英特爾完成高數(shù)值孔徑EUV光刻機，將用于14A制程
芯片巨頭英特爾于18日宣布，在其俄勒岡州研究機構中成功組裝了全球首臺用于商業(yè)領域的高數(shù)值孔徑極紫外光（High-NA EUV）光刻機。
半導體設備制造商阿斯麥（ASML）于去年底在社交媒體上發(fā)布照片，揭示已向英特爾提供第一套高數(shù)值孔徑EUV系統(tǒng)的關鍵部件。如今英特爾宣布已完成組裝，這無疑展示了其在行業(yè)中的領先地位。
英特爾正在實施一項為期四年的五個制程節(jié)點發(fā)展計劃，預計最尖端的工藝將達到Intel 18A級別。在此基礎上，英特爾計劃在Intel 14A制程中正式引入高數(shù)值孔徑EUV技術。據(jù)分析師預測，這套設備的售價可能高達2.5億歐元。
英特爾近期表示，將在2027年前推出14A和Intel 14A-E兩個制程。
英特爾強調(diào)，目前正在對高數(shù)值孔徑EUV設備TWINSCAN EXE:5000進行校準，該設備與公司晶圓廠內(nèi)的其他技術相結(jié)合，有望實現(xiàn)比現(xiàn)有EUV設備更小的特征尺寸，縮小至原來的1.7倍。
此外，英特爾還計劃購買下一代TWINSCAN EXE:5200B系統(tǒng)。
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