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進(jìn)展飛速,英特爾制程大跨步!

晶揚(yáng)電子 ? 來源:晶揚(yáng)電子 ? 2023-08-23 17:11 ? 次閱讀
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英特爾從1972年在馬來西亞設(shè)封測(cè)廠,近日舉行技術(shù)參訪團(tuán)活動(dòng),是該廠區(qū)近51年來首度開放媒體參觀馬來西亞檳城與居林廠區(qū),過程中也讓今年下半年稍晚才要正式發(fā)表、首款采用Intel 4制程的指標(biāo)性Meteor Lake處理器,在生產(chǎn)線的實(shí)際運(yùn)作情形得以首次曝光。 這意味該芯片已進(jìn)入最后準(zhǔn)備階段,也顯示英特爾四年要推進(jìn)五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)的計(jì)劃又往前跨一大步。

英特爾在全球共有十個(gè)生產(chǎn)據(jù)點(diǎn),這次邀請(qǐng)全球上百名媒體與分析師參訪在檳城的組裝測(cè)試廠、故障分析實(shí)驗(yàn)室、驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)室,以及位于居林的晶圓處理加工廠,還有測(cè)試設(shè)備制造廠。

在檳城廠區(qū)的組裝測(cè)試廠中,外界得以親眼直擊英特爾下半年稍晚才要登場(chǎng)的Meteor Lake處理器,采用四個(gè)小芯片合并而成,已經(jīng)在生產(chǎn)線上進(jìn)行最后的組裝測(cè)試。

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目前英特爾量產(chǎn)的最先進(jìn)技術(shù)為Intel 7制程,比前一代Intel 10納米SuperFin制程的每瓦效能提升約10%至15%,而Meteor Lake采用Intel 4制程生產(chǎn),導(dǎo)入極紫外光(EUV)***技術(shù),此制程標(biāo)榜可讓產(chǎn)品的每瓦效能又提升約20%。后續(xù)該公司還要持續(xù)推進(jìn)到Intel 3制程,預(yù)計(jì)今年下半年可準(zhǔn)備量產(chǎn),Intel 20A與18A制程則規(guī)畫分別于明年上、下半年進(jìn)入準(zhǔn)備量產(chǎn)階段。

據(jù)thelec報(bào)道,英特爾表示對(duì)量產(chǎn)Intel 4充滿信心。Intel 4是英特爾工藝中首次應(yīng)用極紫外光(EUV)的案例。據(jù)逆向工程公司IC Knowledge稱,Intel 4工藝產(chǎn)品的性能優(yōu)于臺(tái)積電5nm工藝,與三星電子3nm和臺(tái)積電3nm相似。這意味著晶體管集成度高于其他公司的3nm工藝。英特爾此前批評(píng)稱,工藝名稱與半導(dǎo)體的實(shí)際晶體管長(zhǎng)度不一樣。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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原文標(biāo)題:進(jìn)展飛速,英特爾制程大跨步!可比肩臺(tái)積電3nm,新處理器量產(chǎn)已進(jìn)入最后階段!

文章出處:【微信號(hào):晶揚(yáng)電子,微信公眾號(hào):晶揚(yáng)電子】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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