授課題組在12英寸二維半導體晶圓批量制備研究中取得進展

DT半導體 ? 來源:DT半導體 ? 2023-07-13 10:36 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

近日,北京大學物劉開輝教授課題組與合作者提出模塊化局域元素供應(yīng)生長技術(shù),成功實現(xiàn)半導體性二維過渡金屬硫族化合物晶圓高效批量化制備,尺寸從2英寸擴展至與主流半導體工藝兼容的12英寸,有望推動二維半導體材料由實驗研究向產(chǎn)業(yè)應(yīng)用過渡。2023年7月4日,相關(guān)研究成果表于Science Bulletin期刊。

c8097cba-20aa-11ee-962d-dac502259ad0.png

研究背景

近年來,二維過渡金屬硫族化合物是最具應(yīng)用前景的二維半導體材料體系之一,有望推動新一代高性能電子、光電子器件變革性技術(shù)應(yīng)用。

晶圓級二維半導體的批量制備,是推動相應(yīng)先進技術(shù)向產(chǎn)業(yè)化過渡的關(guān)鍵所在。二維半導體薄膜尺寸需達到與硅基技術(shù)兼容的直徑300 mm(12-inch)標準,以平衡器件產(chǎn)量與制造成本。因此,批量化、大尺寸、低成本制備過渡金屬硫族化合物晶圓是二維材料走向?qū)嶋H應(yīng)用亟待解決的關(guān)鍵問題之一。

目前,基于化學氣相沉積技術(shù)制備的二維半導體晶圓尺寸主要集中在2-4英寸,生產(chǎn)效率通常限制于每批次一片,難以滿足逐漸增長的二維半導體在基礎(chǔ)研究、產(chǎn)業(yè)化制造等方面的材料需求。

研究內(nèi)容

針對上述難題,劉開輝團隊與合作者提出了一種全新的模塊化局域元素供應(yīng)生長策略,實現(xiàn)了2-12英寸過渡金屬硫族化合物晶圓的批量化制備。

c83b5348-20aa-11ee-962d-dac502259ad0.png

c855336c-20aa-11ee-962d-dac502259ad0.png

c879bbb0-20aa-11ee-962d-dac502259ad0.png

團隊介紹

c8922538-20aa-11ee-962d-dac502259ad0.png

文章信息

c8a3f6c8-20aa-11ee-962d-dac502259ad0.png

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 半導體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    335

    文章

    28871

    瀏覽量

    237185
  • 晶圓
    +關(guān)注

    關(guān)注

    53

    文章

    5154

    瀏覽量

    129724
  • 半導體材料
    +關(guān)注

    關(guān)注

    11

    文章

    571

    瀏覽量

    30087

原文標題:劉開輝教授課題組在12英寸二維半導體晶圓批量制備研究中取得進展

文章出處:【微信號:DT-Semiconductor,微信公眾號:DT半導體】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    簡單認識減薄技術(shù)

    半導體制造流程,在前端工藝階段需保持一定厚度,以確保其流片過程
    的頭像 發(fā)表于 05-09 13:55 ?574次閱讀

    半導體制造流程介紹

    本文介紹了半導體集成電路制造制備制造和
    的頭像 發(fā)表于 04-15 17:14 ?669次閱讀
    <b class='flag-5'>半導體</b><b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>制造流程介紹

    微公司推出12英寸邊緣刻蝕設(shè)備Primo Halona

    SEMICON China 2025展會期間,半導體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡稱“微公司”,股票代碼“688012.SH”)宣布其自主研發(fā)的
    的頭像 發(fā)表于 03-28 09:21 ?615次閱讀

    香港科技大學陳敬課題組揭示GaN與SiC材料的最新研究進展

    香港科技大學電子與計算機工程系陳敬教授課題組,第70屆國際電子器件大會(IEEE International Electron Devices Meeting, IEDM 2024)上報告了多項
    的頭像 發(fā)表于 02-19 11:23 ?692次閱讀
    香港科技大學陳敬<b class='flag-5'>課題組</b>揭示GaN與SiC材料的最新<b class='flag-5'>研究進展</b>

    香港科技大學陳敬教授課題組公布氮化鎵與碳化硅領(lǐng)域多項最新研究成果

    ? 半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)獲悉: 香港科技大學電子與計算機工程系陳敬教授課題組第70屆國際電子器件大會(IEEE International Electron Devices Meeting, IEDM
    的頭像 發(fā)表于 02-19 11:14 ?576次閱讀
    香港科技大學陳敬<b class='flag-5'>教授課題組</b>公布氮化鎵與碳化硅領(lǐng)域多項最新<b class='flag-5'>研究</b>成果

