一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

普興電子:200mm 4H-SiC高質(zhì)量厚層同質(zhì)外延生長(zhǎng)

第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè) ? 來(lái)源:第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè) ? 2023-12-25 10:43 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

當(dāng)前,SiC器件已廣泛應(yīng)用在新能源車的主驅(qū)、OBC等關(guān)鍵部件,有效的降低了提升了開(kāi)關(guān)速度,降低了能量損耗,使得整車的重量得到減少,續(xù)航里程得到提升。車用發(fā)展迅速,市場(chǎng)廣闊,在新能源產(chǎn)業(yè)強(qiáng)勁需求下,全球SiC產(chǎn)業(yè)步入高速成長(zhǎng)期,市場(chǎng)快速增長(zhǎng)。

近日,第九屆國(guó)際第三代半導(dǎo)體論壇(IFWS)&第二十屆中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體照明論壇(SSLCHINA)于廈門召開(kāi)。期間,“碳化硅襯底、外延生長(zhǎng)及其相關(guān)設(shè)備技術(shù)”分會(huì)上,河北普興電子科技股份有限公司產(chǎn)品總監(jiān)張永強(qiáng)分享了200 mm 4H-SiC高質(zhì)量厚層同質(zhì)外延生長(zhǎng)的最新研究進(jìn)展。

d3f40088-9f33-11ee-8b88-92fbcf53809c.jpg

普興電子從16年開(kāi)始SiC的研發(fā),19年實(shí)現(xiàn)了6寸SiC外延片的量產(chǎn),21年中標(biāo)國(guó)家工信部碳化硅外延產(chǎn)業(yè)化的項(xiàng)目。目前主要為1200V MOS產(chǎn)品,已通過(guò)車規(guī)級(jí)驗(yàn)證,應(yīng)用在新能源車主驅(qū)模塊上。

d406d596-9f33-11ee-8b88-92fbcf53809c.jpg

d419ad88-9f33-11ee-8b88-92fbcf53809c.jpg

8寸外延是碳化硅外延技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)。報(bào)告顯示,普興電子近期研發(fā)出的8英寸碳化硅外延片的新產(chǎn)品,解決了8寸襯底應(yīng)力大、易開(kāi)裂、外延均勻性及缺陷難控制等難點(diǎn)。厚度均勻性為0.6%,濃度均勻性為2.3%。8寸產(chǎn)品的均勻性已達(dá)到與6寸量產(chǎn)產(chǎn)品相當(dāng)?shù)乃健?/strong>

普興公司是國(guó)內(nèi)最早外延材料研究工作的單位,目前具備的硅外延的年產(chǎn)能為700萬(wàn)片,其中200 萬(wàn)片為8寸硅外延片。6寸碳化硅外延的年產(chǎn)能為15萬(wàn)片;預(yù)計(jì)到24年,6寸碳化硅外延片的年產(chǎn)能將擴(kuò)充到36萬(wàn)片;25年8寸碳化硅外延片的年產(chǎn)能將擴(kuò)充到6到8萬(wàn)片。







審核編輯:劉清

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 新能源車
    +關(guān)注

    關(guān)注

    3

    文章

    651

    瀏覽量

    24704
  • SiC
    SiC
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    3222

    瀏覽量

    65168
  • 碳化硅
    +關(guān)注

    關(guān)注

    25

    文章

    3064

    瀏覽量

    50450

原文標(biāo)題:普興電子張永強(qiáng):200 mm 4H-SiC高質(zhì)量厚層同質(zhì)外延生長(zhǎng)

文章出處:【微信號(hào):第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),微信公眾號(hào):第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    一文詳解外延生長(zhǎng)技術(shù)

    隨著半導(dǎo)體器件特征尺寸不斷微縮,對(duì)高質(zhì)量薄膜材料的需求愈發(fā)迫切。外延技術(shù)作為一種在半導(dǎo)體工藝制造中常用的單晶薄膜生長(zhǎng)方法,能夠在單晶襯底上按襯底晶向生長(zhǎng)新的單晶薄膜,為提升器件性能發(fā)揮
    的頭像 發(fā)表于 06-16 11:44 ?940次閱讀
    一文詳解<b class='flag-5'>外延</b><b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>技術(shù)

