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盛美半導(dǎo)體將沖擊科創(chuàng)板 為獲得大型IC制造商客戶做好準(zhǔn)備

旺材芯片 ? 來(lái)源:yxw ? 2019-06-19 09:55 ? 次閱讀

盛美半導(dǎo)體近日在其官網(wǎng)宣布,公司將推動(dòng)其上海運(yùn)營(yíng)子公司在科創(chuàng)板上市。

ACM總裁兼首席執(zhí)行官David Wang博士評(píng)論說(shuō):“我們的計(jì)劃旨在更好地調(diào)整ACM的資本結(jié)構(gòu),使其成為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體資本設(shè)備供應(yīng)商,我們的創(chuàng)新 SAPS, TEBO, Tahoe and ECP 技術(shù)使我們獲得顯著增長(zhǎng)。我們現(xiàn)在正在采取行動(dòng),以實(shí)現(xiàn)有利的估值,鞏固ACM作為當(dāng)?shù)刂匾谋镜貐⑴c者的地位中,并盡力去募集更多的資金去做研發(fā)和投入,為獲得大型IC制造商客戶做好準(zhǔn)備?!?/p>

盛美半導(dǎo)體:高速成長(zhǎng)的國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體清洗設(shè)備龍頭

據(jù)海通電子介紹, 盛美半導(dǎo)體設(shè)備(ACM Research)在1998年由國(guó)家千人專家王暉博士為代表的一群清華校友成立于美國(guó)硅谷。初期公司致力于無(wú)應(yīng)力銅拋光技術(shù)(stress-free copper polishing technology)為代表的電拋光技術(shù),并有少量產(chǎn)品進(jìn)入市場(chǎng),但由于當(dāng)時(shí)這種技術(shù)過(guò)于超前,市場(chǎng)前景和未來(lái)趨勢(shì)都不明朗,公司面臨著賣掉公司或者融資轉(zhuǎn)型的選擇并最終選擇了后者。

2006年公司在上海張江成立了合資公司 ACM Shanghai,并于2007年公司開(kāi)始專攻單晶圓清洗方案。

2009年公司開(kāi)發(fā)出了標(biāo)志性的空間交變相移技術(shù)(SAPS,Space Alternated Phase Shift),該技術(shù)有效的解決了兆聲波在清洗時(shí)表面能量分布不均的難題,有效的推進(jìn)了硅片兆聲波清洗技術(shù);但隨著圖形硅片越來(lái)越精密和結(jié)構(gòu)的3D化,兆聲波清洗損傷的影響越來(lái)越大,公司經(jīng)過(guò)八年努力于2016年開(kāi)發(fā)出了另一大顛覆性的無(wú)損傷兆聲波清洗技術(shù)(TEBO,Timely Energized Bubble Oscillation),并于Finfet結(jié)構(gòu)上取得驗(yàn)證。

2017年11月,公司正式在美國(guó)納斯達(dá)克上市,美股代碼“ACMR”。

公司目前的產(chǎn)品主要是基于SAPS和TEBO技術(shù)的單晶圓清洗設(shè)備,近三年?duì)I收占比均超過(guò)70%;從2011年至今,公司已售出超過(guò)40臺(tái)單晶圓清洗機(jī)。其中SAPS清洗設(shè)備是營(yíng)收主力產(chǎn)品,應(yīng)用于300-45nm制程的平坦的或者圖案深寬比較低的晶圓表面,且相比傳統(tǒng)的兆聲波和噴霧法有更好的清洗效果;根據(jù)公司2018年1月23日公告,公司收到五個(gè)客戶價(jià)值3810萬(wàn)美元的SAPS清洗設(shè)備訂單,并將于18年二季度和三季度確認(rèn)收入。TEBO技術(shù)應(yīng)用于相對(duì)高端的產(chǎn)品,于2016年3月研發(fā)成功,12月即確認(rèn)訂單收入;TEBO能實(shí)現(xiàn)1xnm甚至更小制程的傳統(tǒng)2D和先進(jìn)的3D結(jié)構(gòu)(深寬比最高可達(dá)60)的表面及內(nèi)部無(wú)損清洗。此外,公司還提供一系列晶圓組裝和封裝設(shè)備,如涂膠機(jī)、顯影機(jī)、去膠機(jī)等,目前也銷售超過(guò)42臺(tái)設(shè)備。

公司業(yè)務(wù)集中在亞洲,客戶集中度高但粘性大。目前公司的主要客戶全部在亞洲,但公司也在嘗試向北美和西歐進(jìn)行市場(chǎng)滲透。客戶方面,公司早期的客戶集中度很高,但近年來(lái)通過(guò)合理的銷售策略已有所改善,從2015年的前三占比96.1%下降到2017的49.1%。公司銷售策略主要采取“模型機(jī)試用再銷售(demo-to-sales)”方法面向針對(duì)性客戶,一旦產(chǎn)品通過(guò)驗(yàn)證,客戶關(guān)系將比較穩(wěn)固。盛美半導(dǎo)體通過(guò)這種策略,并與美國(guó)知名的半導(dǎo)體研究聯(lián)盟Sematech建立了長(zhǎng)期的合作關(guān)系,憑借良好的清洗效果和可靠的設(shè)備爭(zhēng)取到了海力士、中芯國(guó)際、華力微電子、長(zhǎng)電科技等客戶的訂單,形成了良好的反饋機(jī)制。

