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標(biāo)簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三...
我國半導(dǎo)體硅片的發(fā)展現(xiàn)狀及發(fā)展態(tài)勢
集成電路是最重要的半導(dǎo)體產(chǎn)品,硅片是集成 電路最重要的基礎(chǔ)材料,處于集成電路產(chǎn)業(yè)鏈前 端,在集成電路芯片制造材料中占比達(dá)30%以上, 90% 以上的集成...
引言 顯影過程中顯影劑溶液的溫度會(huì)對抗蝕劑性能產(chǎn)生重大影響。速度隨著溫度以復(fù)雜的方式變化,通常導(dǎo)致“更快”的抗蝕劑工藝的反直覺結(jié)果。顯影速率對劑量(或?qū)?..
負(fù)性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯,一種天然的橡膠;溶劑是二甲苯;感光劑是一種經(jīng)過曝光后釋放出氮?dú)獾墓饷魟a(chǎn)生的自由基在橡膠分子間形成交聯(lián)。從而變得不溶于顯...
根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),...
2024-07-10 標(biāo)簽:光刻膠 1925 0
富士膠片加碼半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù),三年內(nèi)投資700億日元
日本經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)道,富士膠片將在截至2024年3月的三年內(nèi),向其半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù)投資700億日元(6.37億美元),以應(yīng)對5G和人工智能全球芯片需求激增的需...
2021-08-22 標(biāo)簽:半導(dǎo)體材料光刻膠富士膠片 1923 0
鼎龍(仙桃)半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)園投產(chǎn)
據(jù)鼎龍控股集團(tuán)消息,鼎龍(仙桃)半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)園區(qū)占地218畝,建筑面積11.5萬平方米,項(xiàng)目總投資約10億元人民幣。經(jīng)過15個(gè)月的建設(shè),同時(shí)進(jìn)入千噸級...
2023-11-17 標(biāo)簽:OLED半導(dǎo)體材料光刻膠 1919 0
對于個(gè)別地方集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展過程中低水平重復(fù)建設(shè)風(fēng)險(xiǎn)顯現(xiàn)等問題,國家發(fā)展改革委新聞發(fā)言人孟瑋10月20日表示,按照主體集中、區(qū)域集聚的發(fā)展原則,加強(qiáng)對集...
南大光電最新消息顯示,國產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過國家“02專項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體;徐州博康宣布,該公司已開發(fā)...
光刻膠類別的多樣化,此次漲價(jià)案所涉KrF光刻膠屬于高階防護(hù)用品,也是未來各地廠家的競爭焦點(diǎn)。當(dāng)前市場中,光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)...
為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝...
2024-07-11 標(biāo)簽:光刻膠 1825 0
超構(gòu)器件的前沿研究與技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀
超構(gòu)光學(xué)為平面光學(xué)器件的發(fā)展提供了新的思路與方向。超構(gòu)器件由亞波長人工納米結(jié)構(gòu)組成,能在二維平面上實(shí)現(xiàn)對入射光的振幅、相位和偏振的操縱。研究人員已經(jīng)發(fā)展...
光刻膠是由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對光敏感的混合液體。利用光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基...
2022-12-06 標(biāo)簽:光刻膠 1819 0
來源:全球半導(dǎo)體觀察 編輯:感知芯視界 近日,半導(dǎo)體行業(yè)又一批項(xiàng)目迎來最新進(jìn)展,范圍涉及車規(guī)級模塊、功率器件、半導(dǎo)體設(shè)備零部件、半導(dǎo)體材料等。 瑞能車規(guī)...
掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側(cè)重,但共同促進(jìn)了芯片的精確制造。? 掩膜版?,也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版,...
昇印光電完成超億元融資,開發(fā)原理級創(chuàng)新技術(shù):嵌入式納米印刷
當(dāng)談到該創(chuàng)新工藝時(shí),不可避免地要與傳統(tǒng)的光刻工藝體系進(jìn)行對比。光刻工藝體系是一種減法工藝:首先要在襯底表面沉積一層材料,例如銅;然后在材料層表面涂布一層...
光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
2024-11-11 標(biāo)簽:光刻膠 1695 0
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