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碳化硅(SiC)MOSFET替代硅基IGBT常見問題Q&A

楊茜 ? 來源:jf_33411244 ? 作者:jf_33411244 ? 2025-03-13 11:12 ? 次閱讀

碳化硅(SiC)MOSFET作為替代傳統(tǒng)硅基IGBT的新一代功率器件,在電動(dòng)汽車、可再生能源、高頻電源等領(lǐng)域展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢(shì),隨著國產(chǎn)碳化硅MOSFET技術(shù)、成本及供應(yīng)鏈都日趨完善,國產(chǎn)SiC碳化硅在電力電子應(yīng)用中全面取代進(jìn)口IGBT,助力中國電力電子行業(yè)自主可控和產(chǎn)業(yè)升級(jí)!以下是針對(duì)碳化硅MOSFET替代IGBT的常見問題及解答,結(jié)合行業(yè)現(xiàn)狀與技術(shù)發(fā)展進(jìn)行綜合分析:

問題1:國產(chǎn)碳化硅MOSFET成本低于或者持平進(jìn)口IGBT

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解答
國產(chǎn)碳化硅MOSFET的初始成本已經(jīng)低于或者持平于進(jìn)口IGBT,并且其國產(chǎn)碳化硅MOSFET系統(tǒng)級(jí)成本優(yōu)勢(shì)顯著。例如:

效率提升:國產(chǎn)SiC MOSFET的開關(guān)損耗降低70%,導(dǎo)通損耗更低,可減少散熱系統(tǒng)體積及能耗。在電動(dòng)汽車中,使用SiC逆變器可提升續(xù)航5%-8%,降低電池容量需求,節(jié)省整車成本。

長期收益:高頻電源應(yīng)用中(如電鍍、焊接),國產(chǎn)SiC模塊通過節(jié)能和減少維護(hù)成本,回本周期可縮短至1-2年。

規(guī)?;当?/strong>:8英寸襯底量產(chǎn)、良率提升、工藝優(yōu)化等措施推動(dòng)成本快速下降,預(yù)計(jì)2027年國產(chǎn)SiC成大幅度低于IGBT,預(yù)計(jì)僅為IGBT的一半價(jià)格。

wKgZPGfSTSyASGU8AA_JAksvI_I601.pngwKgZO2fSTSyAFVY9AB0CDjkeLcU623.png

問題2:碳化硅驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)復(fù)雜,如何解決?

解答
SiC MOSFET的驅(qū)動(dòng)需更高電壓(+18V)和負(fù)壓關(guān)斷(-3~-5V),并需應(yīng)對(duì)米勒效應(yīng)帶來的誤開通風(fēng)險(xiǎn)。解決方案包括:

專用驅(qū)動(dòng)芯片:如基本半導(dǎo)體的BTD25350驅(qū)動(dòng)芯片集成米勒鉗位功能,可抑制寄生導(dǎo)通,降低關(guān)斷損耗35%-40%。

系統(tǒng)優(yōu)化:采用Kelvin源極連接封裝(如TO-247-4)減少寄生電感,并通過低環(huán)路PCB布局降低電壓尖峰。

配套方案:廠商提供驅(qū)動(dòng)IC、隔離電源及參考設(shè)計(jì)(如BASiC基本股份的BTP1521P電源IC),簡(jiǎn)化適配難度。

問題3:碳化硅的可靠性與壽命是否足夠?

解答
部分國產(chǎn)SiC MOSFET因工藝缺陷(如柵氧層過?。┗蛘叩讓庸に嚰癉OE設(shè)計(jì)能力不足導(dǎo)致可靠性問題,但頭部企業(yè)已突破關(guān)鍵技術(shù):

工藝改進(jìn):優(yōu)化器件結(jié)構(gòu)和工藝、缺陷控制及封裝技術(shù)(如銅燒結(jié)工藝),使HTGB測(cè)試達(dá)到+22V/3000小時(shí)標(biāo)準(zhǔn),接近國際水平。

認(rèn)證與驗(yàn)證:通過AEC-Q101車規(guī)認(rèn)證,并在工業(yè)場(chǎng)景積累數(shù)萬小時(shí)運(yùn)行數(shù)據(jù),逐步建立市場(chǎng)信任。

熱管理:SiC導(dǎo)熱系數(shù)為硅的4倍,結(jié)合低熱阻封裝(如0.29K/W),支持175°C高溫工作,延長系統(tǒng)壽命。

問題4:國際供應(yīng)鏈依賴如何破局?

