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標(biāo)簽 > 泛林集團
在泛林集團,我們深信創(chuàng)新不僅來自于創(chuàng)新者,更需要共同合作、精確細(xì)致和努力交付才能實現(xiàn)創(chuàng)新。我們助力第四次工業(yè)革命,也是世界領(lǐng)先半導(dǎo)體企業(yè)值得信賴的伙伴。我們無懼挑戰(zhàn),敢于承諾。
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當(dāng)聽到“半導(dǎo)體”這個詞時,你會想到什么?它聽起來復(fù)雜且遙遠(yuǎn),但其實已經(jīng)滲透到我們生活的各個方面:從智能手機、筆記本電腦、信用卡到地鐵,我們?nèi)粘I钏蕾?..
解讀MEMS麥克風(fēng)技術(shù)與設(shè)計
MEMS(微型機電系統(tǒng))麥克風(fēng)是提供高保真聲感的微型器件,體積小,可緊密集成于電子產(chǎn)品中,如智能手機、智能揚聲器以及耳機等電子消費品。
深入解析泛林集團Striker ICEFill電介質(zhì)填充技術(shù)
沉積技術(shù)是推進存儲器件進步的關(guān)鍵要素。但隨著3D NAND堆棧的出現(xiàn),現(xiàn)有填充方法的局限性已開始凸顯。
動態(tài)隨機存取存儲器 (DRAM) 是一種集成電路,目前廣泛應(yīng)用于需要低成本和高容量內(nèi)存的數(shù)字電子設(shè)備,如現(xiàn)代計算機、顯卡、便攜式設(shè)備和游戲機。
3D DRAM時代即將到來,泛林集團這樣構(gòu)想3D DRAM的未來架構(gòu)
SEMulator3D將在半導(dǎo)體器件設(shè)計和制造中發(fā)揮重要作用 作者:泛林集團 Semiverse Solutions 部門 SEMulator3D?應(yīng)用...
為實現(xiàn)針對工藝設(shè)備的診斷,泛林集團打造了一個名為“泛林?jǐn)?shù)據(jù)分析器(LamDA)”的實用程序。該程序可以讀取日志數(shù)據(jù)并用圖形表現(xiàn)情況變化,非常適用于針對不...
2020-11-16 標(biāo)簽:gps機器學(xué)習(xí)大數(shù)據(jù) 1394 0
加速實現(xiàn)3D:泛林集團推出開創(chuàng)性的選擇性刻蝕解決方案
微縮(即縮小芯片中的微小器件,如晶體管和存儲單元)從來都不是容易的事情,但要想讓下一代先進邏輯和存儲器件成為現(xiàn)實,就需要在原子級的尺度上創(chuàng)造新的結(jié)構(gòu)。
有一種先進封裝技術(shù)被稱為“晶圓級封裝”(WLP),即直接在晶圓上完成集成電路的封裝程序。通過該工藝進行封裝,可以制成與原裸片大小近乎相同的晶圓。
增加電路密度而不必移動到新技術(shù)節(jié)點的優(yōu)勢使得垂直擴展成為半導(dǎo)體行業(yè)的強大驅(qū)動力。但它也有一系列挑戰(zhàn),其中關(guān)鍵的挑戰(zhàn)便是刻蝕能力。
泛林集團的選擇性刻蝕方法:Argos、Prevos和Selis
微縮(即縮小芯片中的微小器件,如晶體管和存儲單元)從來都不是容易的事情,但要想讓下一代先進邏輯和存儲器件成為現(xiàn)實,就需要在原子級的尺度上創(chuàng)造新的結(jié)構(gòu)。當(dāng)...
持續(xù)的器件微縮導(dǎo)致特征尺寸變小,工藝步驟差異變大,工藝窗口也變得越來越窄[1]。半導(dǎo)體研發(fā)階段的關(guān)鍵任務(wù)之一就是尋找工藝窗口較大的優(yōu)秀集成方案。如果晶圓...
在我從事半導(dǎo)體設(shè)備的職業(yè)生涯之初,晶圓背面是個麻煩問題。當(dāng)時發(fā)生了一件令我記憶深刻的事:在晶圓傳送的過程中,幾片晶圓從機器人刀片上飛了出來。收拾完殘局后...
使用虛擬實驗設(shè)計加速半導(dǎo)體工藝發(fā)展
虛擬DOE能夠降低硅晶圓測試成本,并成功降低DED鎢填充工藝中的空隙體積
2023-07-10 標(biāo)簽:半導(dǎo)體工藝泛林集團虛擬實驗設(shè)計 616 0
使用Coventor SEMulator3D?創(chuàng)建可以預(yù)測寄生電容的機器學(xué)習(xí)模型
2023-07-06 標(biāo)簽:寄生電容機器學(xué)習(xí)泛林集團 591 0
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