南大光電高黏附性的ArF光刻膠樹脂專利揭秘

在國際半導(dǎo)體領(lǐng)域，我國雖已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)大國，但整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國內(nèi)光刻膠廠布局較晚，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)相較于海外先進(jìn)技術(shù)差距較大，...

2020-03-06 標(biāo)簽：光刻 4787 0

美國泛林宣布與ASML、IMEC合作開發(fā)出新的EUV光刻技術(shù) 成本大幅降低

2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠...

2020-02-29 標(biāo)簽：光刻IMECEUV 3663 0

光刻到底是什么 又有哪幾個部分

經(jīng)常聽說，高端光刻機(jī)不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機(jī)呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～

2020-01-19 標(biāo)簽：光刻 8919 0

什么是光刻

經(jīng)常聽說，高端光刻機(jī)不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機(jī)呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～

2020-01-24 標(biāo)簽：集成電路光刻 8695 0

臺積電首個EUV工藝的N7+開始向客戶交付產(chǎn)品

10月7日，臺積電宣布，其業(yè)界首款可商用的極紫外（EUV）光刻技術(shù)七納米plus（N7+）將向客戶交付產(chǎn)品。采用EUV技術(shù)的N7+工藝建立在臺積電成功的...

2019-10-09 標(biāo)簽：臺積電光刻EUV 7271 0

關(guān)于京東方的發(fā)展分析介紹

蒸鍍機(jī)外加金屬鍍罩的雙重門檻，不僅限制了同業(yè)的生產(chǎn)良率，也為其他品牌的手機(jī)屏設(shè)置了一道分辨率的上限。使其擁有了對其他手機(jī)品牌的牽制，最好的案例便是曾經(jīng)如...

2019-09-04 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻 9071 0

新型反射顯示:基于等離子超體表面無光刻制程

該技術(shù)的實(shí)施還需要借助高成本的納米光刻制造技術(shù)。

2019-06-28 標(biāo)簽：納米光刻 2997 0

日美大戶橫行,阿斯麥光刻市場的崛起之路

阿斯麥的地位有多重要？可以這么說，如果它停產(chǎn)，全球半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)將會停擺。

2019-06-03 標(biāo)簽：光刻ASML 3702 0

臺積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術(shù) 7nm+工藝芯片已量產(chǎn)

臺積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡。

2019-05-28 標(biāo)簽：臺積電光刻EUV 3910 0

光刻工藝的苛刻高精度、重復(fù)性和穩(wěn)定性要求

光刻技術(shù)，顧名思義就是一種用光刻印的技術(shù)，它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造行業(yè)以及許多其他納米技術(shù)應(yīng)用中；

2019-05-15 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻 6041 0

突發(fā)！ASML對手，宣布破產(chǎn)！

荷蘭的芯片機(jī)制造是世界有名的，其中的ASML就是世界領(lǐng)先的佼佼者，但是，上周有消息傳出，其荷蘭的競爭對手、代

2019-01-05 標(biāo)簽：芯片電子光刻 4444 0

SK海力士的M16工廠將用上最先進(jìn)的EUV光刻工藝

今年10月份SK Hynix才剛剛建成最新的M15晶圓廠，這是2015年全球最大的存儲芯片工廠M14落成時SK Hynix宣布的46萬億韓元投資計劃中的...

2018-12-22 標(biāo)簽：光刻SK海力士 4392 0

我國成功研制出世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備

我國成功研制出世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備，可加工22納米芯片。

2018-12-01 標(biāo)簽：光刻光刻機(jī) 3501 0

EUV光刻工藝終于商業(yè)化 新一代EUV光刻工藝正在籌備

隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多...

2018-10-30 標(biāo)簽：光刻EUV 3868 0

臺積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項(xiàng)重磅突破

今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn)，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或...

2018-10-17 標(biāo)簽：芯片臺積電光刻 5177 0

IC設(shè)計工程師必須要知道光刻的原因

在30多年的半導(dǎo)體制造歷史上，最大的一個挑戰(zhàn)就是跟上1965年摩爾做出的預(yù)測，即集成電路中的晶體管數(shù)目每兩年翻一番。 為了實(shí)現(xiàn)這個目的，IC尺寸越來越大...

2018-03-29 標(biāo)簽：ic設(shè)計工程師光刻 6374 0