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光刻技術(shù)

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隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃數(shù)量級范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。

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光刻技術(shù)技術(shù)

如何減少太陽能電池入射光在電池器件中的反射

為了制備蜂窩狀紋理的絨面結(jié)構(gòu)，研究人員利用了熱輔助紫外輥納米壓印光刻技術(shù)（TUV-Roller-NIL），基于TUV-Roller-NIL制造蜂窩紋理的...

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半導(dǎo)體后端工藝：晶圓級封裝工藝（上）

晶圓級封裝是指晶圓切割前的工藝。晶圓級封裝分為扇入型晶圓級芯片封裝（Fan-In WLCSP）和扇出型晶圓級芯片封裝（Fan-Out WLCSP），其特...

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關(guān)于光刻技術(shù)的五大分類

光刻是通過一系列操作，除去外延片表面特定部分的工藝，在半導(dǎo)體器件和集成電路制作中起到極為關(guān)鍵的作用。

2023-10-08 標(biāo)簽：集成電路半導(dǎo)體器件光刻技術(shù) 2155 0

濕法去膠液的種類有哪些？去膠液都有哪些種類？去膠原理是什么？

光刻技術(shù)通過光刻膠將圖案成功轉(zhuǎn)移到硅片上，但是在相關(guān)制程結(jié)束后就需要完全除去光刻膠，那么這個時候去膠液就發(fā)揮了作用，那么去膠液都有哪些種類？去膠原理是什么？

2023-09-06 標(biāo)簽：晶圓光刻機(jī)光刻技術(shù) 5021 0

光刻技術(shù)概述及其分類

光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù)，是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項(xiàng)工藝。簡單地說，光刻類似照相復(fù)制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽...

2023-08-07 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻技術(shù) 3502 0

***和半導(dǎo)體有什么關(guān)系

IRDS路線圖光刻委員會主席、廈門大學(xué)嘉庚創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)業(yè)運(yùn)營平臺科技總監(jiān)，廈門大學(xué)半導(dǎo)體科學(xué)與技術(shù)學(xué)院客座教授Mark Neisser對光刻技術(shù)與半導(dǎo)體...

2023-07-24 標(biāo)簽：控制系統(tǒng)半導(dǎo)體技術(shù)照明系統(tǒng) 1515 0

光刻工藝中的測量標(biāo)記

中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進(jìn)光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)...

2023-07-07 標(biāo)簽：集成電路微電子測量 941 0

3D IC對光刻技術(shù)的新技術(shù)要求

2023-06-30 標(biāo)簽：集成電路 IC 微電子 577 0

基于機(jī)器學(xué)習(xí)的逆向光刻技術(shù)

2023-06-29 標(biāo)簽：集成電路機(jī)器學(xué)習(xí)光刻技術(shù) 730 0

晶圓代工廠如何突破物理極限提升光刻技術(shù)？

EUV微影技術(shù)的落實(shí)延續(xù)了摩爾定律的壽命，這里的EUV指的其實(shí)是一種紫外光源，跟過去光刻技術(shù)所采用的光源比起來，EUV的波長更短，因此有助于大幅提高分辨率。

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光刻對準(zhǔn)原理與精度控制

2023-06-26 標(biāo)簽：集成電路光刻機(jī)光刻技術(shù) 1553 0

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2023-06-26 標(biāo)簽：光刻技術(shù)fdsoi 1309 0

CMP工藝影響下的版圖優(yōu)化

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硅基光刻技術(shù)在柔性電子器件制造中的應(yīng)用

近日，湖南大學(xué)段輝高教授團(tuán)隊(duì)通過開發(fā)基于“光刻膠全干法轉(zhuǎn)印”技術(shù)的新型光刻工藝，用于柔性及不規(guī)則（曲面、懸空）襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造，為高...

2023-06-17 標(biāo)簽：電子器件光刻技術(shù) 1659 0

面向光刻的設(shè)計(jì)規(guī)則建立及優(yōu)化

2023-06-14 標(biāo)簽：集成電路光刻微電子 538 0

3D NAND刻蝕工藝的挑戰(zhàn)及特點(diǎn)

2023-06-12 標(biāo)簽：集成電路 NAND 3D 1286 0

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一文解析EUV掩模版缺陷分類、檢測、補(bǔ)償

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2023-06-07 標(biāo)簽：光刻機(jī)光刻技術(shù)EUV 3270 0

逆向光刻的原理及其優(yōu)勢

2023-05-26 標(biāo)簽：集成電路光刻光刻技術(shù) 1281 0

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德國易能森有限公司(EnOcean GmbH)是無線能量采集技術(shù)的開創(chuàng)者。2012年3月，國際電工技術(shù)委員會將EnOcean無線通信標(biāo)準(zhǔn)采納為國際標(biāo)準(zhǔn)“ISO/IEC 14543-3-10”，這也是世界上唯一使用能量采集技術(shù)的無線國際標(biāo)準(zhǔn)。
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