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刻蝕機(jī)

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刻蝕機(jī)是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，于2012年5月14日啟用，在半導(dǎo)體和線(xiàn)路板制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

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刻蝕機(jī)簡(jiǎn)介

　　蝕刻機(jī)主要應(yīng)用于航空、機(jī)械、標(biāo)牌工業(yè)中，蝕刻機(jī)技術(shù)廣泛地被使用于減輕重量（Weight Reduction）儀器鑲板及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等之加工。

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刻蝕機(jī)知識(shí)

中微公司ICP雙臺(tái)刻蝕機(jī)Primo Twin-Star?取得亞埃級(jí)刻蝕精度

近日，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“中微公司”，股票代碼“688012.SH”）宣布通過(guò)不斷提升反應(yīng)臺(tái)之

2025-03-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體 ICP 刻蝕機(jī) 821 0
濕法刻蝕步驟有哪些

說(shuō)到濕法刻蝕了，這個(gè)是專(zhuān)業(yè)的技術(shù)。我們也得用專(zhuān)業(yè)的內(nèi)容才能給大家講解。聽(tīng)到這個(gè)工藝的話(huà)，最專(zhuān)業(yè)的一定就是講述濕法刻蝕步驟

2024-12-13 標(biāo)簽：刻蝕設(shè)備刻蝕工藝刻蝕機(jī) 745 0
上海伯東IBE離子束刻蝕機(jī)優(yōu)勢(shì)

上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料。是一種干法物理納米級(jí)別的刻蝕，刻蝕均勻性

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2024-03-11 標(biāo)簽：芯片制造光刻光刻機(jī) 13958 0
基于兩步刻蝕工藝的錐形TSV制備方法研究

以硅通孔（TSV）為核心的 2.5D/3D 封裝技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)芯片之間的高速、低功耗和高帶寬的信號(hào)傳輸。

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干法刻蝕常用設(shè)備的原理及結(jié)構(gòu)

干法刻蝕技術(shù)是一種在大氣或真空條件下進(jìn)行的刻蝕過(guò)程，通常使用氣體中的離子或化學(xué)物質(zhì)來(lái)去除材料表面的部分，通過(guò)掩膜和刻蝕參

2024-01-20 標(biāo)簽：等離子體晶圓刻蝕機(jī) 11380 0
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射頻電源結(jié)構(gòu)及應(yīng)用分析

主流射頻電源頻率包括為400KHz、2MHz、13.56MHz、27.12MHz、40MHz和60MHz等。射頻電源由于

2023-11-30 標(biāo)簽：集成電路 NAND DC-DC 11209 0
濕法刻蝕液的種類(lèi)與用途有哪些呢？濕法刻蝕用在哪些芯片制程中？

濕法刻蝕由于成本低、操作簡(jiǎn)單和一些特殊應(yīng)用，所以它依舊普遍。

2023-11-27 標(biāo)簽：晶圓微處理器光電器件 2920 0

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刻蝕機(jī)技術(shù)

刻蝕機(jī)是干什么用的刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別

刻蝕機(jī)的刻蝕過(guò)程和傳統(tǒng)的雕刻類(lèi)似，先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜，再將掩膜與待加工物料模組裝好，將樣品置于刻蝕室內(nèi)，通過(guò)化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將...

2024-03-11 標(biāo)簽：芯片制造光刻光刻機(jī) 1.4萬(wàn) 0

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干法刻蝕技術(shù)是一種在大氣或真空條件下進(jìn)行的刻蝕過(guò)程，通常使用氣體中的離子或化學(xué)物質(zhì)來(lái)去除材料表面的部分，通過(guò)掩膜和刻蝕參數(shù)的調(diào)控，可以實(shí)現(xiàn)各向異性及各向...

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射頻電源結(jié)構(gòu)及應(yīng)用分析

主流射頻電源頻率包括為400KHz、2MHz、13.56MHz、27.12MHz、40MHz和60MHz等。射頻電源由于應(yīng)用場(chǎng)景多樣，按照頻率和功率可分...

