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GaN氮化鎵材料,主要適用于哪些領(lǐng)域

半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān) ? 來源:半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān) ? 作者:半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān) ? 2023-11-28 13:51 ? 次閱讀
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氮化鎵 (GaN) 技術(shù)是一項相對較新的半導(dǎo)體技術(shù),氮化鎵(GaN)晶體管于20世紀(jì)90年代才被發(fā)現(xiàn)。前面金譽半導(dǎo)體講過,它與半導(dǎo)體材料中第一代的Si以及第二代的GaAs等相比,GaN功率器件的性能具有明顯優(yōu)勢。GaN器件是平面器件,與現(xiàn)有的Si半導(dǎo)體工藝兼容性強,因此更容易與其他半導(dǎo)體器件集成,進一步降低用戶的使用門檻,并在不同應(yīng)用領(lǐng)域展現(xiàn)它的屬性和優(yōu)勢,很有可能徹底改變世界。

GaN能應(yīng)用在哪些領(lǐng)域?

1、新型電子器件

GaN材料系列具有低的熱產(chǎn)生率和高的擊穿電場,是研制高溫大功率電子器件和高頻微波器件的重要材料。目前,隨著 MBE技術(shù)在GaN材料應(yīng)用中的進展和關(guān)鍵薄膜生長技術(shù)的突破,成功地生長出了GaN多種異質(zhì)結(jié)構(gòu)。用GaN材料制備出了金屬場效應(yīng)晶體管(MESFET)、異質(zhì)結(jié)場效應(yīng)晶體管(HFET)、調(diào)制摻雜場效應(yīng)晶體管(MODFET)等新型器件。調(diào)制摻雜的AlGaN/GaN結(jié)構(gòu)具有高的電子遷移率(2000cm2/v·s)、高的飽和速度(1×107cm/s)、較低的介電常數(shù),是制作微波器件的優(yōu)先材料;GaN較寬的禁帶寬度(3.4eV) 及藍(lán)寶石等材料作襯底,散熱性能好,有利于器件在大功率條件下工作。

2、光電器件

GaN材料系列是一種理想的短波長發(fā)光器件材料,GaN及其合金的帶隙覆蓋了從紅色到紫外的光譜范圍。自從1991年日本研制出同質(zhì)結(jié)GaN藍(lán)色 LED之后,InGaN/AlGaN雙異質(zhì)結(jié)超亮度藍(lán)色LED、InGaN單量子阱GaNLED相繼問世。目前,Zcd和6cd單量子阱GaN藍(lán)色和綠色 LED已進入大批量生產(chǎn)階段,從而填補了市場上藍(lán)色LED多年的空白。

3.無人駕駛技術(shù)中的應(yīng)用

我們知道激光雷達(dá)使用激光脈沖快速形成三維圖像或為周圍環(huán)境制作電子地圖,速度與精確都是重要指標(biāo)。要實現(xiàn)傳感器和攝像頭之間的最佳搭配,尋求成本控制與可以大批量生產(chǎn)的前提下,最大限度的提升對周圍環(huán)境的感知和視覺能力,GaN的應(yīng)用能夠起到良好效果。

GaN場效應(yīng)晶體管相較MOSFET器件而言,開關(guān)速度快十倍,這就能夠讓LiDAR系統(tǒng)具備優(yōu)越的解像度及更快速反應(yīng)時間等優(yōu)勢,可實現(xiàn)優(yōu)越的開關(guān)轉(zhuǎn)換,因此可推動更高準(zhǔn)確性。這些性能推動全新及更廣闊的LiDAR應(yīng)用領(lǐng)域的出現(xiàn),包括支持電玩應(yīng)用的偵測實時動作、以手勢驅(qū)動指令的計算機及自動駕駛汽車等應(yīng)用。

4.在國防工業(yè)中的應(yīng)用

GaN近年來已經(jīng)成為在軍事應(yīng)用中啟用更高性能系統(tǒng)的關(guān)鍵組件,例如有源電子掃描陣列(AESA)雷達(dá)和電子戰(zhàn)系統(tǒng),都需要更大功率、更小體積和更有效的熱管理。美國的雷神(Raytheon)、諾斯洛普·格魯門(Northrop Grumman)、洛克希德馬丁(Lockheed Martin)等,歐洲的UMS、空中客車(Airbus)、薩博(Saab)等,以及中國電子科技集團公司(CETC),都在推動GaN的應(yīng)用。

此外,GaN在水下通信、激光顯示、醫(yī)療方面等都具有重要應(yīng)用價值。

GaN 獨特的材料屬性使其成為許多應(yīng)用全新首選技術(shù),如5G通信、汽車、照明、雷達(dá)和衛(wèi)星應(yīng)用。但 GaN 制造商和開發(fā)人員并不止步于此。他們繼續(xù)通過技術(shù)革命來推進 GaN 的發(fā)展,這些創(chuàng)新將在未來繼續(xù)開拓新的應(yīng)用領(lǐng)域。

審核編輯:湯梓紅

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