***#半導(dǎo)體#***
特點(diǎn):導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體和絕緣體。
特性:
(1)光敏特性:光照可以改變半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力;
(2)熱敏特性:溫度的變化可以改變半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力;
(3)摻雜特性:純凈的半導(dǎo)體里,摻入少量特定的雜質(zhì)元素,來改變半導(dǎo)體的導(dǎo)電性。
單晶體:半導(dǎo)體材料的原子按結(jié)晶方式規(guī)則地排列,形成的半導(dǎo)體晶體;
多晶體:原子排列不規(guī)則,形成的半導(dǎo)體晶體。
本征半導(dǎo)體:高度提純,結(jié)構(gòu)完整的半導(dǎo)體晶體。
常用的半導(dǎo)體材料就是硅(Si)和鍺(Ge)。它們兩個(gè)最外層電子都是4個(gè)電子,又叫做“價(jià)電子”。我們之后討論的都是用硅和鍺制作成的本征半導(dǎo)體。
本征半導(dǎo)體的兩種載流子:自由電子和空穴。
***#自由電子和空穴#***
自由電子:當(dāng)?shù)玫揭欢ǖ哪芰浚ū热纾簾崃?、光照等),少量的價(jià)電子就會(huì)擺脫束縛跑出來,成為自由移動(dòng)的電子。當(dāng)外加電場時(shí),帶負(fù)電的自由電子逆向移動(dòng),形成電流。
空穴:價(jià)電子跑出來就會(huì)在共價(jià)鍵那留下一個(gè)空位,當(dāng)外加電場時(shí),它的鄰居會(huì)前來補(bǔ)充,這樣循環(huán)往復(fù),從而形成電流。
需要注意的是,雖然都是電子移動(dòng),但是空穴你可以認(rèn)為是正電荷空位在向前移。
所以:帶負(fù)電荷的自由電子和帶正電荷的空穴。
它們成對出現(xiàn),又被叫做“電子空穴對”,二者電荷量相等,極性相反,所以本征半導(dǎo)體顯電中性。
溫度的升高,自由電子和空穴的濃度都會(huì)顯著增加,每升高8°,硅的載流子濃度差不多增大一倍。
***#雜質(zhì)半導(dǎo)體:N形半導(dǎo)體、P形半導(dǎo)體#***
N型半導(dǎo)體:在原有基礎(chǔ)上摻入微量的五價(jià)元素,比如P(磷)或者As(砷)。
五價(jià)元素和四價(jià)元素電子對配對,肯定多出來一個(gè)電子沒地放,所以就成多余的自由電子了,這樣一來,N形雜質(zhì)半導(dǎo)體的自由電子就比空穴多。
P型半導(dǎo)體:摻入微量的三價(jià)元素,比如B(硼)或者In(銦)。
同理,也是電子對配對時(shí),就離譜,確立一個(gè)電子還能再配一對,這樣,空穴就多了,自由電子要少。
總結(jié)一下:
N型:多數(shù)載流子(自由電子),少數(shù)載流子(空穴);
P型:多數(shù)載流子(空穴),少數(shù)載流子(自由電子)。
注意:雖然N、P型半導(dǎo)體是摻入的雜質(zhì)元素,但是依舊保持電中性。
***#PN結(jié)#***
PN結(jié):把一塊N型和一塊P型拼一塊,二者的交界處會(huì)形成一個(gè)極薄的電荷層,我們叫它“PN結(jié)”。
形成過程與原理:我們都知道,不論是氣體還是液體,濃度高的會(huì)向濃度低的擴(kuò)散。在這里也一樣,N型和P型,它們的多數(shù)載流子和少數(shù)載流子都的濃度對應(yīng)相反,二者之間相互擴(kuò)散。P區(qū)的空穴多,向N區(qū)擴(kuò)散,結(jié)果與N區(qū)的電子復(fù)合,導(dǎo)致P區(qū)留下了不能移動(dòng)的負(fù)離子薄層;同理,N區(qū)的電子多,向P區(qū)擴(kuò)散,與P區(qū)的空穴復(fù)合,導(dǎo)致N區(qū)留下了不能移動(dòng)的正離子薄層。這樣,兩側(cè)的薄層極性相反,又不能移動(dòng),那么便形成了電荷區(qū)。
這個(gè)空間電荷區(qū),我們叫它“內(nèi)電場”。
但是啊,我們說,這個(gè)電場是多子擴(kuò)散形成的,那么少子呢?相反,內(nèi)電場會(huì)讓P、N區(qū)的少數(shù)載流子做定向移動(dòng),又叫“漂移運(yùn)動(dòng)”,引起的電流叫“漂移電流”。這樣的少子的移動(dòng)會(huì)補(bǔ)充對方所失去的,內(nèi)電場有所減弱,最終達(dá)到一種動(dòng)態(tài)平衡。
至此,PN結(jié)形成。
這個(gè)時(shí)候,內(nèi)電場有幾個(gè)名字,阻止多子擴(kuò)散,叫它“阻擋層”;幾乎沒有載流子,叫它“耗盡層”。
不一樣的材料,內(nèi)電場電壓也不相同。硅:E=0.6~0.8V;鍺:E=0.1~0.3V。
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