臺積電NIL等下一代光刻專利遙遙領(lǐng)先于三星熱

盡管 EUV 正朝著全面商業(yè)化的方向發(fā)展，并受到半導體行業(yè)的廣泛關(guān)注，但半導體生產(chǎn)商對 NIL（納米壓印）和 DSA（引導自組裝）等替代技術(shù)的研究和開發(fā)...

2023-02-07 標簽：三星電子晶圓光刻 1134 0

晶圓上繪制電路光刻工藝的基本步驟

光刻膠經(jīng)曝光后，其化學性質(zhì)會發(fā)生改變。更準確地說，經(jīng)曝光后，光刻膠在顯影液中的溶解度發(fā)生了變化：曝光后溶解度上升的物質(zhì)稱作正性（Positive）光刻膠...

2023-01-31 標簽：集成電路晶圓光刻 2279 0

掩膜版行業(yè)基本概述

掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。

2023-01-09 標簽：半導體制造業(yè)光刻 3840 0

基于富硫聚合物的高靈敏紅外偏振器

與常規(guī)紅外材料不同，富硫聚合物可溶解在有機溶劑中，這意味著其可應(yīng)用于基于溶液的旋涂方法。此外，富硫聚合物擁有的粘滯彈性和動態(tài)共價二硫鍵使其可被熱納米壓印...

2023-01-05 標簽：紅外光刻偏振 872 0

使用 3D 納米打印

使用 3D 納米打印

2022-12-28 標簽：3D光刻光刻膠 1194 0

芯片晶圓代工和封測工藝流程

晶圓清洗是指通過將晶圓沉浸在不同的清洗藥劑內(nèi)或通過噴頭將調(diào)配好的清洗液藥劑噴射于晶圓表面進行清洗，再通過超純水進行二次清洗，以去除晶圓表面的雜質(zhì)顆粒和殘...

2022-12-07 標簽：晶圓代工光刻封測 8299 0

廈門云天Fine Pitch光刻工藝突破2um L/S

來源：云天半導體 廈門云天半導體繼九月初812吋 “晶圓級封裝與無源器件生產(chǎn)線”正式通線后，經(jīng)過團隊的不懈努力， 8英寸晶圓Fine Pitch光刻工藝...

2022-11-30 標簽：光刻 2053 0

宇微光學成功研發(fā)計算光刻EDA軟件

劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，通過光刻成像系統(tǒng)，將設(shè)計好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產(chǎn)生畸變。

2022-11-28 標簽：eda光刻產(chǎn)業(yè)鏈 1362 0

生命科學、醫(yī)藥健康和電子科技三大業(yè)務(wù)協(xié)同創(chuàng)新

材料來源：化合物半導體 本刊記者 日前，旗下?lián)碛猩茖W、醫(yī)藥健康和電子科技三大業(yè)務(wù)板塊的科技公司默克重磅亮相第五屆中國國際進口博覽會（進博會），并宣布...

2022-11-10 標簽：晶圓光刻 865 0

俄羅斯政府預(yù)計2030年開發(fā)出28納米制程技術(shù)

，俄羅斯政府推出了一項國家計劃，到2030年開發(fā)出自己的28納米制程技術(shù)，并盡可能利用外國芯片進行逆向工程取得技術(shù)，同時也要培養(yǎng)本土人才從事國產(chǎn)芯片的生產(chǎn)工作。

2022-11-08 標簽：光刻7nm 1097 0

汽車行業(yè)能否跨越半導體“傻瓜的圍墻”？

在本文中，首先論述半導體業(yè)界中存在著怎樣的“傻瓜的圍墻”。接下來，由于半導體行業(yè)內(nèi)到處都有壁壘，所以行業(yè)內(nèi)外之間存在著巨大的差異。然后進一步說明汽車與半...

2022-11-07 標簽：半導體光刻 793 0

不使用EUV突破1nm極限？美國推出全新光刻系統(tǒng)，分辨率0.768nm！

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/梁浩斌）最近，一家名為Zyvex Labs的美國公司宣布推出亞納米分辨率的光刻系統(tǒng)Zyvex Litho 1，據(jù)稱分辨率可以達到0...

2022-09-27 標簽：光刻EUV 5136 0