解答
國產(chǎn)SiC產(chǎn)業(yè)鏈已實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵突破:

材料與制造:天岳先進(jìn)等企業(yè)量產(chǎn)導(dǎo)電型襯底,8英寸良率提升至60%;IDM模式(如基本半導(dǎo)體)覆蓋設(shè)計(jì)-制造-封測(cè)全鏈條,降低代工依賴。

政策支持:專項(xiàng)基金扶持襯底、外延等核心技術(shù)研發(fā),推動(dòng)國產(chǎn)替代率從2022年的35%提升至2024年的80%。

國際合作:車企與半導(dǎo)體廠商比如BASiC基本股份(BASiC Semiconductor)合作開發(fā)定制化模塊,加速技術(shù)吸收。

問題5:高頻應(yīng)用中的寄生參數(shù)如何應(yīng)對(duì)?

解答
高頻場(chǎng)景(如100kHz以上)需優(yōu)化布局與驅(qū)動(dòng):

低電感設(shè)計(jì):模塊寄生電感控制在20nH以內(nèi),減少開關(guān)振蕩和EMI干擾。

快速體二極管:SiC MOSFET體二極管恢復(fù)時(shí)間僅28ns(硅基為184ns),無需外接快恢復(fù)二極管,簡(jiǎn)化電路。

驅(qū)動(dòng)芯片選型:支持高拉/灌電流(如±15A)的驅(qū)動(dòng)芯片滿足快速開關(guān)需求,適配高頻電源設(shè)計(jì)。

BASiC基本股份針對(duì)SiC碳化硅MOSFET多種應(yīng)用場(chǎng)景研發(fā)推出門極驅(qū)動(dòng)芯片,可適應(yīng)不同的功率器件和終端應(yīng)用。BASiC基本股份的門極驅(qū)動(dòng)芯片包括隔離驅(qū)動(dòng)芯片和低邊驅(qū)動(dòng)芯片,絕緣最大浪涌耐壓可達(dá)8000V,驅(qū)動(dòng)峰值電流高達(dá)正負(fù)15A,可支持耐壓1700V以內(nèi)功率器件的門極驅(qū)動(dòng)需求。

BASiC基本股份低邊驅(qū)動(dòng)芯片可以廣泛應(yīng)用于PFC、DCDC、同步整流,反激等領(lǐng)域的低邊功率器件的驅(qū)動(dòng)或在變壓器隔離驅(qū)動(dòng)中用于驅(qū)動(dòng)變壓器,適配系統(tǒng)功率從百瓦級(jí)到幾十千瓦不等。

BASiC基本股份推出正激 DCDC 開關(guān)電源芯片BTP1521P,BTP1521F,該芯片集成上電軟啟動(dòng)功能、過溫保護(hù)功能,輸出功率可達(dá)6W。芯片工作頻率通過OSC 腳設(shè)定,最高工作頻率可達(dá)1.5MHz,非常適合給隔離驅(qū)動(dòng)芯片副邊電源供電。

對(duì)SiC碳化硅MOSFET單管及模塊+18V/-4V驅(qū)動(dòng)電壓的需求,BASiC基本股份提供自研電源IC BTP1521P系列和配套的變壓器以及驅(qū)動(dòng)IC BTL27524或者隔離驅(qū)動(dòng)BTD5350MCWR(支持米勒鉗位)。

wKgZPGfSTS2AfqgBAA799mqhDdE132.pngwKgZO2fSTS6AWdxmAAjSOgMc5h0440.pngwKgZPGfSTS6Ac_obAAV8tbb_2qw563.pngwKgZO2fSTS-AVX5TAAagIXdo_Cg834.pngwKgZPGfSTS-Ae4GYAAei5tULMcs850.pngwKgZO2fSTS-APg1hAAeCwWiSQRs525.png

結(jié)論

碳化硅MOSFET替代IGBT的進(jìn)程隨著國產(chǎn)碳化硅MOSFET技術(shù)突破、成本優(yōu)化及市場(chǎng)需求的共同驅(qū)動(dòng)。隨著國產(chǎn)碳化硅MOSFET解決了初期成本壓力及供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn),其在高壓平臺(tái)、高頻應(yīng)用中的方案優(yōu)勢(shì)和不可替代性更加顯現(xiàn)。未來,隨著國產(chǎn)技術(shù)成熟度提升、標(biāo)準(zhǔn)化建設(shè)完善及資本理性投入,國產(chǎn)碳化硅功率半導(dǎo)體從“替代者”邁向“主導(dǎo)者”,重塑功率半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局。

審核編輯 黃宇

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