2023-11-30 標(biāo)簽：集成電路 NAND DC-DC 1.1萬(wàn) 0

干法刻蝕的負(fù)載效應(yīng)是怎么產(chǎn)生的？有什么危害？如何抑制呢？

有過(guò)深硅刻蝕的朋友經(jīng)常會(huì)遇到這種情況：在一片晶圓上不同尺寸的孔或槽刻蝕速率是不同的。

2023-10-07 標(biāo)簽：晶圓刻蝕機(jī) 6953 0

SiO2在氫氟酸中的刻蝕機(jī)理

摘要研究了高頻和高頻/HCI溶液中的不同平衡點(diǎn)，并研究了SiQ的蝕刻反應(yīng)作為高頻溶液中不同物種的函數(shù)。基于HF二聚體的存在，建立了一種新的SiO~蝕刻...

2021-12-31 標(biāo)簽：晶圓鍍膜刻蝕 5353 0

如何調(diào)控BOSCH工藝深硅刻蝕？影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有哪些？

影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有：氣體流量、上電極功率、下電極功率、腔體壓力和冷卻器。

2024-02-25 標(biāo)簽：晶圓冷卻器刻蝕機(jī) 4183 0

淺談Micro OLED生產(chǎn)環(huán)節(jié)

OLED制程。①OLED陽(yáng)極。②蒸鍍OLED器件。蒸鍍和傳統(tǒng)OLED不一樣，沒(méi)有這么密的mask，需要先白光，再加濾光。③封裝，即薄膜封裝層。④CF彩色...

2023-12-04 標(biāo)簽：OLED 光刻 Micro OLED 3668 0

濕法刻蝕液的種類(lèi)與用途有哪些呢？濕法刻蝕用在哪些芯片制程中？

濕法刻蝕由于成本低、操作簡(jiǎn)單和一些特殊應(yīng)用，所以它依舊普遍。

2023-11-27 標(biāo)簽：晶圓微處理器光電器件 2920 0

二氧化硅玻璃陶瓷刻蝕化學(xué)及HF輔助刻蝕的觀察

關(guān)鍵詞:玻璃陶瓷；氫氟酸；蝕刻條件；蝕刻速率；機(jī)制引言我們江蘇華林科納研究了氧化鎂-氧化鋁-二氧化硅玻璃陶瓷在氫氟酸中的腐蝕條件和機(jī)理。結(jié)果表明，在...

2022-01-04 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓刻蝕 2698 0

ICP-RIE機(jī)臺(tái)的原理是什么樣的？

ICP-RIE全稱(chēng)是電感耦合等離子體刻蝕機(jī)，是半導(dǎo)體芯片微納加工過(guò)程中必不可少的設(shè)備，可加工微米級(jí)納米級(jí)的微型圖案。

2024-04-30 標(biāo)簽：射頻等離子體刻蝕機(jī) 2286 0

刻蝕機(jī)帖子

單片機(jī)IC芯片開(kāi)發(fā)之刻蝕機(jī)的作用

標(biāo)簽：單片機(jī)刻蝕機(jī) 4496 1

刻蝕機(jī)資料下載

刻蝕機(jī)資訊

刻蝕機(jī)能替代光刻機(jī)嗎

刻蝕機(jī)不能代替光刻機(jī)。光刻機(jī)的精度和難度的要求都比刻蝕機(jī)高出很多，在需要光刻機(jī)加工的時(shí)候刻蝕機(jī)有些不能辦到，并且刻蝕機(jī)的精度十分籠統(tǒng)，而光刻機(jī)對(duì)精度的要...

2022-02-05 標(biāo)簽：光刻機(jī)刻蝕機(jī) 4.4萬(wàn) 0

半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化機(jī)遇來(lái)臨，但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)還是需要全球合作

目前，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料與設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化率平均還不到20%，但經(jīng)過(guò)15~20多年的技術(shù)積累，以及企業(yè)和國(guó)家的大力投入，半導(dǎo)體材料與設(shè)備在2020年將會(huì)獲得實(shí)質(zhì)...

