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算力革命背后的隱形力量:仁懋MOSFET如何讓服務(wù)器電源效率狂飆?

仁懋電子 ? 2025-03-21 17:35 ? 次閱讀

算力時代的高壓挑戰(zhàn)

隨著AI大模型訓(xùn)練集群規(guī)模突破10萬卡,單機柜功率密度已飆升至30kW,傳統(tǒng)服務(wù)器電源MOSFET面臨極限考驗——1%的效率差距意味著單數(shù)據(jù)中心年損耗超5000萬度電。仁懋電子專為高壓直流場景打造的MOT12N65T/MOT35N65T,以 “高頻高效、極寒散熱”重新定義服務(wù)器電源MOS選型標(biāo)準(zhǔn)。

技術(shù)破局:三重復(fù)合戰(zhàn)力

1. 導(dǎo)通損耗碾壓式領(lǐng)先

MOT35N65T采用自主SJ超結(jié)工藝,實現(xiàn)RDS(on)=220mΩ@10V,較上一代降低22%。在世紀(jì)應(yīng)用中,導(dǎo)通損耗減少18%,助力整機效率突破鈦金級(96%)。

動態(tài)均流技術(shù):電流偏差<3%,避免局部過熱引發(fā)的雪崩失效。

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2. 高頻開關(guān)性能革命

MOT12N65T:優(yōu)化柵極電荷(Qg=45nC)與米勒電容(Crss=17pF),支持500kHz高頻開關(guān):

- 開關(guān)損耗較平面MOS降低40%,滿足GPU集群10ms內(nèi)200%負(fù)載突變的嚴(yán)苛需求;

- 零電壓切換(ZVS)死區(qū)時間縮短至50ns,提升拓?fù)漤憫?yīng)速度。

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3. 超強散熱架構(gòu)

- 銅基板封裝:熱阻(Rthjc)僅0.6℃/W,較TO-220降低60%;

- 雙面散熱設(shè)計:搭配散熱片時結(jié)溫<105℃(競品>135℃),MTBF提升至150萬小時。

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選型推薦

| 需求場景 | 推薦型號 | 特性

| PFC電路 | MOT12N65T | 超低Qg+500kHz高頻響應(yīng)

| 大電流應(yīng)用 | MOT35N65T | 動態(tài)均流+雙面散熱

當(dāng)全球算力戰(zhàn)爭進(jìn)入“每瓦特性能”的終極比拼,仁懋MOSFET以“讓電源消失存在感”的硬核實力,正在為數(shù)據(jù)中心打造零損耗能量心臟。

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