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標簽 > 光刻工藝
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本文簡單介紹了芯片制造的7個前道工藝。 ? 在探索現(xiàn)代科技的微觀奇跡中,芯片制造無疑扮演著核心角色,它不僅是信息技術飛速發(fā)展的基石,也是連接數(shù)字世界與現(xiàn)...
“ 光刻作為半導體中的關鍵工藝,其中包括3大步驟的工藝:涂膠、曝光、顯影。三個步驟有一個異常,整個光刻工藝都需要返工處理,因此現(xiàn)場異常的處理顯得尤為關鍵”
在上一節(jié)計算光學小講堂中,我們學習了光源掩模協(xié)同優(yōu)化(source mask co-optimization, SMO)的相關知識。這一節(jié)我們將主要探索...
2023-09-01 標簽:OPC光學系統(tǒng)光刻機 7036 0
光刻是半導體芯片生產(chǎn)流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟,耗時長、成本高。半導體芯片生產(chǎn)的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,這一過程通過光刻來實現(xiàn)...
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