12 月 27 日,相關(guān)調(diào)查顯示,集邦咨詢預(yù)計(jì) 2023 年半導(dǎo)體光刻膠銷售額將下滑 6-9%。盡管面臨挑戰(zhàn),但由于下游客戶庫(kù)存逐步減少以及產(chǎn)能逐漸恢復(fù),預(yù)期 2024 年半導(dǎo)體業(yè)或?qū)⒂瓉?lái)復(fù)蘇,進(jìn)而帶動(dòng)光刻膠需求回升。
所謂的“光刻膠”,即是在紫外線、電子束等輻射下,其溶解度會(huì)產(chǎn)生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關(guān)鍵要素,廣泛應(yīng)用于晶圓和分立器件的精細(xì)圖案制作中。其品種繁多,此次漲價(jià)涉及的KrF 光刻膠則屬高級(jí)別光刻膠,將成為各廠商關(guān)注的焦點(diǎn)。
當(dāng)前光刻膠市場(chǎng)由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)以及東進(jìn)半導(dǎo)體等主要制造商主導(dǎo)。據(jù)悉,光刻膠行業(yè)高度專業(yè)化且涉及復(fù)雜的樹脂、感光酸及添加劑配制,這被各公司視為重要商業(yè)秘密。這一方面源于巨大的技術(shù)壁壘,另一方面,從模擬試驗(yàn)到實(shí)際生產(chǎn)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量和性能的嚴(yán)格要求,都增加了開發(fā)難度與時(shí)間成本。
另?yè)?jù)報(bào)道,由于滿足客戶需求和生產(chǎn)線調(diào)整需經(jīng)過漫長(zhǎng)的 1 至 3 年驗(yàn)證期,客戶常難轉(zhuǎn)向現(xiàn)有的光刻膠供應(yīng)商。
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晶圓
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國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)
針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料
光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)

一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見光刻膠
國(guó)產(chǎn)光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

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