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初創(chuàng)公司突然倒閉,垂直GaN量產(chǎn)進展如何?

Hobby觀察 ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:梁浩斌 ? 2024-02-07 00:08 ? 次閱讀
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電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/梁浩斌)今年1月,美國GaN初創(chuàng)公司NexGen Power Systems突然被曝人去樓空,工廠被關閉,據(jù)消息稱該公司在2023年圣誕節(jié)前夕就已經(jīng)破產(chǎn)倒閉。NexGen成立于2017年,專注于垂直GaN器件的研發(fā)和生產(chǎn),成立以來獲得了紐約州合計超過1億美元的資助,并擁有一家晶圓廠。

值得一提的是,NexGen去年還有多項重大進展,包括他們在年初宣布已開始發(fā)運首批700V和1200V垂直GaN器件的工程樣品,并且預計在2023年第三季度全面量產(chǎn)。在去年6月,NexGen還與通用汽車獲得了美國能源部的資助,共同開發(fā)基于GaN的電動汽車電驅(qū)逆變器

雖然公司已經(jīng)倒閉,但垂直GaN的應用進展依然值得我們關注。

什么是垂直GaN?

垂直GaN中“垂直”是指器件的結(jié)構(gòu),簡單可以理解為器件中陽極和陰極相對的位置,目前大多數(shù)硅基GaN器件是平面型結(jié)構(gòu),即陽極和陰極處于同一平面上,導通電流在器件中橫向流動;而垂直型GaN一般是基于GaN襯底,GaN襯底底面為陰極,陽極則位于上方,導通電流是豎向流動。

這就類似于目前大功率的MOSFET器件,高電壓等級和電流等級的MOSFET器件,基本都采用垂直型的結(jié)構(gòu)。

相比橫向的硅基GaN或是碳化硅基GaN器件,垂直GaN器件由于采用了GaN襯底同質(zhì)外延層,具有更低的位錯密度,器件可靠性高,性能也更高。而具體到器件上,GaN二極管晶體管都能采用垂直結(jié)構(gòu)。

垂直GaN的優(yōu)勢

與橫向或者說是平面結(jié)構(gòu)GaN器件相比,垂直結(jié)構(gòu)的GaN擁有諸多優(yōu)勢。首先是前面提到的,采用了GaN襯底同質(zhì)外延層,具有更低的位錯密度,外延層缺陷密度低,器件可靠性更高;

第二是由于器件結(jié)構(gòu)上的優(yōu)勢,在相同的器件面積下,可以通過增加位于晶體管內(nèi)部的漂移層(用于傳導電流)的厚度,來提高電壓等級,能夠用于更高電壓的應用中;同時,電流導通路徑的面積大,可以承受較高的電流密度。

另外,垂直結(jié)構(gòu)能夠更容易產(chǎn)生雪崩效應,在超過擊穿電壓的情況下,雪崩最初通過反向極化柵源二極管發(fā)生,隨后導致雪崩電流增加柵源電壓并且溝道打開并導通。這是一種設備自我保護的重要屬性,如果器件兩端電壓或?qū)ǖ碾娏鞒霈F(xiàn)峰值,擁有雪崩特性的器件就可以吸收這些電涌并保持正常運行,在工業(yè)領域有很大的應用空間。

目前,業(yè)內(nèi)在垂直GaN器件上商業(yè)落地進展最快的大概是美國Odyssey 公司,該公司在去年第一季度宣布已經(jīng)向客戶提供樣品,而最快在2023年第四季度之前還將會提供更多樣品。

去年NexGen也表示已開始發(fā)運首批700V和1200V垂直GaN器件的工程樣品,據(jù)公司介紹,其1200V垂直GaN E-Mode Fin-jfet是唯一在1.4kV額定電壓下成功實現(xiàn)高頻開關的GaN器件,當時還宣稱這些器件預計將于2023年第三季度開始全面生產(chǎn)。

當然,現(xiàn)在NexGen也已經(jīng)倒閉,而他們的產(chǎn)品和技術將流向何方,還是未知數(shù)。

另外,日本信越、歐洲YESvGaN項目、國內(nèi)的蘇州納米所、中鎵科技等研究機構(gòu)和企業(yè)都在垂直GaN領域持續(xù)投入研發(fā),國內(nèi)西安電子科技大學和電子科技大學也在垂直GaN的專利上較為領先。




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