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標簽 > 光刻工藝
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傳統(tǒng)的光刻工藝是相對目前已經(jīng)或尚未應用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進光刻工藝而言的,普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺(見下表)。這是因...
在上一節(jié)計算光學小講堂中,我們學習了光源掩模協(xié)同優(yōu)化(source mask co-optimization, SMO)的相關知識。這一節(jié)我們將主要探索...
2023-09-01 標簽:OPC光學系統(tǒng)光刻機 7071 0
在之前的文章里,我們介紹了晶圓制造、氧化過程和集成電路的部分發(fā)展史?,F(xiàn)在,讓我們繼續(xù)了解光刻工藝,通過該過程將電子電路圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。光刻過程與使用膠...
單針對厚膜電路技術,其核心材料厚膜漿料就在電子產(chǎn)品制造過程中,應用的行業(yè)領域十分廣泛,包括消費電子、汽車、物聯(lián)網(wǎng)、電信、生物醫(yī)學、太空和軍事等。電子產(chǎn)品...
半導體產(chǎn)業(yè)中,制造工工程被稱為工藝(Process),理由是什么?雖然沒有明確的答案,但與其說加工尺寸微?。壳笆莕m制程),不如說制造過程無法用肉眼看到所致。
光刻是半導體芯片生產(chǎn)流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟,耗時長、成本高。半導體芯片生產(chǎn)的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,這一過程通過光刻來實現(xiàn)...
“ 光刻作為半導體中的關鍵工藝,其中包括3大步驟的工藝:涂膠、曝光、顯影。三個步驟有一個異常,整個光刻工藝都需要返工處理,因此現(xiàn)場異常的處理顯得尤為關鍵”
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