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標簽 > 微影技術(shù)
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盡管極紫外光(EUV)步進機的大量生產(chǎn)面臨復雜的問題以及緊迫的時間,專家們?nèi)匀槐С謽酚^態(tài)度...
EUV微影技術(shù)仍待克服重重障礙 2020年將用于關(guān)鍵步驟
極紫外光(EUV)微影技術(shù)持續(xù)取得重大進展。在日前于美國加州圣荷西舉行的國際光電工程學會(SPIE)年度會議上,英特爾(Intel)與三星(Samsun...
半導體工業(yè)在光學微影技術(shù)的幫助下,長期形成持續(xù)且快速的成長態(tài)勢,但光學微影在面對更精密的制程已開始出現(xiàn)應用瓶頸,尤其在小于0.1微米或更精密的制程,必須...
ASML:預計2015年可發(fā)布首款量產(chǎn)型EUV機臺
設(shè)備供應商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時微電子研究中心(IMEC)和重量級晶圓廠,合力改良EUV光源功率與晶圓產(chǎn)出速度,預計2015年可發(fā)布首款量產(chǎn)型...
FinFET改變戰(zhàn)局:臺積將組大聯(lián)盟抗三星Intel
晶圓代工廠邁入高投資與技術(shù)門檻的鰭式場效電晶體制程世代后,與整合元件制造商的競爭將更為激烈,因此臺積電正積極籌組大聯(lián)盟,串連矽智財、半導體設(shè)備/材料,以...
專家們一致認為,過去幾十年來一直扮演半導體創(chuàng)新引擎的摩爾定律(Moore“s Law ),正由于下一代超紫外光(EUV)微影技術(shù)的延遲而失去動力。
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