    在晶圓襯底上生長(zhǎng)外延的必要性

    本文從多個(gè)角度分析了在晶圓襯底上生長(zhǎng)外延的必要性。
    的頭像 發(fā)表于 04-17 10:06 ?266次閱讀

    英飛凌200mm SiC技術(shù)取得突破,2025年首供客戶

    英飛凌在200mm碳化硅(SiC)產(chǎn)品領(lǐng)域取得了重大進(jìn)展,計(jì)劃在2025年第一季度向客戶推出首批基于這一先進(jìn)技術(shù)的產(chǎn)品。這些創(chuàng)新產(chǎn)品將在奧地利的菲拉赫生產(chǎn)基地制造,標(biāo)志著英飛凌在高壓應(yīng)用領(lǐng)域邁出
    的頭像 發(fā)表于 02-19 15:35 ?686次閱讀

    英飛凌達(dá)成200mm碳化硅(SiC)新里程碑:開(kāi)始交付首批產(chǎn)品

    2月18日,英飛凌科技股份公司在200 mm SiC產(chǎn)品路線圖上取得重大進(jìn)展。公司將于2025年第一季度向客戶提供首批基于先進(jìn)的200 mm
    的頭像 發(fā)表于 02-18 17:45 ?2655次閱讀
    英飛凌達(dá)成<b class='flag-5'>200mm</b>碳化硅(<b class='flag-5'>SiC</b>)新里程碑:開(kāi)始交付首批產(chǎn)品

    英飛凌達(dá)成200mm碳化硅(SiC)新里程碑:開(kāi)始交付首批產(chǎn)品

    英飛凌開(kāi)始向客戶提供首批采用先進(jìn)的200mm碳化硅(SiC)晶圓制造技術(shù)的SiC產(chǎn)品這些產(chǎn)品在奧地利菲拉赫生產(chǎn),為高壓應(yīng)用領(lǐng)域提供一流的SiC功率技術(shù)
    的頭像 發(fā)表于 02-18 17:32 ?676次閱讀
    英飛凌達(dá)成<b class='flag-5'>200mm</b>碳化硅(<b class='flag-5'>SiC</b>)新里程碑:開(kāi)始交付首批產(chǎn)品

    應(yīng)力消除外延生長(zhǎng)裝置及外延生長(zhǎng)方法

    引言 在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,碳化硅(SiC)因其出色的物理和化學(xué)特性,如高硬度、高熱導(dǎo)率、高擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度等,成為制造高功率、高頻電子器件的理想材料。然而,在大尺寸SiC外延
    的頭像 發(fā)表于 02-08 09:45 ?268次閱讀
    應(yīng)力消除<b class='flag-5'>外延</b><b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>裝置及<b class='flag-5'>外延</b><b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>方法

    廣汽集團(tuán)召開(kāi)高質(zhì)量發(fā)展大會(huì)

    春回大地,萬(wàn)象更新。近兩日廣東省、廣州市聚焦“建設(shè)現(xiàn)代化產(chǎn)業(yè)體系”主題,相繼召開(kāi)“新春第一會(huì)”——高質(zhì)量發(fā)展大會(huì),吹響奮進(jìn)號(hào)角。廣汽集團(tuán)黨委書(shū)記、董事長(zhǎng)馮亞作為省市重點(diǎn)產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展代表參加會(huì)議,與產(chǎn)學(xué)研各界代表共聚一堂,共繪
    的頭像 發(fā)表于 02-07 10:18 ?594次閱讀

    提高SiC外延生長(zhǎng)速率和品質(zhì)的方法

    SiC外延設(shè)備的復(fù)雜性主要體現(xiàn)在反應(yīng)室設(shè)計(jì)、加熱系統(tǒng)和旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)等關(guān)鍵部件的精確控制上。在SiC外延生長(zhǎng)過(guò)程中,晶型夾雜和缺陷問(wèn)題頻發(fā),嚴(yán)重影
    的頭像 發(fā)表于 02-06 10:10 ?712次閱讀