小而美的盛美意在成為國(guó)產(chǎn)清洗設(shè)備的領(lǐng)頭羊,差異化是盛美長(zhǎng)期發(fā)展的秘訣。公司2017年的營(yíng)收為3650萬(wàn)美元,約占2017年清洗機(jī)市場(chǎng)份額的1.2%左右,相比拉姆研究、DNS、東京電子等國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備巨頭每年幾十億美元的營(yíng)收,公司的規(guī)模很小。但2018年來(lái)公司憑借獨(dú)創(chuàng)的SAPS和TEBO清洗技術(shù)已經(jīng)獲得多家客戶的重復(fù)訂單,公司上調(diào)2018年的營(yíng)收預(yù)測(cè)至6500萬(wàn)美元,接近翻倍。國(guó)內(nèi)幾乎是唯一的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手北方華創(chuàng)雖然規(guī)模較大,但其清洗設(shè)備發(fā)展主要通過(guò)收購(gòu)美國(guó)知名清洗設(shè)備廠商Akrion進(jìn)行融合,而盛美則是自我創(chuàng)新,憑借SAPS和TEBO走出一條新的技術(shù)路線。相比之下,從長(zhǎng)遠(yuǎn)來(lái)看,我們認(rèn)為如果要在清洗設(shè)備市場(chǎng)和已有的大公司競(jìng)爭(zhēng),就必須要尋求差異化的解決路線,跟在后面走很難超越。而小公司憑借自身框架靈活,研發(fā)相對(duì)自由而高效,更容易實(shí)現(xiàn)從0-1,開(kāi)發(fā)出突破性的技術(shù)。

國(guó)際巨頭拉姆研究相比,毛利率略高,研發(fā)費(fèi)用率超越。與國(guó)際領(lǐng)先的單晶圓清洗設(shè)備公司拉姆研究相比,盛美在規(guī)模、產(chǎn)品系列數(shù)、利潤(rùn)和研發(fā)投入絕對(duì)值上不在一個(gè)量級(jí),無(wú)法相比。但如果拋開(kāi)體量的因素,通過(guò)毛利率和研發(fā)費(fèi)用率分析其盈利和研發(fā)投入的情況,我們發(fā)現(xiàn)盛美的毛利率還略微高于拉姆研究,這意味著兩者特定產(chǎn)品的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力是非常接近的;從研發(fā)費(fèi)用率來(lái)看,2017年盛美也實(shí)現(xiàn)了超越,而且呈現(xiàn)向上的態(tài)勢(shì),而拉姆則是穩(wěn)中有降。

成功不靠低價(jià),盛美單晶圓清洗機(jī)產(chǎn)品業(yè)界領(lǐng)先。目前市場(chǎng)上采用傳統(tǒng)的兆聲波清洗設(shè)備的能量非均勻性在10%-20%,而公司憑借自創(chuàng)的SAPS技術(shù),可以控制兆聲波能量在硅片表面和硅片之間的非均勻性小于2%,清洗效率差別明顯;這個(gè)不均勻性在小尺寸污染物的清洗上效果優(yōu)勢(shì)更加顯著,這對(duì)先進(jìn)制程對(duì)的良率提升影響很大;公司產(chǎn)品已經(jīng)被華力微電子、海力士、中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)等多家國(guó)內(nèi)外知名廠商采購(gòu)。通過(guò)TEBO技術(shù),氣泡在兆聲波清洗時(shí)趨于穩(wěn)定,沒(méi)有產(chǎn)生內(nèi)爆或塌陷,可以在有效清理污染物的同時(shí)不損傷圖案,在3D半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)清洗良率發(fā)揮重要作用。除了清洗機(jī),公司去年年底首次商業(yè)化的電鍍銅設(shè)備ASP也在300萬(wàn)美元以上,利潤(rùn)增值較高。總的來(lái)說(shuō),相比過(guò)去國(guó)產(chǎn)設(shè)備給人以價(jià)取勝的印象,盛美的清洗設(shè)備在保持兆聲波清洗效果好的優(yōu)勢(shì)前提下,有效地解決了清洗不均勻和晶片損傷的問(wèn)題,在當(dāng)前節(jié)點(diǎn)具備不輸于國(guó)際大廠的工藝覆蓋范圍和清洗效果。

盛美半導(dǎo)體清洗機(jī)進(jìn)入產(chǎn)線14nm驗(yàn)證,提前覆蓋國(guó)內(nèi)最新制程。中芯國(guó)際目前處于28nm大規(guī)模量產(chǎn),14nm研發(fā)驗(yàn)證階段。因此同步發(fā)展的半導(dǎo)體設(shè)備最好能夠同時(shí)覆蓋,以實(shí)現(xiàn)14nm產(chǎn)業(yè)鏈本土化。盛美專攻清洗設(shè)備,采用自身研發(fā)的“Smart Megasonix”技術(shù)路線。目前有十種國(guó)產(chǎn)設(shè)備進(jìn)入國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的14nm制程產(chǎn)線驗(yàn)證,其中清洗機(jī)選擇的就是盛美半導(dǎo)體的產(chǎn)品。

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原文標(biāo)題:動(dòng)態(tài) | 公布,盛美半導(dǎo)體將沖擊科創(chuàng)板

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