    北航&amp;北大《Nature》:連續(xù)化制備高性能納米復合薄膜材料的新突破

    二維納米材料航空航天、柔性電子、生物醫(yī)學具有廣泛的應(yīng)用前景但連續(xù)化組裝工藝成為了制約發(fā)展的“絆腳石”。 近日,北航在這一領(lǐng)域取得創(chuàng)新性成果北京航空航天大學化學學院程群峰
    的頭像 發(fā)表于 02-10 10:40 ?547次閱讀
    北航&amp;北大《Nature》:連續(xù)化<b class='flag-5'>制備</b>高性能納米復合薄膜材料的新突破

    天域半導體8英寸SiC制備與外延應(yīng)用

    ,但是行業(yè)龍頭企業(yè)已經(jīng)開始研發(fā)基于8英寸SiC的下一代器件和芯片。 近日,廣東天域半導體股份有限公司丁雄杰博士團隊聯(lián)合廣州南砂
    的頭像 發(fā)表于 12-07 10:39 ?1249次閱讀
    天域<b class='flag-5'>半導體</b>8<b class='flag-5'>英寸</b>SiC<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b><b class='flag-5'>制備</b>與外延應(yīng)用

    怎么制備半導體片切割刃料?

    半導體片切割刃料的制備是一個復雜而精細的過程,以下是一種典型的制備方法: 一、原料準備 首先,需要準備高純度的原料,如綠碳化硅和黑碳化
    的頭像 發(fā)表于 12-05 10:15 ?458次閱讀
    怎么<b class='flag-5'>制備</b><b class='flag-5'>半導體</b><b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>片切割刃料?

    半導體研究所在量子點異質(zhì)外延技術(shù)上取得重大突破

    材料的制備和以其為基礎(chǔ)的新型信息器件是信息科技前沿研究的熱點。 近期,中國科學院半導體研究所王占國院士的指導下,
    的頭像 發(fā)表于 11-13 09:31 ?802次閱讀
    <b class='flag-5'>半導體</b><b class='flag-5'>研究</b>所在量子點異質(zhì)外延技術(shù)上<b class='flag-5'>取得</b>重大突破

    氮化鎵劃切過程如何避免崩邊

    半導體市場的發(fā)展。氮化鎵和硅的制造工藝非常相似,12英寸氮化鎵技術(shù)發(fā)展的一大優(yōu)勢是可以利用現(xiàn)有的12英寸
    的頭像 發(fā)表于 10-25 11:25 ?1567次閱讀
    氮化鎵<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b><b class='flag-5'>在</b>劃切過程<b class='flag-5'>中</b>如何避免崩邊

    使用0.5英寸的代工廠

    用電源。 使用超小型半導體制造設(shè)備的光刻工藝演示 眾所周知,半導體制造通常需要巨大的工廠和潔凈室來大規(guī)模生產(chǎn) 12 英寸
    的頭像 發(fā)表于 10-18 16:31 ?586次閱讀
    使用0.5<b class='flag-5'>英寸</b><b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>的代工廠

    功率氮化鎵進入12英寸時代!

    等第三代半導體而言,它們還有提升空間。 ? 就在9月11日,英飛凌宣布率先開發(fā)出全球首項300 mm(12英寸)氮化鎵功率半導體
    的頭像 發(fā)表于 09-23 07:53 ?6561次閱讀
    功率氮化鎵進入<b class='flag-5'>12</b><b class='flag-5'>英寸</b>時代!

    又一企業(yè)官宣已成功制備8英寸SiC

    近日,日本礙子株式會(NGK,下文簡稱日本礙子)在其官網(wǎng)宣布,已成功制備出直徑為8英寸的SiC,并表示公司將于本月低美國ICSCRM
    的頭像 發(fā)表于 09-21 11:04 ?646次閱讀

    信越化學推出12英寸GaN,加速半導體技術(shù)創(chuàng)新

    日本半導體材料巨頭信越化學近日宣布了一項重大技術(shù)突破,成功研發(fā)并制造出專用于氮化鎵(GaN)外延生長的300毫米(即12英寸,標志著公
    的頭像 發(fā)表于 09-10 17:05 ?1516次閱讀

    盛機電減薄機實現(xiàn)12英寸30μm超薄穩(wěn)定加工

    近日,國內(nèi)領(lǐng)先的半導體設(shè)備制造商盛機電傳來振奮人心的消息,其自主研發(fā)的新型WGP12T減薄拋光設(shè)備成功攻克了12英寸
    的頭像 發(fā)表于 08-12 15:10 ?1264次閱讀