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標簽 > 電子束
電子在電場中會受力而得到加速、提高能量,產(chǎn)生電子束。一臺電子加速器,注入的電子能量為20GeV(1GeV=109 eV,也就是10億電子伏特),相應的電子速度為0.99999999979倍光速。電子經(jīng)加速器加速后,能量可達到100GeV,電子速度達到0.999999999987倍的光速。這說明,電子在這臺加速器里速度幾乎沒有增加,而能量增加了4倍。
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本文系統(tǒng)梳理了直寫式、多電子束與投影式EBL的關鍵技術(shù)路徑,涵蓋掃描策略、束流整形、鄰近效應校正與系統(tǒng)集成等方面,并探討其在精度、效率與成本間的技術(shù)矛盾...
FIB-SEM雙束系統(tǒng):多領域應用的前沿技術(shù)
系統(tǒng)構(gòu)成與工作原理FIB-SEM雙束系統(tǒng)是一種集微區(qū)成像、加工、分析、操縱于一體的綜合型分析與表征設備。其基本構(gòu)成是將單束聚焦離子束系統(tǒng)與掃描電子顯微鏡...
半導體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點企業(yè)
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增...
EBSD技術(shù)概述電子背散射衍射(EBSD)是一種尖端的材料分析技術(shù),它依托于高能電子與材料表面晶體結(jié)構(gòu)的交互作用,通過捕捉和解析由此產(chǎn)生的背散射電子的衍...
泊蘇 Type C 系列防震基座在半導體光刻加工電子束光刻設備的應用案例
某大型半導體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn),其電子束光刻設備在芯片制造的光刻工藝中起著關鍵作用。然而,企業(yè)所在園區(qū)周邊存在眾多工廠,日常生產(chǎn)活動產(chǎn)生...
獲得良好的衍射圖譜的前提是制備出優(yōu)質(zhì)的EBSD樣品
電子背散射衍射技術(shù)(EBSD)在材料科學領域,電子背散射衍射技術(shù)(EBSD)自20世紀90年代末期以來,已經(jīng)成為一種創(chuàng)新且不可或缺的分析工具。EBSD技...
在當今時代,納米科學因其在眾多行業(yè)中引發(fā)的變革性應用,已然成為促進人類文明向前發(fā)展的重要驅(qū)動力。無論是在生物醫(yī)學、能源存儲還是航空宇宙領域,納米技術(shù)都展...
FIB系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)及其實際應用
雙束技術(shù):FIB與SEM的協(xié)同工作雙束聚焦離子束顯微鏡的關鍵在于其雙束技術(shù),離子束(FIB)用于樣品的精確切割和蝕刻,而電子束(SEM)則捕捉樣品的高分...
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