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標(biāo)簽 > 光刻機(jī)
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目前手機(jī)處理器的工藝制程是7nm,臺(tái)積電也即將量產(chǎn)5nm芯片,未來(lái)還有2nm甚至1nm芯片的出現(xiàn)。臺(tái)積電的研發(fā)負(fù)責(zé)人曾在談?wù)摪雽?dǎo)體工藝極限的問(wèn)題時(shí),認(rèn)...
半導(dǎo)體設(shè)備將再度面臨交期延長(zhǎng)至18~30個(gè)月?
市調(diào)機(jī)構(gòu)TrendForce在最新研報(bào)指出,半導(dǎo)體設(shè)備又再度面臨交期延長(zhǎng)至18~30個(gè)月不等的困境。
2nm芯片是極限嗎 去年IBM公布的2nm芯片一時(shí)轟動(dòng)了世界,而當(dāng)時(shí)的三星和臺(tái)積電還在苦苦研發(fā)3nm技術(shù)。 到了現(xiàn)在,三星和臺(tái)積電的3nm技術(shù)終于要在下...
ASML的High-NA光刻機(jī)居然只賣(mài)出5臺(tái),大多芯片廠商不為所動(dòng)
在電子化程度如此高的現(xiàn)在,人們身邊的電子設(shè)備比比皆是,而它們又都離不開(kāi)芯片?,F(xiàn)在芯片制程技術(shù)也處于飛速發(fā)展的階段,芯片巨頭臺(tái)積電和三星都將在今年下半年開(kāi)...
掩膜版的質(zhì)量會(huì)直接影響光刻的質(zhì)量,掩膜版上的制造缺陷和誤差也會(huì)伴隨著光刻工藝被引入到芯片制造中。因此,掩膜版是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。
“缺芯”浪潮持續(xù)發(fā)酵 國(guó)內(nèi)市場(chǎng)是何現(xiàn)狀
中國(guó)芯片公司數(shù)量的暴增,到底是真實(shí)的繁榮還是浮躁的“財(cái)富密碼”?
全球芯片供給過(guò)剩跡象明顯,ASML內(nèi)藏隱憂(yōu)
ASML的主要產(chǎn)品是光刻機(jī),而光刻機(jī)的客戶(hù)相當(dāng)有限,其中最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)客戶(hù)如今更是剩下臺(tái)積電、三星和Intel三家,如此情況下決定ASML業(yè)績(jī)的...
荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)
據(jù)CNBC報(bào)道稱(chēng),世界聞名的先進(jìn)光刻機(jī)智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)。
臺(tái)積電將于2024年引進(jìn)ASML最新EUV光刻機(jī),主要用于相關(guān)研究
日前,在臺(tái)積電召開(kāi)的會(huì)議上,有一名高管稱(chēng)臺(tái)積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會(huì)議中,該高管稱(chēng):為了滿(mǎn)足客戶(hù)所...
英特爾的Intel 4能對(duì)標(biāo)臺(tái)積電的4nm嗎?
其實(shí)早在一個(gè)月前,英特爾的Intel?4工藝的情報(bào)就被陸續(xù)爆料出來(lái)了,只不過(guò)近日在VLSI22論壇上,其詳細(xì)情報(bào)終于解禁,我們也得以看看英特爾版的7nm...
佳能新發(fā)售KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)的Grade10升級(jí)包
佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF※1半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產(chǎn)能升級(jí)配件包(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“Grade10”升級(jí)包)。K...
氖氣在空氣中的占比僅為十萬(wàn)分之一,并且氖氣的沸點(diǎn)極低,從空氣中分流提取高純度氖氣難度非常高,并且相關(guān)的設(shè)備和技術(shù)是絕對(duì)保密的。
三星董事李在镕親自拜訪ASML,只為爭(zhēng)取到EUV光刻機(jī)
據(jù)外媒報(bào)道稱(chēng),三星電子公司董事李在镕今天將起身前往荷蘭拜訪光刻機(jī)廠商ASML,此舉表明三星很有可能會(huì)大量采購(gòu)光刻機(jī)。 據(jù)了解,李在镕將會(huì)在荷蘭待上11天...
不只是光刻機(jī),還有這一半導(dǎo)體材料依賴(lài)進(jìn)口
在半導(dǎo)體生產(chǎn)制造領(lǐng)域,如今可以說(shuō)是沒(méi)有光刻機(jī)寸步難行。即便如此,有了制造設(shè)備,沒(méi)有材料的支撐也是造不出芯的。今天,我們就來(lái)講講半導(dǎo)體材料中的高純石英。 ...
2022-06-06 標(biāo)簽:半導(dǎo)體半導(dǎo)體材料光刻機(jī) 4343 0
ASML正致力于新一代High-NA光刻機(jī)制造,每臺(tái)預(yù)計(jì)售價(jià)4億美元
近日,據(jù)外媒路透社報(bào)道稱(chēng),全球最先進(jìn)的光刻機(jī)生產(chǎn)廠商ASML正致力于進(jìn)行新一代光刻機(jī)的制造,預(yù)計(jì)第一臺(tái)會(huì)在明年完工,將在2025能夠正式投入使用,每臺(tái)新...
臺(tái)積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開(kāi)始應(yīng)用EUV光刻層了,并且在隨后的工藝迭代中,逐步增加半導(dǎo)體制造過(guò)程中的EUV光刻層數(shù)。
虹科定制的高穩(wěn)定UV-LED采用了超高穩(wěn)定度光源驅(qū)動(dòng)技術(shù)具有≥99.92%的穩(wěn)定性與>96%的光均勻性在流體力學(xué)飛行器PSP測(cè)試系統(tǒng)中大放異彩。
2022-04-26 標(biāo)簽:光刻機(jī)光學(xué)技術(shù)面光源 2609 0
中國(guó)超導(dǎo)量子芯片研發(fā)進(jìn)入國(guó)產(chǎn)自主化的發(fā)展道路
在浙江大學(xué)召開(kāi)的超導(dǎo)量子芯片學(xué)術(shù)成果研討會(huì)上,朱詩(shī)堯教授介紹了“莫干1號(hào)”、“天目1號(hào)”兩款國(guó)產(chǎn)超導(dǎo)量子芯片。
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