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標(biāo)簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。
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據(jù)披露,國信證券與瑞紅蘇州于2023年9月簽訂了輔導(dǎo)協(xié)議,國信證券擔(dān)任瑞紅蘇州向不特定合格投資者公開發(fā)行股票并在北交所上市輔導(dǎo)工作的輔導(dǎo)機(jī)構(gòu)。
韓國光刻膠供應(yīng)過度依賴進(jìn)口,目前供應(yīng)不足導(dǎo)致庫存量告急
日前,據(jù)韓媒ETnews報(bào)道,韓國的光刻膠供應(yīng)出現(xiàn)了短缺狀況,導(dǎo)致庫存量降低到了通常標(biāo)準(zhǔn)的3個(gè)月供應(yīng)庫存以下。 韓國的光刻膠一向都主要靠日本廠商進(jìn)口供給...
2022-04-19 標(biāo)簽:光刻膠 1666 0
來源:?果殼硬科技 1、光刻膠究竟是怎樣一個(gè)行業(yè)? 光刻膠,又稱“光致抗蝕劑”,是光刻成像的承載介質(zhì),可利用光化學(xué)反應(yīng)將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射、濾波后的光信...
萬潤股份在半導(dǎo)體制造材料領(lǐng)域穩(wěn)步推進(jìn),涉足光刻膠單體、PI等業(yè)務(wù)
近期,萬潤股份在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)透露,其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項(xiàng)目已經(jīng)順利投入運(yùn)營。該項(xiàng)目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。
摘要 幾個(gè)旨在補(bǔ)救的實(shí)驗(yàn)結(jié)果在噴濕化學(xué)品時(shí),光刻膠粘附失效報(bào)道了InGaP/GaAs NPN hbt的刻蝕。 幾個(gè)確定了影響?zhàn)じ胶宛じ降囊蛩夭捎脤?shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)...
日本與韓國半導(dǎo)體進(jìn)行正面沖突 全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈迎變局
日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省7月1日宣布,日本將限制對(duì)韓國出口3種半導(dǎo)體及OLED材料。自7月4日起,包括“氟聚酰亞胺”、“光刻膠”和“高純度氟化氫”3種材料將限制向...
評(píng)價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速...
2024-07-10 標(biāo)簽:光刻膠 1563 0
共讀好書 本篇文章將探討用于晶圓級(jí)封裝(WLP)的各項(xiàng)材料,從光刻膠中的樹脂,到晶圓承載系統(tǒng)(WSS)中的粘合劑,這些材料均在晶圓級(jí)封裝中發(fā)揮著重要作用...
日韓半導(dǎo)體“冰釋前嫌”,光刻膠供應(yīng)鏈進(jìn)入新牌局
芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能過剩:韓國統(tǒng)計(jì)廳發(fā)布的數(shù)據(jù)顯示,1月韓國芯片制造商的芯片庫存與銷售比達(dá)到265.7%,創(chuàng)下26年來的最高值。如果上游材料持續(xù)被日本卡脖子,韓...
通常,光刻膠只是用作構(gòu)建圖形步驟中的臨時(shí)掩膜。因此,光刻工藝的最后一步通常是需要去除光刻膠,我們稱之為去膠或者除膠。并且對(duì)去膠過程的要求是:迅速去膠且沒...
2024-07-08 標(biāo)簽:光刻膠 1498 0
高端光刻膠通過認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝
此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭┥a(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配...
上海衡封新材料科技A輪融資近億元,擴(kuò)大研發(fā),提升產(chǎn)品供應(yīng)能力
衡封新材誕生于2018年,主營業(yè)務(wù)為電子級(jí)酚醛樹脂與特種環(huán)氧樹脂產(chǎn)品,應(yīng)用范圍涵蓋半導(dǎo)體封裝、覆銅板、光刻膠、電子膠等諸多領(lǐng)域。在衡封新材的精英員工隊(duì)伍...
2023-12-15 標(biāo)簽:半導(dǎo)體封裝覆銅板光刻膠 1492 0
韓國SKMP開發(fā)出高厚度KrF光刻膠,可助力3D NAND閃存制造
據(jù)悉,skmp開發(fā)的新型KrF光刻膠的厚度為14至15米,與東進(jìn)半導(dǎo)體(DONGJIN SEMICHEM)向三星提供的產(chǎn)品相似。日本jsr公司的類似產(chǎn)...
集成電路通過一系列特定的加工工藝的過程有哪些?? 集成電路是現(xiàn)代電子技術(shù)的關(guān)鍵部分,被廣泛應(yīng)用于計(jì)算機(jī)、通信、家用電器、汽車等領(lǐng)域。它是由微小的電子器件...
2023-08-29 標(biāo)簽:集成電路計(jì)算機(jī)光刻膠 1444 0
為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測(cè)也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)...
光刻膠的性能:光刻膠的性能對(duì)套刻精度有顯著影響。它決定了圖形的套刻分辨率和邊緣清晰度,光刻膠的收縮和厚度不均勻性都可能導(dǎo)致實(shí)際圖案尺寸與設(shè)計(jì)尺寸之間的偏差。
全球光刻膠市場(chǎng)預(yù)計(jì)收入下滑,2024年有望反彈
所謂的“光刻膠”,即是在紫外線、電子束等輻射下,其溶解度會(huì)產(chǎn)生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關(guān)鍵要素,廣泛應(yīng)用于晶圓和分立器件的精細(xì)圖案制作中。...
陶氏化學(xué)工廠爆炸 牽動(dòng)半導(dǎo)體關(guān)鍵耗材生產(chǎn)
陶氏化學(xué)公司是粘合劑,輔助劑等在內(nèi)的多種材料提供的高純度化學(xué)產(chǎn)品生產(chǎn)線的半導(dǎo)體核心化學(xué)材料的主要供應(yīng)商,也供應(yīng)全球重要的CMP材料包括拋光墊、拋光液等。
圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言,負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)膠工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)...
2024-07-09 標(biāo)簽:光刻膠 1370 0
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