概述
HMC264芯片是一款集成LO放大器的次諧波(x2) MMIC混頻器，可用作上變頻器或下變頻器。 該芯片利用GaAs PHEMT技術(shù)，芯片整體面積為1.28mm2。 2LO至RF隔離性能出色，無(wú)需額外濾波。 LO放大器采用單偏置（+3V至+4V）雙級(jí)設(shè)計(jì)，僅需-4 dBm的標(biāo)稱(chēng)驅(qū)動(dòng)。 數(shù)據(jù)均采用50 ?測(cè)試夾具中的芯片測(cè)得，該夾具通過(guò)直徑為0.025 mm (1 mil)、最小長(zhǎng)度<0.31 mm (<12 mils)的焊線(xiàn)連接。
數(shù)據(jù)表：*附件：HMC264次諧波混頻器芯片技術(shù)手冊(cè).pdf

應(yīng)用

• 微波點(diǎn)對(duì)點(diǎn)無(wú)線(xiàn)電
• LMDS
• SATCOM

特性

• 集成LO放大器： -4 dBm輸入
• 次諧波(x2) LO
• 高2LO/RF隔離： 40 dB
• 小尺寸： 1.32 x 0.97 x 0.1 mm

框圖

電氣規(guī)格

焊盤(pán)描述

外形圖

毫米波砷化鎵單片微波集成電路（GaAs MMIC）的安裝與鍵合技術(shù)

芯片應(yīng)通過(guò)共晶方式或使用導(dǎo)電環(huán)氧直接連接到接地層（詳見(jiàn)HMC通用操作、安裝、鍵合說(shuō)明 ）。建議使用0.127毫米（5密耳）厚的氧化鋁薄膜襯底制作50歐姆微帶傳輸線(xiàn)，用于芯片的射頻信號(hào)傳輸（圖1）。如果使用0.254毫米（10密耳）厚的氧化鋁薄膜襯底，芯片需凸起0.150毫米（6密耳），使芯片表面與襯底表面齊平。實(shí)現(xiàn)此目的的一種方法是將0.102毫米（4密耳）厚的芯片附著到0.150毫米（6密耳）厚的鉬散熱片（鉬片）上，然后再將其連接到接地層（圖2）。

為了縮短鍵合線(xiàn)長(zhǎng)度，微帶襯底應(yīng)盡可能靠近芯片放置。芯片與襯底的典型間距為0.076 - 0.152毫米（3 - 6密耳）。

應(yīng)在Vdd輸入處使用射頻旁路電容。建議使用100 pF單層電容（通過(guò)共晶或?qū)щ姯h(huán)氧安裝），放置在距離芯片不超過(guò)0.762毫米（30密耳）處。圖3中的照片展示了HMC264 MMIC芯片的典型組件。

操作注意事項(xiàng)

遵循以下預(yù)防措施，以免造成永久性損壞：

• 存儲(chǔ) ：所有裸芯片應(yīng)放置在基于醚華夫格或凝膠的靜電防護(hù)容器中，然后密封在靜電防護(hù)袋中運(yùn)輸。靜電防護(hù)袋一旦打開(kāi)，所有芯片應(yīng)存放在干燥的氮?dú)猸h(huán)境中。
• 清潔度 ：在清潔環(huán)境中操作芯片，請(qǐng)勿使用液體清潔系統(tǒng)清潔芯片。
• 靜電敏感度 ：遵循靜電防護(hù)措施，防止靜電沖擊。
• 瞬態(tài) ：施加偏置時(shí)，抑制儀器和偏置電源的瞬態(tài)。使用屏蔽信號(hào)線(xiàn)和偏置電纜，以減少電感拾取。
• 一般操作 ：使用真空吸筆或鋒利的彎頭鑷子沿芯片邊緣操作芯片。芯片表面有脆弱的空氣橋，請(qǐng)勿用真空吸筆、鑷子或手指觸碰。

安裝

芯片背面已金屬化，可使用金錫共晶預(yù)制件或?qū)щ姯h(huán)氧進(jìn)行貼裝。貼裝表面應(yīng)清潔平整。

• 共晶芯片貼裝 ：推薦使用80/20的金錫預(yù)制件，工作表面溫度為255°C，工具溫度為265°C。使用90/10的氮?dú)浠旌蠚怏w時(shí)，工具尖端溫度應(yīng)為290°C。請(qǐng)勿使芯片暴露在高于320°C的溫度下超過(guò)20秒，貼裝過(guò)程中擦拭時(shí)間不得超過(guò)3秒。
• 環(huán)氧貼裝 ：在貼裝表面涂抹少量環(huán)氧，確保芯片放置到位后，其周邊能形成一圈薄環(huán)氧邊。按制造商的固化時(shí)間表固化環(huán)氧。

引線(xiàn)鍵合

使用直徑0.025毫米（1密耳）的純金線(xiàn)進(jìn)行球鍵合或楔鍵合。熱壓超聲鍵合時(shí)，推薦使用的典型工作臺(tái)溫度為150°C，球鍵合壓力為40 - 50克，楔鍵合壓力為18 - 22克。使用最小限度的超聲波能量，以實(shí)現(xiàn)可靠鍵合。鍵合從芯片開(kāi)始，在封裝或襯底上結(jié)束。所有鍵合線(xiàn)應(yīng)盡可能短，長(zhǎng)度小于0.31毫米（12密耳）。