一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

西隴科學(xué)9天8板,回應(yīng)稱“未生產(chǎn)、銷售光刻膠”

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-11-21 14:54 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

11月20日,深圳證券交易所公布《關(guān)于對(duì)西隴科學(xué)股份有限公司的關(guān)注函》。

這封信由貴公司在移動(dòng)公告中說,貴公司沒有生產(chǎn),銷售光刻膠,貴公司生產(chǎn),銷售的光刻膠配套試劑是洗滌劑,顯影液,剝離液等。目前,用于照相粘合劑的上述產(chǎn)品的銷售收入在公司營(yíng)業(yè)收入中所占的比重較低。請(qǐng)結(jié)合相關(guān)產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)鏈模式,市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)狀況,相關(guān)收入在營(yíng)業(yè)收入中所占比重等情況,說明相關(guān)概念對(duì)貴公司生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)產(chǎn)生的具體影響,并充分提示風(fēng)險(xiǎn)。

同行業(yè)上市公司的估值、市盈率、股價(jià)變動(dòng)幅度等,結(jié)合貴公司最近對(duì)股價(jià)的大變動(dòng),進(jìn)行充分的風(fēng)險(xiǎn)提示,應(yīng)該公開而未公開的重大信息,有沒有積極適應(yīng)市場(chǎng)的熱點(diǎn)公司的操縱股價(jià)的情況等進(jìn)行,請(qǐng)確認(rèn)。

20日,西隴科學(xué)(株)發(fā)布公告稱,該公司沒有生產(chǎn)銷售礦產(chǎn)品。公司生產(chǎn)及銷售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠,占公司營(yíng)業(yè)收入的比例,是目前用于上述用途的光刻膠配套。

此前,西隴科學(xué)股價(jià)非正常上漲,11月8日至20日連續(xù)9個(gè)交易日收盤價(jià)價(jià)格偏差值累計(jì)達(dá)到116.02%,股價(jià)短期波動(dòng)幅度較大。

據(jù)西隴科學(xué)官網(wǎng)稱,西隴科學(xué)創(chuàng)建于1983年,2011年6月在深圳證券交易所上市。包括化學(xué)試劑、pcb化學(xué)試劑、濕式電子化學(xué)藥品、原料藥、食品添加劑、光伏電極材料、鋰電極材料等精密化學(xué)藥品及新材料的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及支持服務(wù)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 清洗劑
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    9

    瀏覽量

    6544
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    339

    瀏覽量

    30933
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長(zhǎng)期被日美巨頭壟斷,國(guó)外企業(yè)對(duì)原料和配方高度保密,我國(guó)九成以上光刻膠依賴進(jìn)口。不過近期,國(guó)產(chǎn)光刻膠領(lǐng)域捷報(bào)頻
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?1251次閱讀

    針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?185次閱讀
    針對(duì)晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?286次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠產(chǎn)業(yè)國(guó)內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

    ,是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射,溶解度會(huì)發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料,是光刻工藝中的關(guān)鍵材料。 從芯片生產(chǎn)的工藝流程上來說,光刻膠的應(yīng)用處于芯片設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)當(dāng)中的制造環(huán)節(jié),是芯片制造過程里
    的頭像 發(fā)表于 06-04 13:22 ?198次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?208次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?2172次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?975次閱讀

    三星減少NAND生產(chǎn)光刻膠使用量

    近日,據(jù)相關(guān)報(bào)道,三星電子在3D NAND閃存生產(chǎn)領(lǐng)域取得了重要技術(shù)突破,成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據(jù)悉,三星已經(jīng)制定了未來NAND閃存的生產(chǎn)路線圖,并計(jì)劃在這一
    的頭像 發(fā)表于 11-27 11:00 ?630次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?1664次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠的需求也水漲船高,在微電子制造和納米技
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?1858次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號(hào)資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球,領(lǐng)取公眾號(hào)資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2467次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1536次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?790次閱讀

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過程中,需要把PDMS或SU-8光刻膠根據(jù)所需要的厚度來選擇合適的旋涂轉(zhuǎn)速并且使PDMS或SU-
    的頭像 發(fā)表于 08-26 14:16 ?834次閱讀

    如何成功進(jìn)行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光?

    為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率,光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置,不要有任何干擾。如要這樣做,可檢查如下幾件事。 首先,光掩模和晶圓之間的灰塵或任何其他元素的存在都會(huì)導(dǎo)致不完
    的頭像 發(fā)表于 08-23 14:39 ?684次閱讀