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標(biāo)簽 > 電子束

電子束

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電子在電場(chǎng)中會(huì)受力而得到加速、提高能量,產(chǎn)生電子束。一臺(tái)電子加速器,注入的電子能量為20GeV(1GeV=109 eV,也就是10億電子伏特),相應(yīng)的電子速度為0.99999999979倍光速。電子經(jīng)加速器加速后,能量可達(dá)到100GeV,電子速度達(dá)到0.999999999987倍的光速。這說(shuō)明,電子在這臺(tái)加速器里速度幾乎沒(méi)有增加,而能量增加了4倍。

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電子束技術(shù)

電子示波器和數(shù)字示波器的比較

引言 示波器是一種廣泛應(yīng)用于電子測(cè)量領(lǐng)域的儀器,它能夠?qū)㈦娦盘?hào)的波形以圖形的方式顯示出來(lái),便于工程師對(duì)信號(hào)進(jìn)行分析和測(cè)量。示波器主要分為兩大類:電子示波...

2024-07-17 標(biāo)簽:模擬技術(shù)數(shù)字示波器電子束 1009 0

半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點(diǎn)企業(yè)

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光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增...

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研究人員制造出直徑近30厘米的光學(xué)超表面

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再見(jiàn)鏡頭,你好超表面。所謂的超表面可以幫助使光學(xué)系統(tǒng)在未來(lái)變得更薄,同時(shí)增加其功能。 到目前為止,傳統(tǒng)的制造工藝通常只能實(shí)現(xiàn)小的超表面,通常小于一平方毫...

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電子束光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì)納米結(jié)構(gòu)特征的精細(xì)控制

電子束光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì)納米結(jié)構(gòu)特征的精細(xì)控制

電子束光刻技術(shù)使得對(duì)構(gòu)成多種納米技術(shù)基礎(chǔ)的納米結(jié)構(gòu)特征實(shí)現(xiàn)精細(xì)控制成為可能。納米結(jié)構(gòu)制造與測(cè)量的研究人員致力于提升納米尺度下的光刻精度,并開(kāi)發(fā)了涵蓋從光...

2024-10-18 標(biāo)簽:納米電子束光刻技術(shù) 877 0

聚焦離子束一電子束(FIB-SEM)雙束系統(tǒng)原理

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納米科技是當(dāng)前科學(xué)研究的前沿領(lǐng)域,納米測(cè)量學(xué)和納米加工技術(shù)在其中扮演著至關(guān)重要的角色。電子束和離子束等工藝是實(shí)現(xiàn)納米尺度加工的關(guān)鍵手段。特別是聚焦離子束...

2024-11-14 標(biāo)簽:SEMfib電子束 856 0

模擬示波器包括電子槍嗎

包括。模擬示波器是一種用于測(cè)量和觀察電信號(hào)波形的儀器,它廣泛應(yīng)用于電子、通信、電力等領(lǐng)域。電子槍是模擬示波器中的一個(gè)重要組成部分,它負(fù)責(zé)產(chǎn)生高速電子束,...

2024-07-17 標(biāo)簽:電子槍電子束模擬示波器 819 0

FIB機(jī)臺(tái)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)

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簡(jiǎn)單介紹FIB機(jī)臺(tái)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。?? 首先,讓我們看一下FIB機(jī)臺(tái)的外觀圖 接下來(lái),我們將FIB從中線剖開(kāi),是下圖這個(gè)樣子: 什么是雙束聚焦離子束顯微鏡?...

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低能量電子束曝光技術(shù)

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直接蝕刻和剝離是兩種比較流行的圖案轉(zhuǎn)移工藝。在直接蝕刻工藝中,首先使用光刻技術(shù)對(duì)聚合物抗蝕劑進(jìn)行構(gòu)圖,然后通過(guò)干法蝕刻技術(shù)用抗蝕劑作為掩模將圖案轉(zhuǎn)移到襯...

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某大型半導(dǎo)體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn),其電子束光刻設(shè)備在芯片制造的光刻工藝中起著關(guān)鍵作用。然而,企業(yè)所在園區(qū)周邊存在眾多工廠,日常生產(chǎn)活動(dòng)產(chǎn)生...

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在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,晶圓堪稱核心基石,其表面質(zhì)量直接關(guān)乎芯片的性能、可靠性與良品率。

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EBSD技術(shù):磁性材料研究的新視角在材料科學(xué)研究中,對(duì)磁性材料的微觀結(jié)構(gòu)和晶體學(xué)特性的深入理解至關(guān)重要。電子背散射衍射(EBSD)技術(shù),作為一種先進(jìn)的顯...

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電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)在孿晶結(jié)構(gòu)分析中的應(yīng)用研究

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電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)作為一種先進(jìn)的材料表征手段,其在孿晶分析中的應(yīng)用日益廣泛。EBSD技術(shù)通過(guò)分析掃描電鏡中電子束與樣品表面相互作用產(chǎn)生的衍射...

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雙束技術(shù):FIB與SEM的協(xié)同工作雙束聚焦離子束顯微鏡的關(guān)鍵在于其雙束技術(shù),離子束(FIB)用于樣品的精確切割和蝕刻,而電子束(SEM)則捕捉樣品的高分...

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SEM是掃描電鏡,英文全稱為ScanningElectronMicroscope。以下是關(guān)于掃描電鏡的一些基本信息:1、工作原理:掃描電鏡是一種利用電子...

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材料的物理和化學(xué)等諸多性質(zhì)都會(huì)影響掃描電鏡下的成像效果,以下是具體介紹:1、物理性質(zhì)(1)導(dǎo)電性:-對(duì)于導(dǎo)電性良好的材料,如金屬,電子束轟擊材料表面產(chǎn)生...

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EBSD技術(shù)概述電子背散射衍射(EBSD)是一種尖端的材料分析技術(shù),它依托于高能電子與材料表面晶體結(jié)構(gòu)的交互作用,通過(guò)捕捉和解析由此產(chǎn)生的背散射電子的衍...

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高質(zhì)量固態(tài)納米孔的制備是DNA測(cè)序、納流器件以及納濾膜等應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)。當(dāng)前,在無(wú)機(jī)薄膜材料中制備固態(tài)納米孔的主流方法是聚焦離子/電子束刻蝕。

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獲得良好的衍射圖譜的前提是制備出優(yōu)質(zhì)的EBSD樣品

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電子背散射衍射技術(shù)(EBSD)在材料科學(xué)領(lǐng)域,電子背散射衍射技術(shù)(EBSD)自20世紀(jì)90年代末期以來(lái),已經(jīng)成為一種創(chuàng)新且不可或缺的分析工具。EBSD技...

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在當(dāng)今時(shí)代,納米科學(xué)因其在眾多行業(yè)中引發(fā)的變革性應(yīng)用,已然成為促進(jìn)人類文明向前發(fā)展的重要驅(qū)動(dòng)力。無(wú)論是在生物醫(yī)學(xué)、能源存儲(chǔ)還是航空宇宙領(lǐng)域,納米技術(shù)都展...

2025-01-02 標(biāo)簽:SEM電子束電子顯微鏡 461 0

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