    用于半導(dǎo)體外延生長(zhǎng)的CVD石墨托盤結(jié)構(gòu)

    一、引言 在半導(dǎo)體制造業(yè)中,外延生長(zhǎng)技術(shù)扮演著至關(guān)重要的角色。化學(xué)氣相沉積(CVD)作為一種主流的外延生長(zhǎng)方法,被廣泛應(yīng)用于制備高質(zhì)量
    的頭像 發(fā)表于 01-08 15:49 ?364次閱讀
    用于半導(dǎo)體<b class='flag-5'>外延</b>片<b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>的CVD石墨托盤結(jié)構(gòu)

    鐘罩式熱壁碳化硅高溫外延生長(zhǎng)裝置

    一、引言 隨著半導(dǎo)體技術(shù)的飛速發(fā)展,碳化硅(SiC)作為一種具有優(yōu)異物理和化學(xué)性質(zhì)的材料,在電力電子、微波器件、高溫傳感器等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力。高質(zhì)量、大面積的SiC
    的頭像 發(fā)表于 01-07 15:19 ?423次閱讀
    鐘罩式熱壁碳化硅高溫<b class='flag-5'>外延</b>片<b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>裝置

    高溫大面積碳化硅外延生長(zhǎng)裝置及處理方法

    碳化硅(SiC)作為一種具有優(yōu)異物理和化學(xué)性質(zhì)的半導(dǎo)體材料,在電力電子、航空航天、新能源汽車等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力。高質(zhì)量、大面積的SiC外延
    的頭像 發(fā)表于 01-03 15:11 ?382次閱讀
    高溫大面積碳化硅<b class='flag-5'>外延</b><b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>裝置及處理方法

    8英寸單片高溫碳化硅外延生長(zhǎng)室結(jié)構(gòu)

    隨著碳化硅(SiC)材料在電力電子、航空航天、新能源汽車等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,高質(zhì)量、大面積的SiC外延生長(zhǎng)
    的頭像 發(fā)表于 12-31 15:04 ?398次閱讀
    8英寸單片高溫碳化硅<b class='flag-5'>外延</b><b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>室結(jié)構(gòu)

    磨料形貌及分散介質(zhì)對(duì)4H碳化硅晶片研磨質(zhì)量有哪些影響

    磨料形貌及分散介質(zhì)對(duì)4H碳化硅(4H-SiC)晶片研磨質(zhì)量具有顯著影響。以下是對(duì)這一影響的詳細(xì)分析: 一、磨料形貌的影響 磨料形貌是研磨過(guò)程中影響4H-SiC晶片
    的頭像 發(fā)表于 12-05 14:14 ?492次閱讀
    磨料形貌及分散介質(zhì)對(duì)<b class='flag-5'>4H</b>碳化硅晶片研磨<b class='flag-5'>質(zhì)量</b>有哪些影響

    一文詳解SiC單晶生長(zhǎng)技術(shù)

    高質(zhì)量低缺陷的SiC晶體是制備SiC功率半導(dǎo)體器件的關(guān)鍵,目前比較主流的生長(zhǎng)方法有PVT法、液相法以及高溫CVD法等,本文帶你了解以上三種SiC
    的頭像 發(fā)表于 11-14 14:51 ?1788次閱讀
    一文詳解<b class='flag-5'>SiC</b>單晶<b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>技術(shù)

    SiC外延生長(zhǎng)技術(shù)的生產(chǎn)過(guò)程及注意事項(xiàng)

    SiC外延生長(zhǎng)技術(shù)是SiC功率器件制備的核心技術(shù)之一,外延質(zhì)量直接影響
    的頭像 發(fā)表于 11-14 14:46 ?1411次閱讀
    <b class='flag-5'>SiC</b><b class='flag-5'>外延</b><b class='flag-5'>生長(zhǎng)</b>技術(shù)的生產(chǎn)過(guò)程及注意事項(xiàng)