2020-05-28 標(biāo)簽：光刻機(jī)刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備 1.3萬(wàn) 0

中微半導(dǎo)體：“中國(guó)芯”的進(jìn)程已經(jīng)達(dá)到14nm大量生產(chǎn)，7nm即將進(jìn)入生產(chǎn)的水平

截至目前，中微公司已經(jīng)成為全球半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備 5 大供應(yīng)商之一，擁有1755 項(xiàng)專(zhuān)利，并且其自主研發(fā)的5nm刻蝕機(jī)已經(jīng)正式應(yīng)用于臺(tái)積電5nm生產(chǎn)線(xiàn)，3n...

2021-04-29 標(biāo)簽：集成電路中微半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 8613 0

我們?cè)诠饪虣C(jī)上輸?shù)暮軕K，但我們贏在了刻蝕機(jī)上

2022-01-14 標(biāo)簽：半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 7808 0

刻蝕機(jī)國(guó)產(chǎn)化率迅速提升，長(zhǎng)江存儲(chǔ)2020年達(dá)30%

目前，北方華創(chuàng)的刻蝕設(shè)備已經(jīng)覆蓋集成電路、LED、先進(jìn)封裝、功率半導(dǎo)體、MEMS微機(jī)電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、硅基微顯、分析儀器、功率器件、光通信器件等多個(gè)...

2020-12-29 標(biāo)簽：集成電路半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 5182 0

尹志堯揭秘：中微是怎么從初創(chuàng)公司，做到全球領(lǐng)先的刻蝕機(jī)大廠

9月15日，中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司創(chuàng)始人、董事長(zhǎng)、總經(jīng)理尹志堯在某活動(dòng)中探討如何打造高質(zhì)量、有競(jìng)爭(zhēng)力的半導(dǎo)體設(shè)備公司時(shí)，表示目前半導(dǎo)體公司的設(shè)備...

2021-09-16 標(biāo)簽：中微半導(dǎo)體半導(dǎo)體設(shè)備刻蝕機(jī) 5144 0

中微上半年凈利潤(rùn)3.97億元！5nm以下刻蝕機(jī)已獲批量訂單

8月24日，中微公司發(fā)布2021年半年度業(yè)績(jī)報(bào)告。報(bào)告顯示，公司2021年上半年?duì)I業(yè)收入約13.39億元，同比增加36.82%；歸母凈利潤(rùn)3.97億元，...

2021-08-27 標(biāo)簽：5nm 中微公司刻蝕機(jī) 4620 0

刻蝕后殘留物的去除方法

引言化合物半導(dǎo)體處理通常使用高密度等離子體蝕刻來(lái)建立通孔金屬接觸，該通孔金屬接觸通常在諸如金(Au)的惰性金屬上停止。蝕刻工藝可以從正面或背面穿過(guò)襯底...

2022-06-09 標(biāo)簽：半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 3651 0

北方華創(chuàng)ICP刻蝕機(jī)交付突破1000腔

北方華創(chuàng)（Naura）官方宣布，ICP等離子刻蝕機(jī)第1000腔交付儀式近日在北京亦莊基地舉行，NAURA刻蝕機(jī)研發(fā)團(tuán)隊(duì)見(jiàn)證了這一歷史性時(shí)刻。北方華創(chuàng)表...

2020-12-11 標(biāo)簽：ICP 北方華創(chuàng)刻蝕機(jī) 3363 0

微公司透露：公司研發(fā)的等離子刻蝕設(shè)備已經(jīng)進(jìn)入客戶(hù)的5nm生產(chǎn)線(xiàn)

近日，微公司董事長(zhǎng)、總經(jīng)理尹志堯透露，公司研發(fā)的等離子刻蝕設(shè)備已經(jīng)進(jìn)入客戶(hù)的5nm生產(chǎn)線(xiàn)。尹志堯表示，公司的等離子體刻蝕設(shè)備已應(yīng)用在國(guó)際一線(xiàn)客戶(hù)從65...

2021-04-11 標(biāo)簽：芯片 5nm 刻蝕機(jī) 2973 0

刻蝕機(jī)數(shù)據(jù)手冊(cè)

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