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標(biāo)簽 > 三星
作為全球知名的公司,三星電子在2005 年宣布了“三星五大經(jīng)營(yíng)原則”,展現(xiàn)了其對(duì)企業(yè)社會(huì)責(zé)任的承諾。這些原則也是三星電子遵守法律與道德準(zhǔn)則、履行企業(yè)社會(huì)責(zé)任和全球行為準(zhǔn)則的基礎(chǔ)。
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無(wú)線充電對(duì)手機(jī)電池有損害嗎 無(wú)線充電對(duì)所有型號(hào)手機(jī)都可以嗎
某些無(wú)線充電技術(shù)可能支持快速充電,但較高的充電速度可能會(huì)引起電池溫度升高,從而對(duì)電池壽命產(chǎn)生一定影響。此外,一個(gè)好的無(wú)線充電器應(yīng)該具備功率管理,能夠智能...
microSD卡的原名為Trans-flash Card(簡(jiǎn)稱TF卡),是一種微型的快閃存儲(chǔ)器卡,被SD協(xié)會(huì)采納后被命名為microSD卡,其體積為長(zhǎng)1...
全球主要晶圓廠制程節(jié)點(diǎn)技術(shù)路線圖
雕刻電路圖案的核心制造設(shè)備是光刻機(jī),它的精度決定了制程的精度。光刻機(jī)的運(yùn)作原理是先把設(shè)計(jì)好的芯片圖案印在掩膜上,用激光穿過(guò)掩膜和光學(xué)鏡片,將芯片圖案曝光...
E拆解:光拆解可不夠,再來(lái)看看Z Flip4內(nèi)部芯片和模組
上期我們說(shuō)到Z Flip4內(nèi)部結(jié)構(gòu)非常緊湊,拆解起來(lái)是有些難度。今天就來(lái)看看三星 Galaxy Z Flip4的芯片與部分模組信息。 在拆解時(shí)我們也說(shuō)到...
以往的設(shè)備拆解,我們都會(huì)先分享拆機(jī)的步驟,以及內(nèi)部構(gòu)造。但大家最關(guān)注的還是內(nèi)部的器件或者IC信息。那么這次關(guān)于三星 Galaxy S23+,我們就先來(lái)看...
光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞,也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么,讓我們仔細(xì)看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 標(biāo)簽:EUV半導(dǎo)體工藝三星 5680 0
數(shù)據(jù)顯示國(guó)內(nèi)需近40%顯示屏需求
LED顯示屏技術(shù)仍持續(xù)發(fā)展,新應(yīng)用領(lǐng)域也不斷被開(kāi)發(fā)出來(lái)。未來(lái)幾年,虛擬拍攝、會(huì)議一體機(jī)和裸眼3D廣告牌等有望繼續(xù)在LED顯示屏領(lǐng)域發(fā)力。
隨著摩爾定律的放緩,芯粒(Chiplet)和異構(gòu)集成 (HI:heterogenous integration) 提供了一種令人信服的方式來(lái)繼續(xù)改進(jìn)性能...
三星宣布業(yè)界首個(gè)3nm級(jí)制造技術(shù)開(kāi)始大量生產(chǎn)
納米線是直徑在納米量級(jí)的納米結(jié)構(gòu)。納米線技術(shù)的基本吸引力之一是它們表現(xiàn)出強(qiáng)大的電學(xué)特性,包括由于其有效的一維結(jié)構(gòu)而產(chǎn)生的高電子遷移率。
2022-04-29 標(biāo)簽:臺(tái)積電晶體管場(chǎng)效應(yīng)晶體管 2827 0
LG、三星、索尼與A123圓柱電池設(shè)計(jì)及性能比拼
電池每Ah的電解液用量如下圖所示,電解液應(yīng)填充電極和隔膜中的所有孔,但仍在電池內(nèi)留下一些空隙空間沒(méi)有被電解液填充,一般認(rèn)為3g/Ah電解質(zhì)用量是合理的。
消費(fèi)者在購(gòu)買手機(jī)充電器時(shí)會(huì)更傾向選擇原裝充電器,雖說(shuō)現(xiàn)在第三方充電器的品質(zhì)足夠優(yōu)秀,并且相較部分手機(jī)原裝充電器而言,其支持的協(xié)議更全面,性能更強(qiáng),但還是...
2024-01-04 標(biāo)簽:充電器柵極驅(qū)動(dòng)器小米 1787 0
我們將迎來(lái)未來(lái)智能手機(jī)形態(tài)和交互的全新變革期,比如可折疊手機(jī)的上市,以及首批5G產(chǎn)品的上市。可折疊手機(jī)最大的優(yōu)勢(shì)在于其柔性折疊,那么是什么賦予手機(jī)這種特性呢?
在Hot Chips 2023上,三星展示了內(nèi)存技術(shù),內(nèi)存的主要成本是將數(shù)據(jù)從各種存儲(chǔ)和內(nèi)存位置傳輸?shù)綄?shí)際的計(jì)算引擎。
2023-10-07 標(biāo)簽:cpuAI內(nèi)存技術(shù) 1761 0
2nm制程報(bào)價(jià)直逼2.5萬(wàn)美元
芯片制造領(lǐng)域正迎來(lái)3納米工藝的興起,并且2納米競(jìng)爭(zhēng)已經(jīng)全面展開(kāi)。
全球Top25半導(dǎo)體公司發(fā)布:臺(tái)積電領(lǐng)跑,英偉達(dá)異軍突起
在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)遭遇諸多挑戰(zhàn)的2023年,臺(tái)積電卻以穩(wěn)健的步伐取得了驕人的成績(jī)。盡管其營(yíng)收同比出現(xiàn)了9%的下滑,但相較于英特爾營(yíng)收同比下滑的14%,臺(tái)積...
2024-04-16 標(biāo)簽:高通英特爾半導(dǎo)體制造 1679 0
2023年全球電視市場(chǎng)遭遇下行壓力,Mini LED技術(shù)崛起引領(lǐng)新格局
與電視整機(jī)市場(chǎng)緊密相連的上游面板產(chǎn)業(yè)也呈現(xiàn)出了相應(yīng)的變化趨勢(shì)。2023年,全球液晶電視面板出貨總量同比下降了10.6%。
三星宣布量產(chǎn)第九代V-NAND芯片,位密度提升50%
在技術(shù)層面,第九代V-NAND無(wú)疑展現(xiàn)出了三星的卓越技術(shù)實(shí)力。它采用了雙重堆疊技術(shù),在原有的旗艦V8閃存236層的基礎(chǔ)上,再次實(shí)現(xiàn)了技術(shù)上的重大突破,堆...
芯片設(shè)計(jì)晶圓代工的3D IC架構(gòu)挑戰(zhàn)
由于裸片通過(guò)TSV供電,后者在現(xiàn)有的 2D 設(shè)計(jì)中是不存在的,每個(gè)裸片的電壓降(IR)/ 電遷移(EM)可能會(huì)相互影響。為解決這一問(wèn)題,我們同時(shí)分析了多...
2023-03-30 標(biāo)簽:IC設(shè)計(jì)eda晶圓代工 1410 0
臺(tái)積電的16nm有多個(gè)版本,包括16nm FinFET、16nm FinFET Plus技術(shù)(16FF +)和16nm FinFET Compact技術(shù)...
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