據(jù)天眼查公告,華為新獲專利與用電設備及芯片表面溫度控制相關。該項專利通過實時監(jiān)測用電設備及芯片表面溫度并調(diào)節(jié)設備運行狀態(tài),從而優(yōu)化用戶體驗。

專利內(nèi)容摘要指出,該專利涉及一種綜合用電設備表面溫度控制方案,包含用電設備、控制裝置、記憶介質(zhì)和晶片系統(tǒng)等。其具體步驟為獲取設備內(nèi)外部的熱源溫度數(shù)據(jù),建立溫度預測模型并依據(jù)預測溫度調(diào)整設備運行狀態(tài),以實現(xiàn)對用電設備表面溫度的高效控制。依據(jù)此專利,可有效解決溫度控制中的延遲問題,提前根據(jù)模型預測進行溫度調(diào)控,提高用電設備表面溫度掌控能力,提升使用感受。
此外,據(jù)報道,華為前三季度研發(fā)費用高達人民幣1149.91億元,據(jù)稱未來十年內(nèi)研發(fā)投入可達到萬億元以上。而在歐盟最新數(shù)據(jù)排行中,華為研發(fā)費用位居全球第五。
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