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      標(biāo)簽　>　光刻膠

      光刻膠

      +關(guān)注10人關(guān)注

      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：311個 瀏覽：30689次 帖子：4個

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      2025-02-06 標(biāo)簽：光刻膠光學(xué)器件光學(xué)元件 390 0

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      2025-01-07 標(biāo)簽：晶圓封裝光刻膠 1139 0

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      頂層金屬 AI工藝是指形成頂層金屬 AI 互連線。因為 Cu很容易在空氣中氧化，形成疏松的氧化銅，而且不會形成保護層防止銅進一步氧化，另外，Cu 是軟金...

      2024-11-25 標(biāo)簽：晶圓工藝光刻膠 839 0

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      在本篇文章中，我們主要介紹刻蝕工藝評價的工藝參數(shù)以及如何做好刻蝕工藝。 一、刻蝕工藝質(zhì)量評價 1）刻蝕速率 刻蝕速率是指在蝕刻過程中被去...

      2024-11-15 標(biāo)簽：光刻膠刻蝕工藝 1414 0

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      光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展，對微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強，光刻膠的需求...

      2024-11-11 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù)光刻膠 1343 0

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      過度蝕刻暴露硅晶圓表面可能會導(dǎo)致表面粗糙。當(dāng)硅表面在HF過程中暴露于OH離子時，硅表面可能會變得粗糙。

      2024-11-05 標(biāo)簽：硅晶圓蝕刻光刻膠 858 0

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      本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。

      2024-10-31 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻膠 1079 0

      雙層膠工藝是什么

      雙層膠工藝是什么

      隨著線條寬度的不斷縮小，為了防止膠上圖形出現(xiàn)太大的深寬比，提高對比度，應(yīng)該采用很薄的光刻膠。但薄膠會遇到耐腐蝕性的問題。由此開發(fā)出了 雙層光刻膠技術(shù)，這...

      2024-10-21 標(biāo)簽：芯片工藝光刻膠 876 0

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      光刻膠資訊

      勻膠機轉(zhuǎn)速對微流控芯片精度的影響

      微流控芯片制造過程中，勻膠是關(guān)鍵步驟之一，而勻膠機轉(zhuǎn)速會在多個方面對微流控芯片的精度產(chǎn)生影響： 對光刻膠厚度的影響 勻膠機轉(zhuǎn)速與光刻膠厚度成反比關(guān)系。旋...

      2025-03-24 標(biāo)簽：微流控芯片微流控光刻膠 184 0

      微流控勻膠過程簡述

      勻膠機的基本原理和工作方式 勻膠機是一種利用離心力原理，將膠液均勻涂覆在基片上的設(shè)備。其基本工作原理是通過程序調(diào)控旋轉(zhuǎn)速度來改變離心力大小，并利用滴膠裝...

      2025-03-06 標(biāo)簽：微流控光刻膠 224 0

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      日前，廈門恒坤新材料科技股份有限公司（下稱“恒坤新材”）科創(chuàng)板IPO獲受理。該公司擬發(fā)行6739.7940萬新股，融資12.00億元，用于集成電路前驅(qū)體...

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      隨著半導(dǎo)體器件的應(yīng)用范圍越來越廣，晶圓制造技術(shù)也得到了快速發(fā)展。其中，光刻技術(shù)在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質(zhì)量直...

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      光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料，在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹脂決定了光刻...

      2024-12-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻膠 688 0

      干法刻蝕時側(cè)壁為什么會彎曲

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      離子轟擊的不均勻性 干法刻蝕通常是物理作用和化學(xué)作用相結(jié)合的過程，其中離子轟擊是重要的物理刻蝕手段。在刻蝕過程中，離子的入射角和能量分布可能不均勻. 如...

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      干法刻蝕側(cè)壁彎曲的原因及解決方法

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      本文介紹了干法刻蝕側(cè)壁彎曲的原因及解決方法。 什么是側(cè)壁彎曲？ 如上圖，是典型的干法刻蝕時，側(cè)壁彎曲的樣子，側(cè)壁為凹形或凸形結(jié)構(gòu)。而正常的側(cè)壁幾乎是垂直...

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      三星減少NAND生產(chǎn)光刻膠使用量

      近日，據(jù)相關(guān)報道，三星電子在3D NAND閃存生產(chǎn)領(lǐng)域取得了重要技術(shù)突破，成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據(jù)悉，三星已經(jīng)制定了未來NAND閃存...

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      光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)

      光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)

      分辨率（resolution）。區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關(guān)鍵尺寸（CD，Critical Dimension）來衡量分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸...

      2024-11-15 標(biāo)簽：分辨率光刻膠 2272 0

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        IoT是Internet of Things的縮寫，字面翻譯是“物體組成的因特網(wǎng)”，準(zhǔn)確的翻譯應(yīng)該為“物聯(lián)網(wǎng)”。物聯(lián)網(wǎng)（Internet of Things）又稱傳感網(wǎng)，簡要講就是互聯(lián)網(wǎng)從人向物的延伸。
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