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標(biāo)簽 > 刻蝕機(jī)

刻蝕機(jī)

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刻蝕機(jī)是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器,于2012年5月14日啟用,在半導(dǎo)體和線路板制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

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刻蝕機(jī)簡介

  刻蝕機(jī)是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器,于2012年5月14日啟用,在半導(dǎo)體和線路板制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

  蝕刻機(jī)主要應(yīng)用于航空、機(jī)械、標(biāo)牌工業(yè)中,蝕刻機(jī)技術(shù)廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等之加工。

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刻蝕機(jī)知識

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2024-04-30 標(biāo)簽:射頻等離子體刻蝕機(jī) 1996 0

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如何調(diào)控BOSCH工藝深硅刻蝕?影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有哪些?

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影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有:氣體流量、上電極功率、下電極功率、腔體壓力和冷卻器。

2024-02-25 標(biāo)簽:晶圓冷卻器刻蝕機(jī) 3714 0

干法刻蝕常用設(shè)備的原理及結(jié)構(gòu)

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2024-01-20 標(biāo)簽:等離子體晶圓刻蝕機(jī) 1.0萬 0

半導(dǎo)體零部件行業(yè)深度報告

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半導(dǎo)體設(shè)備主要應(yīng)用于集成電路的制造和封測環(huán)節(jié),可細(xì)分為晶圓制造設(shè)備(前道設(shè)備)和封裝、測試設(shè)備(后道設(shè)備)。其中,前道設(shè)備主要有光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積...

2023-12-27 標(biāo)簽:集成電路芯片制造光刻機(jī) 975 0

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2023-11-27 標(biāo)簽:晶圓微處理器光電器件 2633 0

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刻蝕機(jī)資訊

中微公司ICP雙臺刻蝕機(jī)Primo Twin-Star?取得亞埃級刻蝕精度

近日,中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,股票代碼“688012.SH”)宣布通過不斷提升反應(yīng)臺之間氣體控制的精度,?ICP雙反應(yīng)...

2025-03-26 標(biāo)簽:半導(dǎo)體ICP刻蝕機(jī) 603 0

上海伯東IBE離子束刻蝕機(jī)介紹

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濕法刻蝕步驟有哪些

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上海伯東IBE離子束刻蝕機(jī)優(yōu)勢

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上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料。是一種干法物理納米級別的刻蝕, 刻蝕均勻性 ≤±5%(部分材料 ±3%)。...

2024-11-27 標(biāo)簽:離子束刻蝕機(jī) 412 0

臻寶科技開啟上市輔導(dǎo)

近日,中國證券監(jiān)督管理委員會(證監(jiān)會)披露了重慶臻寶科技股份有限公司(簡稱“臻寶科技”)的首次公開發(fā)行股票并上市輔導(dǎo)備案報告,標(biāo)志著該公司正式開啟上市輔...

2024-02-26 標(biāo)簽:半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 1893 0

比肩國際大廠,刻蝕設(shè)備會是率先實現(xiàn)國產(chǎn)替代的嗎?

比肩國際大廠,刻蝕設(shè)備會是率先實現(xiàn)國產(chǎn)替代的嗎?

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚)在半導(dǎo)體制造的各路工序中,尤其是前道工序中,技術(shù)難度最大的主要三大流程當(dāng)屬光刻、刻蝕和薄膜沉積了。這三大工藝的先進(jìn)程度直接...

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北方華創(chuàng)發(fā)布首臺國產(chǎn)12英寸晶邊刻蝕機(jī)

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2023-07-19 標(biāo)簽:晶圓存儲芯片刻蝕機(jī) 1429 0

比亞迪再擴(kuò)大投資版圖,入股嘉芯半導(dǎo)體

據(jù)萬業(yè)企業(yè)公告,2021年12月,萬業(yè)企業(yè)攜手寧波芯恩半導(dǎo)體科技有限公司(以下簡稱“寧波芯恩”)成立嘉芯半導(dǎo)體,以20億元總投資規(guī)模,重點打造國內(nèi)集成電...

2023-07-13 標(biāo)簽:半導(dǎo)體比亞迪刻蝕機(jī) 1504 0

勝訴!美國半導(dǎo)體巨頭侵犯中微刻蝕機(jī)商業(yè)秘密案,終審宣判!

編輯:感知芯視界 來源:EETOP 2023年7月11日——中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,上交所股票代碼:688012)今日...

2023-07-12 標(biāo)簽:半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 710 0

中微公司在針對美商科林研發(fā)提起的侵犯商業(yè)秘密案中贏得二審勝訴

中微公司2010年12月向上海市第一中級人民法院就科林研發(fā)侵犯公司商業(yè)秘密案提起一審訴訟,并于2017年3月贏得一審訴訟。隨后,該案件被上訴至上海市高級...

2023-07-11 標(biāo)簽:中微半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 614 0

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