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APC 技術(shù)在刻蝕工藝過程控制中的研究進展
王巍 1，吳志剛2
1（重慶郵電學(xué)院光電工程系， 重慶 400065）
2（電子科技大學(xué)電子工程學(xué)院，成都 610054）
摘要：APC 是一個多層次的控制系統(tǒng)，其包含了實時的設(shè)備及工藝控制和非實時的RtR 控制。APC 引入等離子體刻蝕過程控制可極大提高等離子刻蝕機的使用效率和產(chǎn)品成品率，適應(yīng)當前深亞微米半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展的需求。針對等離子體刻蝕機及其刻蝕工藝過程控制的需求，本文分別從實時控制和RtR 控制兩個不同層次展開了論述，討論了APC 技術(shù)的發(fā)展趨勢。
關(guān)鍵詞：等離子體刻蝕，APC，實時反饋控制，Run-to-Run 控制
王巍 1，吳志剛2
1（重慶郵電學(xué)院光電工程系， 重慶 400065）
2（電子科技大學(xué)電子工程學(xué)院，成都 610054）
摘要：APC 是一個多層次的控制系統(tǒng)，其包含了實時的設(shè)備及工藝控制和非實時的RtR 控制。APC 引入等離子體刻蝕過程控制可極大提高等離子刻蝕機的使用效率和產(chǎn)品成品率，適應(yīng)當前深亞微米半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展的需求。針對等離子體刻蝕機及其刻蝕工藝過程控制的需求，本文分別從實時控制和RtR 控制兩個不同層次展開了論述，討論了APC 技術(shù)的發(fā)展趨勢。
關(guān)鍵詞：等離子體刻蝕，APC，實時反饋控制，Run-to-Run 控制
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