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標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開(kāi)孔,以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。
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在正性光刻過(guò)程中,掩膜版(Photomask)作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具,其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對(duì)掩膜版的主要要求: 圖案準(zhǔn)...
? 圖像轉(zhuǎn)移,也稱(chēng)為光刻技術(shù)(或簡(jiǎn)稱(chēng)光刻),在PCB的電路圖形方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。它能實(shí)現(xiàn)復(fù)雜和精確的連接,以支持在更小的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)更多連接。隨著對(duì)更高密度...
光刻掩膜(也稱(chēng)為光罩)和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用,但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術(shù)中常用的光刻工藝所使用的...
想必大家都有所了解,光刻機(jī)對(duì)芯片制造的重要性,而光掩膜版又稱(chēng)光罩,光掩膜等; 光掩膜版是由制造商通過(guò)光刻制版工藝將電路圖刻制于基板上制作而成,主要作用體...
2024-10-09 標(biāo)簽:光刻 1047 0
光刻掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜且精密的過(guò)程,涉及到多個(gè)步驟和技術(shù)。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程: 1. 設(shè)計(jì)與準(zhǔn)備 在開(kāi)始制作光刻掩膜版之前,首先需要...
光刻掩模是光的一種掩蔽模片,其作用有類(lèi)似于照相的通過(guò)它,可以使它“底下“的光劑部分成光,難溶于有機(jī)藥品,一部分不感光,易溶于有機(jī)藥品,以而制得選擇擴(kuò)散所...
微流控光刻掩膜在微流控芯片制造中扮演著至關(guān)重要的角色。它的主要作用是通過(guò)曝光和顯影等工序,將掩膜上已設(shè)計(jì)好的圖案轉(zhuǎn)移到襯底的光刻膠上,進(jìn)行圖像復(fù)制,從而...
微流控光刻掩膜的制作過(guò)程涉及多個(gè)步驟,?包括設(shè)計(jì)、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版。? 首先,?設(shè)計(jì)階段是制作掩膜版...
VCSEL激光在蝕刻和光刻中應(yīng)用廣泛,提高精度和效率。銀月光科技提供多波長(zhǎng)VCSEL激光器,定制化服務(wù),助力工業(yè)生產(chǎn)高效高質(zhì)量。未來(lái),更多種類(lèi)VCSEL...
來(lái)源:Silicon Semiconductor ? SkyWater位于明尼蘇達(dá)的工廠旨在擁有世界上最先進(jìn)的200毫米光刻技術(shù)。 SkyWater T...
友思特應(yīng)用 硅片上的光影貼合:UV-LED曝光系統(tǒng)在晶圓邊緣曝光中的高效應(yīng)用
晶圓邊緣曝光是幫助減少晶圓涂布過(guò)程中多余的光刻膠對(duì)電子器件影響的重要步驟。友思特 ALE/1 和 ALE/3 UV-LED 高性能點(diǎn)光源,作為唯一可用...
LED替代汞燈在紫外光源中的使用已成為大勢(shì)所趨。友思特先進(jìn)的 UV-LED-EXP 系統(tǒng)可作為OEM集成、汞燈光刻設(shè)備改造或直接定制光路設(shè)計(jì)和曝光設(shè)備,...
一份PPT帶你看懂光刻膠分類(lèi)、工藝、成分以及光刻膠市場(chǎng)和痛點(diǎn)
共讀好書(shū) 前烘對(duì)正膠顯影的影響 前烘對(duì)負(fù)膠膠顯影的影響 需要這個(gè)原報(bào)告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料,內(nèi)含光刻膠多份精品報(bào)告【贈(zèng)2024電子資料百份】...
來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 隨著英特爾、三星、臺(tái)積電以及日本即將落成的先進(jìn)晶圓代工廠 Rapidus盡管各家公司都各自準(zhǔn)備將...
精密光子制造中為什么要使用飛秒激光?飛秒激光器發(fā)射持續(xù)時(shí)間低于一皮秒的超短光脈沖,達(dá)到飛秒級(jí)(1fs=10-15s)。飛秒激光的特點(diǎn)是脈沖寬度極短,峰值...
阿斯麥(ASML)與比利時(shí)微電子(IMEC)聯(lián)合打造的High-NA EUV光刻實(shí)驗(yàn)室正式啟用
近日,全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商阿斯麥(ASML)與比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)共同宣布,位于荷蘭費(fèi)爾德霍芬的High-NAEUV光刻實(shí)驗(yàn)室正式...
新思科技x Multibeam推出業(yè)界首款可量產(chǎn)電子束光刻系統(tǒng) 無(wú)需掩膜
? 基于掩膜的傳統(tǒng)光刻技術(shù),其成本正呈指數(shù)級(jí)攀升。而無(wú)掩膜的電子束光刻技術(shù)提供了補(bǔ)充性選項(xiàng),可以幫助芯片制造商更快地將產(chǎn)品推向市場(chǎng)。電子束光刻技術(shù)采用電...
英特爾推進(jìn)面向未來(lái)節(jié)點(diǎn)的技術(shù)創(chuàng)新,在2025年后鞏固制程領(lǐng)先性
英特爾正在按計(jì)劃實(shí)現(xiàn)其“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”的目標(biāo),目前,Intel 7,采用EUV(極紫外光刻)技術(shù)的Intel 4和Intel 3均已實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。...
SK海力士聯(lián)手TEMC開(kāi)發(fā)氖氣回收技術(shù),年度節(jié)省400億韓元
SK海力士聯(lián)合 TEMC 研發(fā)出一套氖氣回收裝置,用以收集及分類(lèi)處理光刻工藝環(huán)境中的氖氣,然后交予 TEMC 進(jìn)行純化處理,最后回流至 SK 海力士使用。
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